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0.35μm分步重复投影光刻机气浮工件台研究
被引量：
3
1
作者
王继红
唐小平
《微细加工技术》
1998年第3期20-25,共6页
本文阐述了气浮工件台的组成、工作原理及控制方法 。
关键词
重复投影光刻机
气浮工件台
半导体器件
光刻机
下载PDF
职称材料
光刻机精密运动平台的几何及运动误差建模
被引量：
2
2
作者
赵强
阎绍潭
《清华大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期241-245,共5页
为了提高光刻机硅片台和掩模台的运动精度,建立光刻机精密运动平台的几何及运动误差模型。引入低序体阵列描述光刻机的拓扑结构,采用齐次坐标变换表达多体系统中典型体的几何和运动误差,应用多体系统运动学建立了系统的结构和运动关系...
为了提高光刻机硅片台和掩模台的运动精度,建立光刻机精密运动平台的几何及运动误差模型。引入低序体阵列描述光刻机的拓扑结构,采用齐次坐标变换表达多体系统中典型体的几何和运动误差,应用多体系统运动学建立了系统的结构和运动关系以及相应的定位误差方程。进一步分析了光刻机的运动误差链,推导了光刻机运动通用误差模型。以某光刻机精密工作台为例进行误差建模与分析,该方法和结果可为光刻机精度设计提供参考。
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关键词
光刻机
误差模型
多体运动学
低序体阵列
齐次坐标变换
原文传递
投影光刻机工件台的压力-真空平衡气足研究
被引量：
1
3
作者
余国彬
姚汉民
胡松
《微细加工技术》
2001年第4期33-35,共3页
主要介绍投影光刻机工件台的压力 -真空平衡气足设计 ,对压力 -真空平衡气足的径向压力分布、最大刚度、最佳气膜间隙以及承载能力进行了分析 。
关键词
投影光刻机
压力-真空平衡气足
优化设计
工件台
微电子
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职称材料
分步重复投影光刻机套刻误差模型的研究
被引量：
1
4
作者
陈世杰
《微细加工技术》
1995年第3期8-13,共6页
本文讨论了套刻误差的组成及误差模型的建立，并介绍了套刻误差的表示方法。套刻误差教学模型对于光刻机整机套刻精度的估计、对于光刻机的多机（单机）套刻匹配等工作将会是一个非常重要的工具。
关键词
光刻机
套刻
套刻误差
误差模型
曝光
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职称材料
改进型分布重复投影光刻机
5
作者
薛波
郭隐彪
黄沿江
《制造技术与机床》
CSCD
北大核心
2007年第5期57-59,共3页
分布重复投影光刻机(DSW)的精度和工作效率直接影响到大规模集成电路生产工艺的特殊要求。为了提高DSW的精度和效率,研究和运用了先进运动控制技术,使光刻工作台定位精度小于±0·5μm;同时应用视频网络技术,实现了远程交互式...
分布重复投影光刻机(DSW)的精度和工作效率直接影响到大规模集成电路生产工艺的特殊要求。为了提高DSW的精度和效率,研究和运用了先进运动控制技术,使光刻工作台定位精度小于±0·5μm;同时应用视频网络技术,实现了远程交互式工作方式。根据要求,完成了DSW的各系统模块的设计,并且开发了基于PC的应用软件。实验结果表明,该改进型DSW体现了较高的应用价值。
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关键词
分布重复光刻机
运动控制
视频网络
工作效率
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职称材料
0.8～1微米分步重复投影光刻机掩模库研制
6
作者
陈伟明
田桐
王继红
《微细加工技术》
EI
1997年第1期21-25,共5页
掩模库系统可提高光刻机的稳定性和实用性，该系统包括精密的气动部分、机械构件和8098单片机为核心的电子／电气自动控制系统。
关键词
单片机
分步重复投影
光刻机
掩模库
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职称材料
题名
0.35μm分步重复投影光刻机气浮工件台研究
被引量：
3
1
作者
王继红
唐小平
机构
中国科学院光电技术研究所
出处
《微细加工技术》
1998年第3期20-25,共6页
文摘
本文阐述了气浮工件台的组成、工作原理及控制方法 。
关键词
重复投影光刻机
气浮工件台
半导体器件
光刻机
Keywords
wafer
stepper
air
bearing
stage
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
光刻机精密运动平台的几何及运动误差建模
被引量：
2
2
作者
赵强
阎绍潭
机构
清华大学精密仪器与机械学系
东北林业大学交通学院
出处
《清华大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期241-245,共5页
基金
国家自然科学基金项目(50390062)
黑龙江省自然科学基金项目(E200605)
文摘
为了提高光刻机硅片台和掩模台的运动精度,建立光刻机精密运动平台的几何及运动误差模型。引入低序体阵列描述光刻机的拓扑结构,采用齐次坐标变换表达多体系统中典型体的几何和运动误差,应用多体系统运动学建立了系统的结构和运动关系以及相应的定位误差方程。进一步分析了光刻机的运动误差链,推导了光刻机运动通用误差模型。以某光刻机精密工作台为例进行误差建模与分析,该方法和结果可为光刻机精度设计提供参考。
关键词
光刻机
误差模型
多体运动学
低序体阵列
齐次坐标变换
Keywords
wafer
stepper
error
model
multi-body
kinematics
lower
numbered
body
array
homogeneous
coordinate
transformation
分类号
TH161.2 [机械工程—机械制造及自动化]
原文传递
题名
投影光刻机工件台的压力-真空平衡气足研究
被引量：
1
3
作者
余国彬
姚汉民
胡松
机构
中国科学院光电技术研究所
出处
《微细加工技术》
2001年第4期33-35,共3页
文摘
主要介绍投影光刻机工件台的压力 -真空平衡气足设计 ,对压力 -真空平衡气足的径向压力分布、最大刚度、最佳气膜间隙以及承载能力进行了分析 。
关键词
投影光刻机
压力-真空平衡气足
优化设计
工件台
微电子
Keywords
wafer
stepper
pressure-vacuum
balance
air-foot
optimum
design
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
分步重复投影光刻机套刻误差模型的研究
被引量：
1
4
作者
陈世杰
机构
中国科学院光电技术研究所
出处
《微细加工技术》
1995年第3期8-13,共6页
文摘
本文讨论了套刻误差的组成及误差模型的建立，并介绍了套刻误差的表示方法。套刻误差教学模型对于光刻机整机套刻精度的估计、对于光刻机的多机（单机）套刻匹配等工作将会是一个非常重要的工具。
关键词
光刻机
套刻
套刻误差
误差模型
曝光
Keywords
wafer
stepper
overlay
overlay
error
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
改进型分布重复投影光刻机
5
作者
薛波
郭隐彪
黄沿江
机构
厦门大学机电工程系
出处
《制造技术与机床》
CSCD
北大核心
2007年第5期57-59,共3页
文摘
分布重复投影光刻机(DSW)的精度和工作效率直接影响到大规模集成电路生产工艺的特殊要求。为了提高DSW的精度和效率,研究和运用了先进运动控制技术,使光刻工作台定位精度小于±0·5μm;同时应用视频网络技术,实现了远程交互式工作方式。根据要求,完成了DSW的各系统模块的设计,并且开发了基于PC的应用软件。实验结果表明,该改进型DSW体现了较高的应用价值。
关键词
分布重复光刻机
运动控制
视频网络
工作效率
Keywords
wafer
stepper
Motion
Control
Video
-
net
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
0.8～1微米分步重复投影光刻机掩模库研制
6
作者
陈伟明
田桐
王继红
机构
中科院光电技术研究所
出处
《微细加工技术》
EI
1997年第1期21-25,共5页
文摘
掩模库系统可提高光刻机的稳定性和实用性，该系统包括精密的气动部分、机械构件和8098单片机为核心的电子／电气自动控制系统。
关键词
单片机
分步重复投影
光刻机
掩模库
Keywords
wafer
stepper
reticle
management
8098
chip
microprocessor
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
0.35μm分步重复投影光刻机气浮工件台研究
王继红
唐小平
《微细加工技术》
1998
3
下载PDF
职称材料
2
光刻机精密运动平台的几何及运动误差建模
赵强
阎绍潭
《清华大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
2
原文传递
3
投影光刻机工件台的压力-真空平衡气足研究
余国彬
姚汉民
胡松
《微细加工技术》
2001
1
下载PDF
职称材料
4
分步重复投影光刻机套刻误差模型的研究
陈世杰
《微细加工技术》
1995
1
下载PDF
职称材料
5
改进型分布重复投影光刻机
薛波
郭隐彪
黄沿江
《制造技术与机床》
CSCD
北大核心
2007
0
下载PDF
职称材料
6
0.8～1微米分步重复投影光刻机掩模库研制
陈伟明
田桐
王继红
《微细加工技术》
EI
1997
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
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