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测量条件对掺锡氧化铟薄膜电学测量结果的影响 被引量:6
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作者 李雪蓉 赖发春 +1 位作者 林丽梅 瞿燕 《物理实验》 2007年第4期44-47,共4页
用van der Pauw方法测量磁控溅射制备的掺锡氧化铟(ITO)薄膜的电学性能,研究了在室温和冰水混合条件下测量电流大小对电阻率测量结果的影响;在室温条件下测量电流和磁场的大小对载流子浓度和迁移率测量结果的影响.实验结果显示,测量电流... 用van der Pauw方法测量磁控溅射制备的掺锡氧化铟(ITO)薄膜的电学性能,研究了在室温和冰水混合条件下测量电流大小对电阻率测量结果的影响;在室温条件下测量电流和磁场的大小对载流子浓度和迁移率测量结果的影响.实验结果显示,测量电流为5 mA和测量磁场为0.5 T时,测量结果最佳. 展开更多
关键词 掺锡氧化铟薄膜 电学性质 电流测量 磁场测量
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