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光聚合陶瓷先驱体裂解制备陶瓷涂层及其抗氧化性能 被引量:9
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作者 陈少杰 张教强 +1 位作者 苏力宏 寇开昌 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2010年第3期4-6,共3页
炭材应用广泛,但在高于500℃的有氧气氛中氧化迅速,其结构和性能受到严重影响。为此,采用光聚合巯基/乙烯基聚硅氮烷(PSN-1)陶瓷先驱体在炭材料表面裂解制备抗氧化陶瓷涂层,采用偏光显微镜和X射线衍射技术探讨了涂层对炭材抗氧化性能的... 炭材应用广泛,但在高于500℃的有氧气氛中氧化迅速,其结构和性能受到严重影响。为此,采用光聚合巯基/乙烯基聚硅氮烷(PSN-1)陶瓷先驱体在炭材料表面裂解制备抗氧化陶瓷涂层,采用偏光显微镜和X射线衍射技术探讨了涂层对炭材抗氧化性能的影响。结果表明:先驱体溶液浓度为30%时浸渍效果最好;加入质量比(Ti/PSN-1)为1/10~1/5的钛粉时,制备的涂层抗氧化性能最佳,恒温氧化120min后,失重率仅为18%;最佳的浸渍/裂解循环次数为3次,恒温氧化120min,失重率为15%;聚硅氮烷经高温裂解后最终生成氮化硅陶瓷。 展开更多
关键词 巯基/乙烯基陶瓷先驱体 炭材料 抗氧化 陶瓷涂层
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