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大颗粒超高纯度硅溶胶的制备及其表征(英文) 被引量:2
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作者 杨恺 安茂忠 +4 位作者 杨春晖 张磊 胡成发 葛士彬 邵韦 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期108-115,共8页
采用新工艺路线制备四乙氧基硅烷(tetraethoxysilane,TEOS),以TEOS为原料制备超纯度大颗粒硅溶胶。TEOS是烷氧基硅烷法制备甲硅烷的副产物,经过精馏提纯以后,加入盐酸或氨水催化剂,采用溶胶-凝胶法制备硅溶胶。结果表明:TEOS和硅溶胶金... 采用新工艺路线制备四乙氧基硅烷(tetraethoxysilane,TEOS),以TEOS为原料制备超纯度大颗粒硅溶胶。TEOS是烷氧基硅烷法制备甲硅烷的副产物,经过精馏提纯以后,加入盐酸或氨水催化剂,采用溶胶-凝胶法制备硅溶胶。结果表明:TEOS和硅溶胶金属杂质离子总含量都低于0.3mg/L。用盐酸催化TEOS水解制备溶胶,胶粒直径达到129nm;用氨水催化,胶粒直径达272nm。当物质的量比n(C2H5OH)/n(TEOS)=6,n(H2O)/n(TEOS)=5,搅拌速度为250 r/min,制备的硅溶胶胶粒均匀度最好。加水不搅拌,胶粒很容易发生团聚,但是,当搅拌速率高于500 r/min时,胶粒出现团聚现象。 展开更多
关键词 四乙氧基硅烷 超高纯度硅溶胶 大颗粒 硅溶胶的表征
原文传递
硅烷偶联剂对硅溶胶及其膜层表面开裂性的改性效果 被引量:3
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作者 周雅 周志文 刘佳慧 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2012年第4期24-26,73,共3页
为了改善硅溶胶膜层的开裂性,使用甲基三氧甲基硅烷和KH-570 2种硅烷偶联剂对硅溶胶正硅酸乙酯进行改性。比较了2种偶联剂对硅溶胶膜层的影响,应用金相显微观察、傅立叶红外光谱(FT-IR)、扫描电镜观察等系统研究了偶联剂KH-570对硅溶胶... 为了改善硅溶胶膜层的开裂性,使用甲基三氧甲基硅烷和KH-570 2种硅烷偶联剂对硅溶胶正硅酸乙酯进行改性。比较了2种偶联剂对硅溶胶膜层的影响,应用金相显微观察、傅立叶红外光谱(FT-IR)、扫描电镜观察等系统研究了偶联剂KH-570对硅溶胶及其膜层的改性效果。结果表明:2种硅烷偶联剂都可以明显减少膜层的裂纹,使其表面更加平整;在同样的用量下,偶联剂KH-570对减少涂层表面裂纹的效果更加明显;加入KH-570偶联剂的硅溶胶体系内由于生成了有机-无机杂化的网络结构而有效地减缓了膜层开裂性,提高了其耐蚀性能。 展开更多
关键词 硅溶胶正硅酸乙酯 改性 偶联剂 KH-570 开裂性 耐蚀性 有机.无机杂化 网络结构
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