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纳米热压印聚合物材料的研究进展 被引量：4
1
作者 蒋梦琳 林仕伟 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期173-177,共5页
纳米压印是一种可以制造微纳结构的并行技术,具有成本低、生产效率高和设备简易的特点。文中从纳米热压印聚合物材料的角度对纳米热压印工艺进行了一个整体的描述。根据纳米热压印工艺的特点,阐述了聚合物的结构和性能对压印图案的影响... 纳米压印是一种可以制造微纳结构的并行技术,具有成本低、生产效率高和设备简易的特点。文中从纳米热压印聚合物材料的角度对纳米热压印工艺进行了一个整体的描述。根据纳米热压印工艺的特点,阐述了聚合物的结构和性能对压印图案的影响。提出了成膜性能、热机械性能、流变性能、界面性能和抗刻蚀性能等热压印聚合物材料的性能指标。最后对纳米压印聚合物材料的发展趋势进行了分析与展望。 展开更多
关键词 纳米热压印 聚合物 材料性能 压印图案
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紫外纳米压印技术的研究进展 被引量：6
2
作者 殷敏琪 孙洪文 王海滨 《微纳电子技术》 北大核心 2017年第5期347-354,共8页
传统的紫外纳米压印(UV-NIL)虽然不受曝光波长的限制,但是存在气泡残留、压印不均匀、模具寿命短等问题。为解决这些问题产生了各种新型UV-NIL工艺,针对这些工艺阐述了紫外纳米压印技术工艺要素的最新研究进展,包括模具、光刻胶的材料... 传统的紫外纳米压印(UV-NIL)虽然不受曝光波长的限制,但是存在气泡残留、压印不均匀、模具寿命短等问题。为解决这些问题产生了各种新型UV-NIL工艺,针对这些工艺阐述了紫外纳米压印技术工艺要素的最新研究进展,包括模具、光刻胶的材料与制备技术的现状,并列举了步进-闪光压印光刻(S-FIL)、卷对卷式紫外纳米压印光刻(R2R-NIL)等工艺的流程及其特点。紫外纳米压印的图形质量目前仍受光刻胶填充、固化、脱模等物理行为影响。结合最近的实验研究,从理论方面概述了紫外纳米压印的基本原理,主要指出了光刻胶流动行为以及模具降解等问题。最后介绍了一些紫外纳米压印技术的尖端应用。 展开更多
关键词 紫外纳米压印光刻(UV-NIL) 抗蚀剂 热压印光刻(T-NIL) 步进-闪光压印光刻(S-FIL) 卷对卷纳米压印光刻(R2R-NIL)
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纳米压印技术的发展及其近期的应用研究 被引量：4
3
作者 张笛 张琰 +1 位作者 孔路瑶 程秀兰 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2022年第5期1-5,共5页
综述了热纳米压印、紫外纳米压印、微接触印刷三种具有代表性的纳米压印(NIL)技术的原理、工艺流程和优缺点,并介绍了近几年来纳米压印技术的研究进展及其在光学器件、存储器、柔性器件和生物传感器等领域中的应用现状。
关键词 热纳米压印 紫外纳米压印 微接触印刷 光学器件 存储器 柔性器件 生物传感器
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热纳米压印技术的研究进展 被引量：1
4
作者 韩丽娟 孙洪文 +1 位作者 殷敏琪 王海滨 《传感器与微系统》 CSCD 2019年第4期1-3,7,共4页
介绍了热纳米压印(T-NIL)的要素制备、工艺流程,分析了温度、压力、时间等因素对T-NIL技术的影响。针对这些因素,阐述了T-NIL技术的最新研究进展,包括抗粘连处理方法、加热加压方式、模具及光刻胶材料的选择、T-NIL设备等。介绍了T-NIL... 介绍了热纳米压印(T-NIL)的要素制备、工艺流程,分析了温度、压力、时间等因素对T-NIL技术的影响。针对这些因素,阐述了T-NIL技术的最新研究进展,包括抗粘连处理方法、加热加压方式、模具及光刻胶材料的选择、T-NIL设备等。介绍了T-NIL技术在不同领域的应用。 展开更多
关键词 热纳米压印 模具 光刻胶
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