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Au/Sn界面互扩散特征 被引量:26
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作者 陈松 刘泽光 +3 位作者 陈登权 罗锡明 许昆 邓德国 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期413-417,共5页
从扩散机制、扩散动力学、热力学以及相结构等方面,总结了室温范围内Au/Sn互扩散的主要特点。给出了Au/Sn互扩散中生成的AuSn,AuSn2,AuSn4等金属间化合物的主要性质。详细总结了不同Sn含量的Au/Sn扩散中,初始态、中间态和最终态的金属... 从扩散机制、扩散动力学、热力学以及相结构等方面,总结了室温范围内Au/Sn互扩散的主要特点。给出了Au/Sn互扩散中生成的AuSn,AuSn2,AuSn4等金属间化合物的主要性质。详细总结了不同Sn含量的Au/Sn扩散中,初始态、中间态和最终态的金属间化合物的形成次序、形貌、分布、演化等特征。采用热力学方法定量计算了不足量的Au或Sn的条件下Au/Sn扩散中各中间相的生成吉布斯自由能,较好地解释了中间相的演化规律。给出了Au/Sn扩散的扩散数据,以及主要中间相的生长特点,介绍了Kirkendall效应导致的相关效应。 展开更多
关键词 扩散 热力学 金属间化合物
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等离子体辉光溅射反应复合渗镀合成TiN的研究 被引量:5
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作者 刘燕萍 徐晋勇 +3 位作者 隗晓云 王建忠 高原 徐重 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期271-274,共4页
本文介绍了一种新的制备TiN的工艺方法。利用辉光放电溅射现象、尖端放电和空心阴极效应,在钢铁材料表面直接复合形成TiN渗镀扩散层。用X射线衍射、辉光放电剥层成分分析仪、显微硬度仪等方法,对复合层进行分析。结果表明:本研究方法复... 本文介绍了一种新的制备TiN的工艺方法。利用辉光放电溅射现象、尖端放电和空心阴极效应,在钢铁材料表面直接复合形成TiN渗镀扩散层。用X射线衍射、辉光放电剥层成分分析仪、显微硬度仪等方法,对复合层进行分析。结果表明:本研究方法复合形成的TiN渗镀层,TiN呈溶质固溶于基体表面层中,呈梯度沿基体向内分布。该表面复合层与一般表面沉积的TiN层不同,是冶金结合扩散层,不会产生剥落现象。在1020℃复合形成渗镀层时,层深可达15μm左右,并得到择优取向为(200)晶面的TiN相,渗镀TiN层的表面硬度随渗镀温度的提高而增加,渗镀TiN层随渗镀温度的升高而增厚。 展开更多
关键词 辉光放电 尖端放电 空心阴极效应 氮化钛 扩散层 沉积
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Ni+Cu为中间层的TC4与ZQSn10—10的扩散连接试验分析 被引量:7
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作者 元哲石 徐立新 +2 位作者 吴执中 宋敏霞 赵涣凌 《焊接学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期92-95,共4页
对钛合金TC4与铜合金ZQSn10-10异种金属扩散连接进行了试验研究。采用Ni+Cu中间层时,其最佳工艺参数为连接温度850℃,连接时间20min,连接比压力10MPa,抗拉强度达到155.8MPa。在TC4/Ni界面上,形成了成分逐渐变化的互扩散层。经微区成分... 对钛合金TC4与铜合金ZQSn10-10异种金属扩散连接进行了试验研究。采用Ni+Cu中间层时,其最佳工艺参数为连接温度850℃,连接时间20min,连接比压力10MPa,抗拉强度达到155.8MPa。在TC4/Ni界面上,形成了成分逐渐变化的互扩散层。经微区成分分析可知,连接温度为800℃时,界面主要为Ni3Ti;850℃时,界面主要为Ni3Ti及NiTi;880℃时,界面主要为NiTi2,Ni3Ti及NiTi。通过EDS和XRD分析,接头强度主要取决于镍钛金属间化合物的种类及厚度。 展开更多
关键词 钛合金 锡青铜 扩散连接 Ni+Cu中间层 金属间化合物
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Ti-6Al-4V/Ni/ZQSn10-10的扩散连接 被引量:6
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作者 宋敏霞 赵熹华 +1 位作者 郭伟 冯吉才 《吉林大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期42-45,共4页
对钛合金Ti-6A l-4V与锡青铜ZQSn10-10异种金属扩散连接进行了试验研究。利用场发射电镜、能谱仪等对接合区的界面和组织形貌进行了分析比较。结果表明:Ti-6A l-4V/ZQSn10-10直接扩散连接时,由于母材组元的相互扩散和迁移,在交界面附近... 对钛合金Ti-6A l-4V与锡青铜ZQSn10-10异种金属扩散连接进行了试验研究。利用场发射电镜、能谱仪等对接合区的界面和组织形貌进行了分析比较。结果表明:Ti-6A l-4V/ZQSn10-10直接扩散连接时,由于母材组元的相互扩散和迁移,在交界面附近形成了金属间化合物层,接头强度仅为母材基体强度的30%左右。采用N i做中间层时,避免了母材组元Ti与Cu之间的相互扩散,只存在一定程度的N i分别与两侧的Cu、Ti之间的相互扩散,接头扩散区的组织形貌有了明显的改善。在最佳连接规范(连接温度T=830℃,连接压力p=15 MPa,连接时间t=30 m in)下,可使钛合金与锡青铜牢固地连接,接头强度达到母材基体强度的65%(达155 MPa),且连接试样无明显变形。 展开更多
关键词 金属材料 钛合金 锡青铜 扩散连接 Ni中间层 金属间化合物
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碳钢表面氮化钛陶瓷化的耐腐蚀性能研究 被引量:2
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作者 高原 徐重 《新技术新工艺》 2006年第11期25-27,共3页
介绍了一种在Q235钢表面,利用等离子反应溅射直接复合渗镀合成氮化钛的工艺方法。该渗镀层是由钢铁材料基体上均匀分布细小氮化钛颗粒的渗层和表面氮化钛沉积层组成。沉积层与渗层之间有一平缓过渡区,渗层与基体是冶金结合,不会产生剥... 介绍了一种在Q235钢表面,利用等离子反应溅射直接复合渗镀合成氮化钛的工艺方法。该渗镀层是由钢铁材料基体上均匀分布细小氮化钛颗粒的渗层和表面氮化钛沉积层组成。沉积层与渗层之间有一平缓过渡区,渗层与基体是冶金结合,不会产生剥落。渗镀层表面硬度平均达到HV2300。X射线衍射结果表明,表面为纯氮化钛层,(200)晶面的衍射峰最强,具有明显的择优取向。用划痕仪进行结合强度检测,声发射曲线未见突起的信号峰值,表明结合强度好。复合渗镀氮化钛试样在10%硫酸、5%盐酸、3·5%氯化钠水溶液和硫化氢富液中进行腐蚀试验,耐腐蚀性能分别比改性前提高了789,26,3·3,67倍。 展开更多
关键词 氮化钛 腐蚀性 渗镀层 等离子体 固溶体 扩散层
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镍、镍+铜中间层对TC4/ZQSn10-10扩散连接的影响 被引量:5
6
作者 赵涣凌 赵贺 +2 位作者 宋敏霞 赵熹华 冯吉才 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2008年第7期38-40,45,共4页
利用JSM6700F冷场发射扫描电镜及其自带的能谱仪等分别对采用镍、镍+铜两种中间层的TC4/ZQSn10-10异种材料扩散连接接头进行了微观分析。结果表明:镍中间层能有效地阻止元素钛与铜之间的扩散,避免产生金属间化合物(Cu3Ti、CuTi等);但在T... 利用JSM6700F冷场发射扫描电镜及其自带的能谱仪等分别对采用镍、镍+铜两种中间层的TC4/ZQSn10-10异种材料扩散连接接头进行了微观分析。结果表明:镍中间层能有效地阻止元素钛与铜之间的扩散,避免产生金属间化合物(Cu3Ti、CuTi等);但在TC4/Ni界面上仍有金属间化合物NiTi、Ni3Ti生成,使接头的抗拉强度有所降低;在适当压力和保温时间、镍为中间层时,较佳连接温度为830℃;镍+铜为中间层时,较佳连接温度为850℃;两者所得接头强度(155.8MPa)相当,均为ZQSn10-10母材强度的65%。 展开更多
关键词 钛合金 锡青铜 扩散连接 中间过渡金属
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广西长营岭钨锡矿床原生晕分带形成的动力学机制 被引量:5
7
作者 宋慈安 《桂林冶金地质学院学报》 1991年第4期404-415,共12页
长营岭钨锡矿床热液成矿-成晕作用可用包含化学动力学和流体动力学在内的综合模型进行描述,矿床和原生晕的形成是其中某种动力学因素起主导作用并与其他因素相耦合的结果。元素的扩散作用和扩散系数大小不同是形成原生晕横向分带的主要... 长营岭钨锡矿床热液成矿-成晕作用可用包含化学动力学和流体动力学在内的综合模型进行描述,矿床和原生晕的形成是其中某种动力学因素起主导作用并与其他因素相耦合的结果。元素的扩散作用和扩散系数大小不同是形成原生晕横向分带的主要原因。原生晕轴向分带具有Sn,W,F等元素在上,亲硫元素在下的“逆向”特征,其形成主要同热液的渗滤速率及两类元素大量进入热液的时间先后有关。 展开更多
关键词 钨矿 锡矿 矿床 原生晕 动力学
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双辉渗镀TiN陶瓷层摩擦磨损性能的研究 被引量:3
8
作者 刘燕萍 徐晋勇 +1 位作者 高原 徐重 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第16期1748-1751,共4页
采用一种新的制备TiN双层辉光渗金属技术,在钢铁材料表面直接复合而形成超硬耐磨TiN渗镀扩散陶瓷层。用Tapping AFM型原子力显微镜和LEC图像分析仪分析表面形貌;用GDS750型辉光放电光谱分析仪测定渗镀复合层试样成分;用Rigaku/max2500型... 采用一种新的制备TiN双层辉光渗金属技术,在钢铁材料表面直接复合而形成超硬耐磨TiN渗镀扩散陶瓷层。用Tapping AFM型原子力显微镜和LEC图像分析仪分析表面形貌;用GDS750型辉光放电光谱分析仪测定渗镀复合层试样成分;用Rigaku/max2500型X射线衍射仪(XRD)测定复合渗镀层的相结构;用WTM-1E可控气氛微型摩擦磨损试验仪对复合渗镀层的摩擦磨损性能进行研究。结果表明:这种制备TiN新工艺方法合成的渗镀TiN陶瓷层,其表面均匀致密,Ti和N原子由表层向内呈梯度分布,与一般表面沉积的TiN层不同,属于冶金扩散层结合;渗镀层厚度可达8μm以上,TiN层择优取向为(200)晶面;渗镀层硬度较高,达到HV0.12200,在干滑动摩擦磨损试验条件下具有较低的摩擦因数和优异的耐磨性能。 展开更多
关键词 辉光放电 tin 渗镀扩散 摩擦磨损性能
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42CrMo钢与锡青铜在不同压力条件下的扩散连接性能研究
9
作者 周泽宇 叶俊洋 +2 位作者 李先芬 何莹莹 钱以昕 《焊管》 2024年第12期33-37,共5页
为了研究高强度结构钢和锡青铜的扩散连接机理,在不同真空压力下,采用真空扩散连接技术实现了锡青铜和42CrMo钢的连接,同时采用扫描电子显微镜、能谱仪以及万能试验机等对接头的组织和力学性能进行分析。结果表明,在扩散连接温度为850... 为了研究高强度结构钢和锡青铜的扩散连接机理,在不同真空压力下,采用真空扩散连接技术实现了锡青铜和42CrMo钢的连接,同时采用扫描电子显微镜、能谱仪以及万能试验机等对接头的组织和力学性能进行分析。结果表明,在扩散连接温度为850℃、保温时间为30 min时,随着真空压力的增加,接头区域缺陷逐渐减少,接头的剪切强度随着真空压力的增加呈先增后减的态势;真空压力为4 MPa时,强度最高,可达122 MPa,在高倍背散射形貌观察下,接头区域结合良好,未形成金属间化合物,形成约1μm的扩散层,断口呈现出混合断裂特征。 展开更多
关键词 42CRMO钢 锡青铜 扩散连接 真空压力 扩散接头
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Rational design and synthesis of hierarchically structured SnO2 microspheres assembled from hollow porous nanoplates as superior anode materials for lithium-ion batteries 被引量:3
10
作者 Gi Dae Park Yun Chan Kang 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第3期1301-1312,共12页
Herein, hierarchically structured SnO2 microspheres are designed and synthesized as an efficient anode material for lithium-ion batteries using hollow SnO2 nanoplates. Three-dimensionally ordered macroporous (3-DOM)... Herein, hierarchically structured SnO2 microspheres are designed and synthesized as an efficient anode material for lithium-ion batteries using hollow SnO2 nanoplates. Three-dimensionally ordered macroporous (3-DOM) SnOx-C microspheres synthesized by spray pyrolysis are transformed into hierarchically structured SnO2 microspheres by a two-step post-treatment process. Sulfidation produces hierarchically structured SnS-SnS2-C microspheres comprising tin sulfide nanoplate and carbon building blocks. A subsequent oxidation process produces SnO2 microspheres from hollow SnO2 nanoplate building blocks, which are formed by Kirkendall diffusion. The discharge capacity of the hierarchically structured SnO2 microspheres at a current density of 5 Ag^-1 for the 600th cycle is 404 mA·h·g^-1. The hierarchically structured SnO2 microspheres have reversible discharge capacities of 609 and 158 mA·h·g^-1 at current densities of 0.5 and 30 Ag^-1, respectively. The ultrafine nanosheets contain empty voids that allow excellent lithium-ion storage performance, even at high current densities. 展开更多
关键词 Kirkendall diffusion NANOPLATE tin oxide lithium-ion batter spray pyrolysis
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Q235钢表面TiN陶瓷化与Cr-Mo共渗表面强化耐腐蚀性能研究 被引量:4
11
作者 高原 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期66-70,75,共6页
介绍了一种在Q235钢表面用等离子直接复合渗镀合成氮化钛的方法。该工艺方法形成的组织是Ti固溶体扩散层上分布弥散细小氮化钛颗粒和表面氮化钛沉积层,沉积层与渗层和基体为冶金结合,不会产生剥落。渗镀层表面硬度1600~3400HV。X射线... 介绍了一种在Q235钢表面用等离子直接复合渗镀合成氮化钛的方法。该工艺方法形成的组织是Ti固溶体扩散层上分布弥散细小氮化钛颗粒和表面氮化钛沉积层,沉积层与渗层和基体为冶金结合,不会产生剥落。渗镀层表面硬度1600~3400HV。X射线衍射结果表明,渗镀层表面为纯氮化钛层,(200)晶面的衍射峰最强,具有明显的择优取向。在Q235钢表面进行双层辉光离子铬钼共渗,表面Mo含量达到4%(质量分数,下同),Cr含量达到12%。然后进行超饱和渗碳,表面含碳量达到2.0%以上,超过平衡碳计算值。随后进行淬火+低温回火热处理,使表面合金层获得马氏体基体上均匀分布的细小弥散碳化物组织,没有共晶莱氏体。经X射线衍射分析,渗层碳化物类型为M23C6,M6C和M2C,尺寸小于5μm。表面硬度达到1100HV。将等离子复合渗镀合成氮化钛试样与双层辉光离子渗铬试样,在10%硫酸、5%的盐酸、3.5%NaCl水溶液和H2S富液(含H2S 5~8g/L,NH3·H2O20g/L)中,进行电化学腐蚀实验。结果表明,渗镀试样比铬钼共渗试样耐蚀性能分别提高了84,11.67,1.15,21.15倍。 展开更多
关键词 氮化钛 腐蚀性 渗铬 渗镀层 等离子 固溶体 扩散层
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TC4/Cu/ZQSn10-2-3扩散连接接头微观分析 被引量:4
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作者 赵贺 曹健 冯吉才 《焊接学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期37-40,共4页
TC4/ZQSn10-2-3直接扩散连接时,结合区由于生成CuSn3Ti5,Cu3Ti等金属间化合物及集聚的Pb质点,接头强度不高(τmax=102MPa),断口为脆性断口,并发生在靠近ZQSn10-2-3侧;填加金属中间层铜时,TC4/Cu/ZQSn10-2-3扩散连接接头强度获得显著提高... TC4/ZQSn10-2-3直接扩散连接时,结合区由于生成CuSn3Ti5,Cu3Ti等金属间化合物及集聚的Pb质点,接头强度不高(τmax=102MPa),断口为脆性断口,并发生在靠近ZQSn10-2-3侧;填加金属中间层铜时,TC4/Cu/ZQSn10-2-3扩散连接接头强度获得显著提高(τmax=196MPa),这主要是铜中间层有效地抑制了Sn,Pb等元素向TC4侧的扩散,减少CuSn3Ti5,Cu3Ti等金属间化合物相生成,断口具有一定塑性;TC4/Cu/ZQSn10-2-3最佳扩散连接参数为:连接温度830℃,连接压力10MPa,连接时间30min. 展开更多
关键词 钛合金 锡青铜 扩散连接 铜中间层
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基于LIBS技术对铌基中锡扩散进行深度剖析
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作者 陈楠 李暾 +3 位作者 何亚雄 汪金凤 张红 蔡芳共 《广州化工》 CAS 2024年第5期50-53,66,共5页
锡含量的扩散浓度变化对于超导材料的制备非常重要。本文基于LIBS技术研究了不同烧结温度下锡元素在铌片中扩散反应后样品内不同深度的锡元素的浓度分布情况。结果表明,700℃以下烧结的样品中,锡元素在铌片中的扩散深度高于800℃以上的... 锡含量的扩散浓度变化对于超导材料的制备非常重要。本文基于LIBS技术研究了不同烧结温度下锡元素在铌片中扩散反应后样品内不同深度的锡元素的浓度分布情况。结果表明,700℃以下烧结的样品中,锡元素在铌片中的扩散深度高于800℃以上的锡扩散深度。锡元素扩散的同时形成Nb3Sn相,且晶粒迅速长大并形成了致密层,阻止了锡元素的进一步扩散。因此若想提高样品中的锡元素扩散深度以及在样品中的扩散浓度,需要在低温下长时间内进行,尽量避免晶粒的长大。 展开更多
关键词 激光诱导击穿光谱 锡扩散 深度分析 晶粒尺寸
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Study of diffusion bonding of Ti-6Al-4V and ZQSn10-10 with metal interlayer 被引量:2
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作者 赵涣凌 赵贺 +2 位作者 冯吉才 宋敏霞 赵熹华 《China Welding》 EI CAS 2008年第1期36-39,共4页
The diffusion bonding was carried out to join Ti alloy (Ti-6Al-4V) and tin-bronze ( ZQSn10-10 ) with Ni and Ni + Cu interlayer. The microstructures of the diffusion bonded joints were analyzed by scanning electr... The diffusion bonding was carried out to join Ti alloy (Ti-6Al-4V) and tin-bronze ( ZQSn10-10 ) with Ni and Ni + Cu interlayer. The microstructures of the diffusion bonded joints were analyzed by scanning electron microscope (SEM), energy dispersive spectroscopy ( EDS ) and X-ray diffraction ( XRD ). The results show that when the interlayer is Ni or Ni + Cu transition metals both could effectively prevent the diffusion between Ti and Cu and avoid the formation of the Cu-Ti intermetallic compounds (Cu3Ti, CuTi etc. ). But the Ni-Ti intermetallic compounds (NiTi, Ni3Ti) are formed on the Ti-6Al-4V/Ni interface. When the interlayer is Ni, the optimum bonding parameters are 830 ℃/10 MPa/30 min. And when the interlayer is Ni + Cu, the optimum bonding parameters are 850 ℃/10 MPa/20 min. With the optimum bonding parameters, the tensile strength of the joints with Ni and Ni + Cu interlayer both are 155.8 MPa, which is 65 percent of the strength of ZQSn10-10 base metal. 展开更多
关键词 diffusion bonding Ti-6Al-4 V tin-bronze metal interlayer intermetallic compound
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Distribution of TiN inclusions in Ti-stabilized ultra-pure ferrite stainless steel slab 被引量:3
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作者 Hao-jian Duan Ying Zhang +1 位作者 Ying Ren Li-feng Zhang 《Journal of Iron and Steel Research International》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第9期962-972,共11页
In order to clarify and control the silver defect on surface of cold-rolled sheet of the Ti-stabilized ultra-pure ferrite stainless steel, the distribution of TiN inclusions on the cross section of hot-rolled plate wa... In order to clarify and control the silver defect on surface of cold-rolled sheet of the Ti-stabilized ultra-pure ferrite stainless steel, the distribution of TiN inclusions on the cross section of hot-rolled plate was studied using automated scanning electron microscopy/energy-dispersive X-ray spectroscopy inclusion analysis (ASPEX 1020 system). It was found that the number density decreases sharply from the surface to the center of the hot-rolled plate, whereas the average size increases. Then, the distribution of TiN inclusions on the cross section of continuously cast slab was investigated. Similarly, numerous small-sized TiN inclusions were generated at the subsurface of the slab. The average size rapidly increased and the number density dramatically decreased from the subsurface to 1/4 thickness, while from 1/4 thickness to 1/2 thickness, the increase in average size and the decrease in number density were slight. Thermodynamics results showed that TiN inclusion was formed below the liquidus temperature, which indicated that TiN inclusions could not be formed during secondary refining. Considering the microsegregation of solute elements and the equilibrium of TiN formation during solidification, TiN precipitated in the mushy zone when the solid fraction was close to 0.2. The growth of TiN was analyzed based on the diffusion-controlled growth model. With the increase in cooling rate, the time for TiN growth decreased and the size of TiN inclusions was diminished, which revealed the size distribution of TiN inclusions in the cast slab qualitatively. 展开更多
关键词 tin inclusion Ti-stabilized ULTRA-PURE FERRITE stainless steel DISTRIBUTION in slab Thermodynamics diffusion-controlled growth model
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锡电极嵌锂过程的交流阻抗谱 被引量:2
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作者 王剑华 王宇 +1 位作者 周小静 郭玉忠 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期1332-1339,共8页
采用交流阻抗谱研究锡电极的首次嵌锂和第二次嵌锂过程,对比锡纳米阵列电极、锡薄膜电极和锡箔3种不同材料微观结构对电极交流阻抗谱特征的影响。用等效电路模型分析交流阻抗谱,得到嵌锂过程电化学特征参数与电位关系。结果表明:锡纳... 采用交流阻抗谱研究锡电极的首次嵌锂和第二次嵌锂过程,对比锡纳米阵列电极、锡薄膜电极和锡箔3种不同材料微观结构对电极交流阻抗谱特征的影响。用等效电路模型分析交流阻抗谱,得到嵌锂过程电化学特征参数与电位关系。结果表明:锡纳米阵列电极与锡薄膜、锡箔电极具有不同交流阻抗谱特征,锡纳米阵列电极在中频区出现双电层阻抗;首次嵌锂时在1.6~0.8 V之间形成固体电解质膜(SEI);电极材料微观结构显著影响锡电极的SEI膜电阻、Warburg阻抗和锂离子扩散速率;锡纳米阵列电极上的SEI膜电阻和Warburg阻抗最小,锂离子扩散能力最强;锡纳米阵列电极上锂的扩散系数为4.4×10-15~1.4×10-11 cm2/s;锂扩散系数随电位变化显著。 展开更多
关键词 锡电极 纳米结构 锂离子 扩散 交流阻抗
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含氧超细TiN0.3粉体与烧结体的制备及氧对其组织结构的影响研究 被引量:1
17
作者 邹芹 赵亮 +4 位作者 李艳国 王良 代利峰 焦子剑 王明智 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2020年第6期111-115,共5页
采用机械合金化(MA)法制备了平均晶粒尺寸约10 nm的超细TiN0.3粉体,分别采用机械合金化(MA)、空气中热处理、高压高温(HPHT)烧结、退火处理4种方式向TiN0.3粉体中引入氧,研究氧引入量对TiN0.3粉体及烧结体的物相组成、晶粒尺寸及晶格常... 采用机械合金化(MA)法制备了平均晶粒尺寸约10 nm的超细TiN0.3粉体,分别采用机械合金化(MA)、空气中热处理、高压高温(HPHT)烧结、退火处理4种方式向TiN0.3粉体中引入氧,研究氧引入量对TiN0.3粉体及烧结体的物相组成、晶粒尺寸及晶格常数的影响。结果表明,空气中热处理氧引入量最多,而MA、真空退火处理、HPHT烧结过程氧引入量较少。MA、退火处理、空气中热处理过程氧引入量少时均会因TiNxOy的生成而导致晶格常数增大。MA过程氧的引入降低了球磨效率而导致晶粒尺寸增大,退火过程氧引入前后晶粒尺寸无明显变化。TiN0.3粉体在空气中的起始氧化温度和终止氧化温度分别为315.6℃和654.1℃。TiN0.3粉体起始氧化产物为TiNxOy,360℃时生成A-TiO2(锐钛矿型TiO2),同时开始向R-TiO2(金红石型TiO2)转变。700℃时A-TiO2已完全转变为R-TiO2。 展开更多
关键词 氮化钛 tin0.3 氧含量 机械合金化 热处理 物相组成 扩散 tinxOy
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降温速率对浮法硼硅酸盐玻璃下表面渗锡的影响(英文) 被引量:2
18
作者 陆平 程金树 +1 位作者 刘清 万军鹏 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期548-551,共4页
研究锡槽中降温速率对浮法硼硅酸盐玻璃下表面渗锡的影响。采用不同降温速率制备浮法硼硅酸盐玻璃,用电子探针测试浮法硼硅酸盐玻璃在1250~650℃温度范围内不同降温速率情况下表面渗锡分布情况。研究结果表明:浮法成形过程中硼硅酸盐... 研究锡槽中降温速率对浮法硼硅酸盐玻璃下表面渗锡的影响。采用不同降温速率制备浮法硼硅酸盐玻璃,用电子探针测试浮法硼硅酸盐玻璃在1250~650℃温度范围内不同降温速率情况下表面渗锡分布情况。研究结果表明:浮法成形过程中硼硅酸盐玻璃渗锡的深度可达到40.0μm左右,并且在1050℃以上的高温段锡离子以深度方向扩散为主,在1050℃以下的低温阶段锡离子主要在玻璃的近表面富集。随着时间的延长浮法硼硅酸盐玻璃近表面的渗锡量增加,而深度大于7.0μm以上的内部的渗锡量不会由于时间的延长而累加,只与温度有关。在浮法成形过程中渗锡曲线会在1050℃左右,距玻璃表面15.0μm处出现卫星峰,但最终在低温时该卫星峰会由于逆扩散而消失。 展开更多
关键词 浮法硼硅酸盐玻璃 渗锡 扩散系数 降温速率
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锡原子在25钢表面的扩散行为 被引量:2
19
作者 李海斌 黄庆学 +2 位作者 帅美荣 王建梅 马勤 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期204-208,共5页
研究了25钢在290、310℃热浸锡的扩散行为,通过扫描电镜、线扫描等方法分析锡原子在基体表面的扩散。结果表明,外部锡原子扩散前具有的动能转变为进入基体内部的势能,而锡原子扩散进入基体表面的深度由原子间碰撞角度决定;由此得出扩散... 研究了25钢在290、310℃热浸锡的扩散行为,通过扫描电镜、线扫描等方法分析锡原子在基体表面的扩散。结果表明,外部锡原子扩散前具有的动能转变为进入基体内部的势能,而锡原子扩散进入基体表面的深度由原子间碰撞角度决定;由此得出扩散均匀层及非均匀层锡原子所具有的势能值。25钢与锡之间粘接强度随扩散锡原子势能值增加而增大,由实验结果得出扩散反应在20 min达到平衡,其粘接强度达到最佳值。 展开更多
关键词 锡原子 扩散 碰撞角度 势能
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空心阴极离子淀积TiN薄膜特性研究 被引量:2
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作者 高玉芝 夏宗璜 +3 位作者 武国英 张利春 黄济群 张德贤 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第7期503-508,共6页
本文用空心阴极离子淀积系统,在氮和氩的混合气体中淀积了TiN薄膜.X射线衍射方法、俄歇电子谱(AES)和电学测量等方法用来研究分析了TiN薄膜的结构、组分和薄膜电阻率.该TiN薄膜有很低的电阻率,其电阻率约为25μΩcm.Al/TiN/Si金属化系统... 本文用空心阴极离子淀积系统,在氮和氩的混合气体中淀积了TiN薄膜.X射线衍射方法、俄歇电子谱(AES)和电学测量等方法用来研究分析了TiN薄膜的结构、组分和薄膜电阻率.该TiN薄膜有很低的电阻率,其电阻率约为25μΩcm.Al/TiN/Si金属化系统经550℃、30分钟热退火后,卢瑟富背散射(RBS)分析结果表明,没有发现互扩散现象,说明TiN在硅集成电路中是一种良好的扩散势垒材料. 展开更多
关键词 氮化钛 空心 阴极 离子淀积
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