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宽禁带半导体碳化硅单晶生长和物性研究进展 被引量:14
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作者 彭同华 刘春俊 +10 位作者 王波 王锡铭 郭钰 赵宁 李龙远 刘宇 黄青松 贾玉萍 王刚 郭丽伟 陈小龙 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第S1期234-241,共8页
本文介绍了最近几年在SiC单晶生长和晶片加工技术产业化进程中的系列进展。研究出SiC单晶生长的扩径技术,4英寸SiC晶体单晶直径达105 mm。晶体质量逐步提高,至2011年,大部分晶片微管密度小于1个/cm2,反映晶体结晶质量的X射线摇摆曲线半... 本文介绍了最近几年在SiC单晶生长和晶片加工技术产业化进程中的系列进展。研究出SiC单晶生长的扩径技术,4英寸SiC晶体单晶直径达105 mm。晶体质量逐步提高,至2011年,大部分晶片微管密度小于1个/cm2,反映晶体结晶质量的X射线摇摆曲线半高宽小于20″;生长的导电型SiC晶体电阻率小于0.02Ω.cm,半绝缘型SiC晶体电阻率大于108Ω.cm,电阻率分布均匀性良好。研究出即开即用SiC晶片批量加工技术,晶片表面粗糙度低于0.2 nm,翘曲度和总厚度变化满足工业化批量生产要求。与此同时,在基础物性研究方面也取得了系列研究成果。首次在实验上给出了直接证据证明SiC晶体中的双空位能够诱导出磁性,并从理论上予以证明。利用多种方法在SiC衬底上成功制备出大面积、高质量、性能优异的石墨烯。 展开更多
关键词 SIC晶体 单晶生长 晶片加工 磁性 石墨烯
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利用干燥空气改善熔融KOH对单晶碳化硅的腐蚀 被引量:1
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作者 孙帅 宋华平 +3 位作者 杨军伟 王文军 屈红霞 简基康 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第5期753-758,共6页
本文提出了一种改进的氢氧化钾(KOH)腐蚀方法,该方法利用鼓泡器将干燥空气直接通入熔融KOH中,以达到快速排出熔融KOH中水分和增强溶解氧的目的。本研究通过提升部分潮解的KOH对低掺杂n型外延片的腐蚀效果和纯KOH对高掺杂n型衬底的腐蚀效... 本文提出了一种改进的氢氧化钾(KOH)腐蚀方法,该方法利用鼓泡器将干燥空气直接通入熔融KOH中,以达到快速排出熔融KOH中水分和增强溶解氧的目的。本研究通过提升部分潮解的KOH对低掺杂n型外延片的腐蚀效果和纯KOH对高掺杂n型衬底的腐蚀效果,验证了该方法的有效性。实验结果表明:在腐蚀前的恒温时间段内,向腐蚀剂通入干燥空气,可加快腐蚀剂中水分的蒸发速度,减轻水分对腐蚀反应的抑制作用,使得部分潮解的KOH用于腐蚀外延片的效果优于未潮解的新鲜KOH;在腐蚀时向腐蚀剂通入干燥空气,可增加腐蚀剂中的溶解氧,促进腐蚀时发生的氧化还原反应,使得KOH腐蚀SiC衬底的效果近似于用KOH+Na_(2)O_(2)共熔体腐蚀得到的效果。本研究有效改良了传统KOH腐蚀方法,对于稳定KOH腐蚀条件,提高SiC位错腐蚀效果具有很好的实际应用价值。 展开更多
关键词 碳化硅 腐蚀 位错 缺陷表征 鼓泡器 腐蚀速率
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