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飞秒激光直写掩模制作硅表面微柱阵列 被引量：3
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作者 田亚湘 张帆 +2 位作者 丁铠文 满姝 吴碧微 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2019年第18期261-266,共6页
提出了一种使用飞秒激光直写掩模加工微柱阵列的方法。利用高重复频率飞秒激光的热氧化效应在硅表面制作出二氧化硅点阵列,然后经氢氧化钾刻蚀得到微柱阵列。相比于传统的制作微柱阵列的方法,使用飞秒激光直写掩模制作微柱阵列的方法工... 提出了一种使用飞秒激光直写掩模加工微柱阵列的方法。利用高重复频率飞秒激光的热氧化效应在硅表面制作出二氧化硅点阵列,然后经氢氧化钾刻蚀得到微柱阵列。相比于传统的制作微柱阵列的方法,使用飞秒激光直写掩模制作微柱阵列的方法工艺简单,成本更低。此外,探究了激光功率、曝光时间和氢氟酸蚀刻对掩模尺寸的影响。这种微柱阵列在减反、传感等领域具有很好的应用价值。 展开更多
关键词 超快光学 热氧化效应 硅 微柱阵列 氢氧化钾 掩模
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