-
题名图案化聚苯乙烯一维纳米结构阵列的研究
被引量：1
- 1
-
-
作者
佘希林
宋国君
王树龙
孙峋
李建江
刘曦
-
机构
青岛大学高分子材料研究所
-
出处
《石油化工》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第7期685-688,共4页
-
基金
山东省自然科学基金项目(Z2005F03)
-
文摘
采用紫外光刻技术对阳极氧化铝(AAO)模板进行图案化,再采用 AAO 模板物理浸润技术,以聚苯乙烯(PS)溶液浸润图案化的 AAO 模板,制得图案化的 PS 一维纳米结构阵列;采用扫描电子显微镜对图案化的 AAO 模板和 PS 一维纳米结构阵列进行表征。表征结果显示,通过紫外光刻技术,可以制得有清晰图案的 AAO 模板,模板上有直径为5μm的圆形图案,圆形图案间的距离也为5μm;以质量分数10.0%的 PS 溶液浸润图案化的 AAO 模板,当光刻胶用量为0.2 mL 时能得到图案化的 PS 一维纳米结构阵列;当光刻胶用量为0.3 mL 时,只能制得光刻胶的纳米结构阵列,不能制得图案化的 PS 一维纳米结构阵列。
-
关键词
紫外光刻
图案化
聚苯乙烯
一维纳米结构
阵列
-
Keywords
ultraviolet radiation photolithography
patterning
polystyrene
one-dimensional nanostructure
array
-
分类号
TQ325.2
[化学工程—合成树脂塑料工业]
-
