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氧气分压对磁控溅射法制备ZAO膜的影响 被引量:4
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作者 余俊 赵青南 赵修建 《武汉理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期14-15,43,共3页
利用直流磁控溅射技术在无机玻璃衬底上制备了ZAO透明导电薄膜。研究了溅射过程中氧气分压对ZAO薄膜的结构和光电特性的影响,结果表明当氧气分压为0Pa时,薄膜结晶度良好,具有最小电阻率和较高的可见光透过率。
关键词 磁控溅射 ZAO薄膜 氧气分压
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紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征 被引量:3
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作者 赵青南 倪佳苗 +3 位作者 张乃芝 赵修建 姜宏 王桂荣 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期142-145,共4页
制备了摩尔比为1:1的TiO2和CeO2陶瓷靶材。采用射频磁控溅射法在O2和Ar比例为5:95的混合气体中制备了玻璃基TiO2-CeO2薄膜。溅射过程中,工作气压保持在1.8Pa不变,玻璃基片温度从室温(RT)~220℃之间变化。用x射线衍射(XRD)、X... 制备了摩尔比为1:1的TiO2和CeO2陶瓷靶材。采用射频磁控溅射法在O2和Ar比例为5:95的混合气体中制备了玻璃基TiO2-CeO2薄膜。溅射过程中,工作气压保持在1.8Pa不变,玻璃基片温度从室温(RT)~220℃之间变化。用x射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和紫外-可见光谱仪研究了薄膜的物相结构、表面组成、表面形貌和镀膜试样的紫外-可见光透过率。结果表明,薄膜表面结构平滑、致密,呈微小晶粒结构,薄膜中Ti和Ce仅以Ti^4+和Ce^4+的形式存在;随着基片温度升高,薄膜中的细小晶粒略有长大;TiO2-CeO2镀膜玻璃可以有效地截止紫外线。 展开更多
关键词 射频溅射 玻璃基TiOx-CeO2薄膜 紫外光截止镀膜玻璃 基片温度
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Effects of Substrate Temperatures on the Structure and UV-shielding Properties of TiO_2-CeO_2 Films Deposited on Glass by Radio-frequency Magnetron Sputtering
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作者 赵青南 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2005年第4期7-9,共3页
TiO2-CeO2 films were deposited on soda-lime glass substrates at varied substrate temperatures by rf magnetron sputtering using 40% molar TiO2-60% molar CeO2 ceramic target in Ar:O2=95:5 atmosphere.The structure,surf... TiO2-CeO2 films were deposited on soda-lime glass substrates at varied substrate temperatures by rf magnetron sputtering using 40% molar TiO2-60% molar CeO2 ceramic target in Ar:O2=95:5 atmosphere.The structure,surface composition,UV-visible spectra of the films were measured by scanning electron microscopy and X-ray diffraction,and X-ray photoelectron spectroscopy,respectively.The experimental results show that the films are amorphous,there are only Ti^4+ and Ce^4+ on the surface of the films,the obtained TiO2-CeO2 films shou a good uniformity and high densification,and the films deposited on the glass can shield ultraviolet light without significant absorpition of visible light,the films deposited on substrates at room temperature and 220℃ absorb UV effectively. 展开更多
关键词 rf sputtering TiO2-CeO2 films ultraviolet-shielding coating glass substrate temperatures
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