期刊文献+
共找到112篇文章
< 1 2 6 >
每页显示 20 50 100
基于粒子群算法的多约束3D NoC协同测试规划 被引量:12
1
作者 许川佩 李克梅 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期765-772,共8页
为了提高三维片上网络(3D NoC)资源内核的测试效率,对多约束下的3D NoC进行测试规划。在硅通孔(TSV)数量、功耗以及带宽约束下,分别将TSV位置、IP核测试数据分配作为两个寻优变量,利用离散粒子群算法协同进化,以减少测试时间并提高TSV... 为了提高三维片上网络(3D NoC)资源内核的测试效率,对多约束下的3D NoC进行测试规划。在硅通孔(TSV)数量、功耗以及带宽约束下,分别将TSV位置、IP核测试数据分配作为两个寻优变量,利用离散粒子群算法协同进化,以减少测试时间并提高TSV利用率。在算法中引入全局次优极值对粒子进行指导,提高全局搜索能力;并通过自适应参数调整策略增加种群多样性,从而改善粒子搜索的停滞现象。以国际标准测试集ITC'02中的电路作为仿真对象,仿真结果表明,算法能够有效地完成在多约束下对TSV位置的寻优并合理分配通信资源,缩短了测试时间,提高了TSV利用率。 展开更多
关键词 三维片上网络 测试规划 硅通孔技术 多约束 离散粒子群算法
下载PDF
基于MEMS技术的三维集成射频收发微系统 被引量:9
2
作者 祁飞 杨拥军 +1 位作者 杨志 汪蔚 《微纳电子技术》 北大核心 2016年第3期183-187,共5页
基于电学互连的贯穿硅通孔(TSV)和高精度圆片级键合等MEMS加工技术,提出了一种硅基射频收发微系统的三维集成结构设计方案,在硅基衬底上将MEMS滤波器、MMIC芯片和控制芯片在垂直方向上集成为单个系统级封装芯片,开发了一套可应用于制备... 基于电学互连的贯穿硅通孔(TSV)和高精度圆片级键合等MEMS加工技术,提出了一种硅基射频收发微系统的三维集成结构设计方案,在硅基衬底上将MEMS滤波器、MMIC芯片和控制芯片在垂直方向上集成为单个系统级封装芯片,开发了一套可应用于制备三维集成射频收发微系统的MEMS加工工艺流程。通过基于MEMS技术的三维集成工艺,成功制备了三维集成C波段射频收发微系统芯片样品,芯片样品尺寸为14 mm×11 mm×1.4 mm,测试结果表明,制作的三维集成C波段射频收发微系统样品技术指标符合设计预期,实现了在硅基衬底上有源器件和无源器件的三维集成,验证了所开发工艺的可行性。 展开更多
关键词 微电子机械系统(MEMS)技术 三维集成 贯穿硅通孔(tsv) 射频收发 微系统
下载PDF
毫米波硅基SiP模块设计 被引量:4
3
作者 张先荣 《电讯技术》 北大核心 2023年第5期741-747,共7页
设计了一款采用硅基板作为载体的毫米波上变频微系统系统级封装(System in Package,SiP)模块。该模块利用类同轴硅通孔(Through-Silicon-Via,TSV)结构解决了毫米波频段信号在转接板层间低损耗垂直传输的问题。该结构整体采用四层硅基板... 设计了一款采用硅基板作为载体的毫米波上变频微系统系统级封装(System in Package,SiP)模块。该模块利用类同轴硅通孔(Through-Silicon-Via,TSV)结构解决了毫米波频段信号在转接板层间低损耗垂直传输的问题。该结构整体采用四层硅基板封装,并在封装完成后对硅基射频SiP模块进行了测试。测试结果显示,在工作频段29~31 GHz之间,其增益大于27 dB,端口驻波小于1.4,且带外杂散抑制大于55 dB。该毫米波硅基SiP模块具有结构简单、集成度高、射频性能良好等优点,其体积不到传统二维集成结构的5%,实现了毫米波频段模块的微系统化,可广泛运用于射频微系统。 展开更多
关键词 毫米波上变频系统 硅基转接板 系统级封装(SiP) 硅通孔(tsv)
下载PDF
基于云模型进化算法的硅通孔数量受约束的3D NoC测试规划研究 被引量:7
4
作者 许川佩 陈家栋 万春霆 《电子与信息学报》 EI CSCD 北大核心 2015年第2期477-483,共7页
针对硅通孔(TSV)价格昂贵、占用芯片面积大等问题,该文采用基于云模型的进化算法对TSV数量受约束的3维片上网络(3D No C)进行测试规划研究,以优化测试时间,并探讨TSV的分配对3D No C测试的影响,进一步优化3D No C在测试模式下的TSV数量... 针对硅通孔(TSV)价格昂贵、占用芯片面积大等问题,该文采用基于云模型的进化算法对TSV数量受约束的3维片上网络(3D No C)进行测试规划研究,以优化测试时间,并探讨TSV的分配对3D No C测试的影响,进一步优化3D No C在测试模式下的TSV数量。该方法将基于云模型的进化算法、小生境技术以及遗传算法的杂交技术结合起来,有效运用遗传、优胜劣汰以及保持群落的多样性等理念,以提高算法的寻优速度和寻优精度。研究结果表明,该算法既能有效避免陷入局部最优解,又能提高全局寻优能力和收敛速度,缩短了测试时间,并且优化了3D No C的测试TSV数量,提高了TSV的利用率。 展开更多
关键词 3维片上网络 硅通孔 云模型 进化算法
下载PDF
混合介质层类同轴硅通孔等效电路模型的建立与验证
5
作者 王晗 蔡子孺 +2 位作者 吴兆虎 王泽达 丁英涛 《北京理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第6期640-648,共9页
混合介质层类同轴硅通孔(coaxially-shielded through-silicon-via with mixed dielectric layer,MD CSTSV)结构由于其电学性能优良、制备工艺简单和成本低廉的特点,在高密度射频封装领域中具有极大的应用前景.本文基于多导体传输线理... 混合介质层类同轴硅通孔(coaxially-shielded through-silicon-via with mixed dielectric layer,MD CSTSV)结构由于其电学性能优良、制备工艺简单和成本低廉的特点,在高密度射频封装领域中具有极大的应用前景.本文基于多导体传输线理论和引入比例因子λ的环形介质层的复电容的计算公式,提取了该结构的单位长度RLGC电学参数,并建立了相应的等效电路模型.在0.1~40 GHz的频率范围内,利用MD CSTSV的等效电路模型仿真计算得到的S参数结果与基于HFSS全波仿真得到的S参数结果之间匹配良好,最大误差不超过7%.相关结果表明,所提取的MD CSTSV的单位长度RLGC电学参数以及相应的等效电路模型较为准确且可以很好地模拟其信号传输性能. 展开更多
关键词 硅通孔 类同轴 混合介质层 传输线理论
下载PDF
基于PECVD的TSV深孔绝缘层沉积工艺优化 被引量:2
6
作者 唐伟 王文杰 +3 位作者 吴道伟 李宝霞 杜亚飞 赵鸿 《微纳电子技术》 北大核心 2020年第6期492-497,共6页
研究了基于等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法的硅通孔(TSV)中(孔径5μm,深宽比10∶1)二氧化硅(SiO2)薄膜的生长技术。分析了低频功率、腔室压力和分步沉积次数对TSV深孔SiO2膜层覆盖率的影响。实验结果表明,深孔内底部的膜层覆盖率最... 研究了基于等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法的硅通孔(TSV)中(孔径5μm,深宽比10∶1)二氧化硅(SiO2)薄膜的生长技术。分析了低频功率、腔室压力和分步沉积次数对TSV深孔SiO2膜层覆盖率的影响。实验结果表明,深孔内底部的膜层覆盖率最高,孔内拐角处的膜层覆盖率最低。在低频功率为300 W、腔室压力为1.6 Torr (1 Torr=133.3 Pa)、分步沉积8次时,孔内最薄处的拐角覆盖率由2.23%提高到了4.88%,有效提高了膜层的覆盖率。最后,对膜层的击穿电压、漏电流、表面应力和沉积速率进行了检测,结果表明在保证膜层电性能基础上,将深孔SiO2薄膜的沉积速率提高到了480.075 nm/min。 展开更多
关键词 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) 硅通孔(tsv) 二氧化硅(SiO2) 覆盖率 沉积速率
下载PDF
Steady state electrical–thermal coupling analysis of TSV 被引量:1
7
作者 Jingrui Chai Gang Dong +1 位作者 Zheng Mei Weijun Zhu 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2018年第9期82-87,共6页
This paper presents a blended analytical electrical–thermal model for steady state thermal analysis of through-silicon-via(TSV) in three-dimensional(3 D) integrated circuits. The proposed analytical model is vali... This paper presents a blended analytical electrical–thermal model for steady state thermal analysis of through-silicon-via(TSV) in three-dimensional(3 D) integrated circuits. The proposed analytical model is validated by the commercial FEM tool—COMSOL. The comparison between the results of the proposed analytical formulas and COMSOL shows that the proposed formulas have very high accuracy with a maximum error of 0.1%.Based on the analytical model, the temperature performance of TSV is studied. Design guide lines of TSV are also given as:(1) the radius of the TSV increases, the resistance decreases and the temperature can be increased;(2) the thicker the dielectric layer, the higher the temperature;(3) compared with carbon nanotube, the Cu enlarges the temperature by 34 K, and the W case enlarges the temperature by 41 K. 展开更多
关键词 through-silicon-via tsv electrical-thermal coupling TEMPERATURE ITERATIVE
原文传递
硅通孔电镀填充铜的蠕变性能 被引量:1
8
作者 武伟 秦飞 +2 位作者 安彤 陈沛 宇慧平 《北京工业大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2016年第6期837-842,共6页
为了研究TSV-Cu的蠕变性能,首先利用典型的TSV工艺制作了电镀Cu的TSV试样,然后利用纳米压痕法对TSV-Cu进行了压痕蠕变测试.采用恒加载速率/载荷与恒载荷法相结合的方式,对TSV-Cu的蠕变行为进行了研究,测量了TSV-Cu在不同压入应变速率和... 为了研究TSV-Cu的蠕变性能,首先利用典型的TSV工艺制作了电镀Cu的TSV试样,然后利用纳米压痕法对TSV-Cu进行了压痕蠕变测试.采用恒加载速率/载荷与恒载荷法相结合的方式,对TSV-Cu的蠕变行为进行了研究,测量了TSV-Cu在不同压入应变速率和最大压入深度条件下的蠕变行为.通过对保载阶段的数据进行处理,得到了不同加载条件下的蠕变速率敏感指数m.结果表明:压入应变速率和最大压入深度等加载条件对m的影响不很明显. 展开更多
关键词 硅通孔 tsv-Cu 纳米压痕 蠕变速率敏感指数
下载PDF
基于改进量子进化算法的3D NoC测试TSV优化 被引量:1
9
作者 许川佩 王苏妍 汪杰君 《电子测量与仪器学报》 CSCD 北大核心 2017年第8期1162-1170,共9页
针对硅通孔(through-silicon-via,TSV)的生产成本高,占用面积大等问题,首先对三维片上网络(3D NoC)进行测试规划研究,将测试规划得到的最短测试时间作为约束条件,采用改进的量子进化算法优化测试占用的TSV数量,将各层的TSV按照需求进行... 针对硅通孔(through-silicon-via,TSV)的生产成本高,占用面积大等问题,首先对三维片上网络(3D NoC)进行测试规划研究,将测试规划得到的最短测试时间作为约束条件,采用改进的量子进化算法优化测试占用的TSV数量,将各层的TSV按照需求进行配置,并将TSV合理有效地分配给各个内核,以在有限的TSV数量下,降低硬件开销,提高利用率,同时,探讨TSV的分配对测试时间的影响。算法中,引入量子旋转门旋转角动态调整策略和量子变异策略,以提高算法的全局寻优能力和收敛速度,避免陷入局部最优解。将ITC’02基准电路作为仿真实验对象,由实验结果可得,本算法能够快速地收敛到最佳解,有效的减小了测试时间,优化了TSV数量,提高了TSV的利用率。 展开更多
关键词 三维片上网络 硅通孔 量子进化算法 旋转角动态调整
下载PDF
基于区域划分的非全互连3D NoC多播路由算法
10
作者 孙美东 刘勤让 刘崇阳 《计算机工程》 CAS CSCD 北大核心 2019年第10期57-63,共7页
针对非全互连三维片上网络中多播路由算法传输路径长且易发生网络拥塞的问题,提出一种基于区域划分的多播路由算法。根据目的节点的分布将数据包传输方式分为层间传输和层内传输。在层间传输时,数据包选择硅通孔(TSV)表中最近的TSV作为... 针对非全互连三维片上网络中多播路由算法传输路径长且易发生网络拥塞的问题,提出一种基于区域划分的多播路由算法。根据目的节点的分布将数据包传输方式分为层间传输和层内传输。在层间传输时,数据包选择硅通孔(TSV)表中最近的TSV作为传输通道。在层内传输时,根据源节点位置坐标划分网络区域,将源节点所在行作为公共路径,在该路径上传输携带目的节点地址的初始包。在此基础上,进行目的地址列检查和数据包复制。实验结果表明,与3D LADPM算法、3D HOE算法相比,该算法能够缩短传输时延,降低网络丢包率。 展开更多
关键词 三维片上网络 多播路由 区域划分 硅通孔 公共路径
下载PDF
使用传输线理论的硅通孔电参数提取方法
11
作者 周子琛 申振宁 《电讯技术》 北大核心 2016年第12期1405-1408,共4页
针对三维集成电路中的关键技术硅通孔的电特性,使用传输线理论提取了其单位长度RLGC参数。将硅通孔等效为传输线,利用HFSS仿真结果并结合传输线理论给出了具体的参数提取方法。计算结果表明,硅通孔单位长度RLGC参数呈现较强的频变特性,... 针对三维集成电路中的关键技术硅通孔的电特性,使用传输线理论提取了其单位长度RLGC参数。将硅通孔等效为传输线,利用HFSS仿真结果并结合传输线理论给出了具体的参数提取方法。计算结果表明,硅通孔单位长度RLGC参数呈现较强的频变特性,当频率从1 MHz增加到20 GHz时,单位长度的电阻和导纳分别从0.45 mΩ/μm和2.5μS/μm增加到2.5 mΩ/μm和17μS/μm,而单位长度电感和电容分别从8.7 p H/μm和8.8 f F/μm减小至7.5 p H/μm和0.2 f F/μm。与传统的阻抗矩阵和导纳矩阵提取方法相比,该方法具有结果绝对收敛和适用频率高等诸多优点,可进一步应用于三维集成电路的仿真设计。 展开更多
关键词 三维集成电路 通硅孔 电参数提取 传输线理论
下载PDF
硅通孔中电致应力的有限元分析
12
作者 苏飞 卢子兴 +1 位作者 刘萍 王渊 《北京航空航天大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第11期1500-1506,共7页
在三维电子封装中,硅通孔(TSV,Through-Silicon-Via)是实现芯片垂直互连的关键环节,其可靠性至关重要.随着硅通孔中电流密度的增大,电致应力对TSV可靠性的影响也越来越大.基于该耦合方程和有限元的一般原理,详细地推导了弹性材料属性下... 在三维电子封装中,硅通孔(TSV,Through-Silicon-Via)是实现芯片垂直互连的关键环节,其可靠性至关重要.随着硅通孔中电流密度的增大,电致应力对TSV可靠性的影响也越来越大.基于该耦合方程和有限元的一般原理,详细地推导了弹性材料属性下TSV内部的电致应力、应变的有限元分析模型;利用ABAQUS中的用户自定义单元(user defining element)接口,实现了该模型的有限元计算,并利用解析解对该有限元模型的正确性进行了验证.利用有限元模型对TSV中铜填充的电迁移问题进行了分析计算,描述了铜填充在电迁移过程中电致应力、应变以及空位浓度的演化过程和分布规律,为三维电子封装可靠性的全面评估提供了一定的依据. 展开更多
关键词 电迁移 电致应力 电致应变 硅通孔 有限元
下载PDF
3D SoC测试结构优化与测试调度的博弈模型
13
作者 邵晶波 付永庆 刘晓晓 《小型微型计算机系统》 CSCD 北大核心 2013年第10期2256-2260,共5页
硅通孔技术是实现三维系统芯片的一种新兴的方法.而作为测试基础,测试访问机制和测试外壳则方便了三维系统芯片模块化测试,测试结构优化问题是研究的热点.提出基于博弈论的3D SoC测试结构优化技术,使基于核的三维系统芯片测试时间最少,... 硅通孔技术是实现三维系统芯片的一种新兴的方法.而作为测试基础,测试访问机制和测试外壳则方便了三维系统芯片模块化测试,测试结构优化问题是研究的热点.提出基于博弈论的3D SoC测试结构优化技术,使基于核的三维系统芯片测试时间最少,TAM带宽最大,并且满足TSV数目约束.提出的方法利用二人合作博弈论方法的优点,对测试结构和测试调度问题进行建模,给出了基于博弈实现3D SoC测试结构优化的算法.用ITC02 SoC测试基准电路搭建成堆叠SoC,并在其上对提出的算法进行了模拟.实验结果显示,与之前的2D IC上开发的方法相比较,本文提出的测试结构优化与测试调度方法结果更优越. 展开更多
关键词 测试结构优化 测试调度 博弈论 三维系统芯片 硅通孔
下载PDF
射频微系统2.5D/3D封装技术发展与应用 被引量:26
14
作者 崔凯 王从香 胡永芳 《电子机械工程》 2016年第6期1-6,共6页
2.5D/3D封装技术是满足未来射频系统更高集成度、更高性能、更高工作频率需求的主要手段。文中介绍了目前微系统2.5D/3D封装技术的发展趋势及硅通孔(TSV)、微凸点/铜柱、圆片级封装等先进的高密度封装技术,并关注了2.5D/3D封装技术在射... 2.5D/3D封装技术是满足未来射频系统更高集成度、更高性能、更高工作频率需求的主要手段。文中介绍了目前微系统2.5D/3D封装技术的发展趋势及硅通孔(TSV)、微凸点/铜柱、圆片级封装等先进的高密度封装技术,并关注了2.5D/3D封装技术在射频微系统领域的应用及挑战,为射频微系统集成封装技术研究提供参考。 展开更多
关键词 2.5D/3D封装 射频微系统 硅通孔 圆片级封装 热管理
下载PDF
TSV结构热机械可靠性研究综述 被引量:23
15
作者 秦飞 王珺 +3 位作者 万里兮 于大全 曹立强 朱文辉 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第11期825-831,共7页
硅通孔(TSV)结构是三维电路集成和器件封装的关键结构单元。TSV结构是由电镀铜填充的Cu-Si复合结构,该结构具有Cu/Ta/SiO2/Si多层界面,而且界面具有一定工艺粗糙度。TSV结构中,由于Cu和Si的热膨胀系数相差6倍,致使TSV器件热应力水平较高... 硅通孔(TSV)结构是三维电路集成和器件封装的关键结构单元。TSV结构是由电镀铜填充的Cu-Si复合结构,该结构具有Cu/Ta/SiO2/Si多层界面,而且界面具有一定工艺粗糙度。TSV结构中,由于Cu和Si的热膨胀系数相差6倍,致使TSV器件热应力水平较高,引发严重的热机械可靠性问题。这些可靠性问题严重影响TSV技术的发展和应用,也制约了基于TSV技术封装产品的市场化进程。针对TSV结构的热机械可靠性问题,综述了国内外研究进展,提出了亟需解决的若干问题:电镀填充及退火工艺过程残余应力测量、TSV界面完整性的量化评价方法、热载荷和电流作用下TSV-Cu的胀出变形计算模型问题等。 展开更多
关键词 硅通孔 可靠性 热失配 应力 界面完整性
下载PDF
一种3D堆叠集成电路中间绑定测试时间优化方案 被引量:14
16
作者 常郝 梁华国 +2 位作者 蒋翠云 欧阳一鸣 徐辉 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第2期393-398,共6页
中间绑定测试能够更早地检测出3D堆叠集成电路绑定过程引入的缺陷,但导致测试时间和测试功耗剧增.考虑测试TSV、测试管脚和测试功耗等约束条件,采用整数线性规划方法在不同的堆叠布局下优化中间绑定测试时间.与仅考虑绑定后测试不同,考... 中间绑定测试能够更早地检测出3D堆叠集成电路绑定过程引入的缺陷,但导致测试时间和测试功耗剧增.考虑测试TSV、测试管脚和测试功耗等约束条件,采用整数线性规划方法在不同的堆叠布局下优化中间绑定测试时间.与仅考虑绑定后测试不同,考虑中间绑定测试时,菱形结构和倒金字塔结构比金字塔结构测试时间分别减少4.39%和40.72%,测试TSV增加11.84%和52.24%,测试管脚减少10.87%和7.25%.在测试功耗约束下,金字塔结构的测试时间增加10.07%,而菱形结构和倒金字塔结构测试时间只增加4.34%和2.65%.实验结果表明,菱形结构和倒金字塔结构比金字塔结构更具优势. 展开更多
关键词 三维堆叠集成电路 中间绑定测试 硅通孔 测试访问机制 整数线性规划
下载PDF
微量元素添加对多元Sn-Bi系焊料合金组织与性能的影响 被引量:13
17
作者 徐衡 罗登俊 +2 位作者 颜炎洪 李守委 高娜燕 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2021年第2期124-130,共7页
传统焊料合金由于熔点温度高,不能满足部分有机基板、温度敏感器件以及3D封装等多层封装形式的低温封装要求。以Sn-Bi合金为基体,通过添加微量Ag、Cu、Co和Ni元素形成新型多元合金,对多元合金的熔化性能、润湿性能、微观组织和力学性能... 传统焊料合金由于熔点温度高,不能满足部分有机基板、温度敏感器件以及3D封装等多层封装形式的低温封装要求。以Sn-Bi合金为基体,通过添加微量Ag、Cu、Co和Ni元素形成新型多元合金,对多元合金的熔化性能、润湿性能、微观组织和力学性能进行研究。结果表明:微量元素的添加(质量分数0~1%)对多元Sn-Bi系合金的固相线温度影响很小,降低了SnBi57AgCuCo合金的液相线温度和熔程;添加微量元素降低了合金的表面能,提高了润湿性;多元Sn-Bi系合金的微观组织由SnBi共晶组织、β-Sn相和块状富Bi相组成,微量元素的添加细化了β-Sn相中的Bi相颗粒。组织中的金属间化合物颗粒提高了多元Sn-Bi系合金抗拉强度和延伸率;断口形貌表明合金主要沿Bi相晶界断裂,Bi相的细化可改善焊料合金的力学性能。 展开更多
关键词 SN-BI合金 硅通孔(tsv) 3D封装 熔点 润湿性 微观组织
下载PDF
一种基于MEMS体硅工艺的三维集成T/R模块 被引量:12
18
作者 王清源 吴洪江 +1 位作者 赵宇 赵永志 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第4期300-304,336,共6页
采用微电子机械系统(MEMS)体硅三维异构集成技术,设计了一种应用于雷达的四通道瓦片式三维集成T/R模块。该模块由三层硅基封装堆叠而成,每层硅基封装内部腔体异构集成多个单片微波集成电路(MMIC),内部采用硅通孔(TSV)实现互连,层间通过... 采用微电子机械系统(MEMS)体硅三维异构集成技术,设计了一种应用于雷达的四通道瓦片式三维集成T/R模块。该模块由三层硅基封装堆叠而成,每层硅基封装内部腔体异构集成多个单片微波集成电路(MMIC),内部采用硅通孔(TSV)实现互连,层间通过焊球互连。模块最终尺寸为8 mm×8 mm×3.5 mm。装配完成后对该模块进行测试,测试结果表明,在34~36 GHz内,模块的饱和发射功率为21 dBm,单通道发射增益达到21 dB,接收增益为23 dB,接收噪声系数小于3.5 dB,同时具备6 bit数控移相和5 bit数控衰减等功能。该模块在4个通道高密度集成的基础上实现了较高的性能。 展开更多
关键词 微系统 微电子机械系统(MEMS)体硅工艺 T/R前端 三维异构集成 硅通孔(tsv)
下载PDF
应用于MEMS封装的TSV工艺研究 被引量:10
19
作者 王宇哲 汪学方 +5 位作者 徐明海 吕植成 徐春林 胡畅 王志勇 刘胜 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第1期62-67,共6页
开展了应用于微机电系统(MEMS)封装的硅通孔(TSV)工艺研究,分析了典型TSV的工艺,使用Bosch工艺干法刻蚀形成通孔,气体SF6和气体C4F8的流量分别为450和190 cm3/min,一个刻蚀周期内的刻蚀和保护时长分别为8和3 s;热氧化形成绝缘层;溅射50 ... 开展了应用于微机电系统(MEMS)封装的硅通孔(TSV)工艺研究,分析了典型TSV的工艺,使用Bosch工艺干法刻蚀形成通孔,气体SF6和气体C4F8的流量分别为450和190 cm3/min,一个刻蚀周期内的刻蚀和保护时长分别为8和3 s;热氧化形成绝缘层;溅射50 nm Ti黏附阻挡层和1μm Cu种子层;使用硫酸铜和甲基磺酸铜体系电镀液电镀填充通孔,比较了双面电镀和自下而上电镀工艺;最终获得了硅片厚度370μm、通孔直径60μm TSV加工工艺。测试结果证明:样品TSV无孔隙;其TSV电阻值小于0.01Ω;样品气密性良好。 展开更多
关键词 硅通孔(tsv) 微机电系统(MEMS)封装 Bosch工艺 刻蚀 电镀
下载PDF
硅通孔(TSV)转接板微组装技术研究进展 被引量:9
20
作者 刘晓阳 刘海燕 +2 位作者 于大全 吴小龙 陈文录 《电子与封装》 2015年第8期1-8,共8页
以硅通孔(TSV)为核心的三维集成技术是半导体工业界近几年的研发热点,特别是2.5D TSV转接板技术的出现,为实现低成本小尺寸芯片系统封装替代高成本系统芯片(So C)提供了解决方案。转接板作为中介层,实现芯片和芯片、芯片与基板之间的三... 以硅通孔(TSV)为核心的三维集成技术是半导体工业界近几年的研发热点,特别是2.5D TSV转接板技术的出现,为实现低成本小尺寸芯片系统封装替代高成本系统芯片(So C)提供了解决方案。转接板作为中介层,实现芯片和芯片、芯片与基板之间的三维互连,降低了系统芯片制作成本和功耗。在基于TSV转接板的三维封装结构中,新型封装结构及封装材料的引入,大尺寸、高功率芯片和小尺寸、细节距微凸点的应用,都为转接板的微组装工艺及其可靠性带来了巨大挑战。综述了TSV转接板微组装的研究现状,及在转接板翘曲、芯片与转接板的精确对准、微组装相关材料、工艺选择等方面面临的关键问题和研究进展。 展开更多
关键词 硅通孔(tsv) 转接板 微组装技术 基板 2.5D/3D集成
下载PDF
上一页 1 2 6 下一页 到第
使用帮助 返回顶部