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室温下大厚度氟化钇薄膜的制备
被引量：
1
1
作者
刘畅洋
晋云霞
+3 位作者
曹红超
孔钒宇
王勇禄
邵建达
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2021年第21期55-62,共8页
氟化钇薄膜由于具有优良的光学性能常被用于红外波段,通过优化磁控溅射工艺,成功地在锗基底上实现了厚度大于1μm的氟化钇薄膜的制备,并分析了溅射功率对于氟化钇薄膜光学性能的影响。采用X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、傅里叶红外...
氟化钇薄膜由于具有优良的光学性能常被用于红外波段,通过优化磁控溅射工艺,成功地在锗基底上实现了厚度大于1μm的氟化钇薄膜的制备,并分析了溅射功率对于氟化钇薄膜光学性能的影响。采用X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、傅里叶红外光谱仪和原子力显微镜对样品的物相结构、化学成分、光学常数和表面粗糙度进行了表征和系统分析。研究表明在200 W的溅射功率下能够制备出氧原子数分数低于6%,在2~8μm波长范围内折射率高于1.6的低吸收氟化钇薄膜。
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关键词
薄膜
氟化钇薄膜
磁控溅射
溅射功率
折射率
原文传递
题名
室温下大厚度氟化钇薄膜的制备
被引量：
1
1
作者
刘畅洋
晋云霞
曹红超
孔钒宇
王勇禄
邵建达
机构
中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室
中国科学院大学材料与光电研究中心
中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室
中国科学院超强激光科学卓越创新中心
出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2021年第21期55-62,共8页
基金
国家重点研发计划“变革性技术关键科学问题”重点专项(2020YFA0714500)
国家自然科学基金重点项目(61875212)。
文摘
氟化钇薄膜由于具有优良的光学性能常被用于红外波段,通过优化磁控溅射工艺,成功地在锗基底上实现了厚度大于1μm的氟化钇薄膜的制备,并分析了溅射功率对于氟化钇薄膜光学性能的影响。采用X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、傅里叶红外光谱仪和原子力显微镜对样品的物相结构、化学成分、光学常数和表面粗糙度进行了表征和系统分析。研究表明在200 W的溅射功率下能够制备出氧原子数分数低于6%,在2~8μm波长范围内折射率高于1.6的低吸收氟化钇薄膜。
关键词
薄膜
氟化钇薄膜
磁控溅射
溅射功率
折射率
Keywords
thin
films
yttrium
fluoride
films
magnetron
sputtering
sputtering
power
refractive
index
分类号
O484 [理学—固体物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
室温下大厚度氟化钇薄膜的制备
刘畅洋
晋云霞
曹红超
孔钒宇
王勇禄
邵建达
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2021
1
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