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芯片工业园区废水处理工程实例
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作者 刘建红 周隆炎 《工业用水与废水》 CAS 2024年第5期77-82,共6页
针对芯片工业废水成分复杂、氟离子浓度高且含有多种有害物质等水质特征,采用化学沉淀-水解酸化-AO/MBR-RO工艺进行处理,RO浓水通过臭氧催化氧化-AO(MBBR)/MBR组合工艺进行处理,同时辅助设计Fenton高级氧化及除氟树脂。出水稳定达到GB 3... 针对芯片工业废水成分复杂、氟离子浓度高且含有多种有害物质等水质特征,采用化学沉淀-水解酸化-AO/MBR-RO工艺进行处理,RO浓水通过臭氧催化氧化-AO(MBBR)/MBR组合工艺进行处理,同时辅助设计Fenton高级氧化及除氟树脂。出水稳定达到GB 3838—2002《地表水环境质量标准》中Ⅲ类排放标准(ρ(TN)≤15mg/L),满足废水回用要求。详细介绍了污水处理厂各工艺单元的设计参数及主要设备配置,并对工艺特点进行了总结分析。 展开更多
关键词 芯片工业废水 除氟 化学沉淀 AO/MBR MBBR 双膜工艺 地下式污水厂
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