期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
极紫外光刻快速掩模优化方法 被引量：4
1
作者 张子南 李思坤 +1 位作者 王向朝 成维 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第13期25-34,共10页
提出了一种快速的极紫外光刻像素化掩模优化方法。优化过程中采用改进的像素化快速厚掩模模型,根据掩模像素尺寸设置边界像素上点脉冲的大小。以双重边界演化方法为基础,在每轮优化时,根据当前光刻胶轮廓与目标图形轮廓的差异自适应地... 提出了一种快速的极紫外光刻像素化掩模优化方法。优化过程中采用改进的像素化快速厚掩模模型,根据掩模像素尺寸设置边界像素上点脉冲的大小。以双重边界演化方法为基础,在每轮优化时,根据当前光刻胶轮廓与目标图形轮廓的差异自适应地对优化变量进行初始化,利用先验信息生成初始个体和种群,从而提高优化效率。以一维线空图形和二维复杂图形为例进行了仿真验证,结果表明该方法有效提高了掩模成像仿真精度,两种二维掩模图形的优化效率得到明显提高。 展开更多
关键词 衍射 极紫外光刻 厚掩模模型 掩模优化
原文传递
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部