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Review on the design of high-strength and hydrogen-embrittlement-resistant steels
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作者 Zhiyu Du Rongjian Shi +2 位作者 Xingyu Peng Kewei Gao Xiaolu Pang 《International Journal of Minerals,Metallurgy and Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第7期1572-1589,共18页
Given the carbon peak and carbon neutrality era,there is an urgent need to develop high-strength steel with remarkable hydrogen embrittlement resistance.This is crucial in enhancing toughness and ensuring the utilizat... Given the carbon peak and carbon neutrality era,there is an urgent need to develop high-strength steel with remarkable hydrogen embrittlement resistance.This is crucial in enhancing toughness and ensuring the utilization of hydrogen in emerging iron and steel materials.Simultaneously,the pursuit of enhanced metallic materials presents a cross-disciplinary scientific and engineering challenge.Developing high-strength,toughened steel with both enhanced strength and hydrogen embrittlement(HE)resistance holds significant theoretical and practical implications.This ensures secure hydrogen utilization and further carbon neutrality objectives within the iron and steel sector.Based on the design principles of high-strength steel HE resistance,this review provides a comprehensive overview of research on designing surface HE resistance and employing nanosized precipitates as intragranular hydrogen traps.It also proposes feasible recommendations and prospects for designing high-strength steel with enhanced HE resistance. 展开更多
关键词 hydrogen embrittlement surface design hydrogen traps nanosized precipitates
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聚酰亚胺表面纳米复合层构筑及其抑制强电磁场诱发真空沿面放电机理 被引量:2
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作者 杨雄 周润东 +5 位作者 杨宁 黄昆 王超 李文栋 宋佰鹏 张冠军 《中国电机工程学报》 EI CSCD 北大核心 2023年第12期4840-4850,共11页
航天器运行在恶劣的空间环境中容易引发充放电现象,而叠加电磁场会导致其在较低的充电电位下发生放电,严重威胁航天器的安全运行。为揭示强电磁场诱发真空沿面放电的机理并提出抑制方法,该文采用离子交换方法对聚酰亚胺(polyimide,PI)... 航天器运行在恶劣的空间环境中容易引发充放电现象,而叠加电磁场会导致其在较低的充电电位下发生放电,严重威胁航天器的安全运行。为揭示强电磁场诱发真空沿面放电的机理并提出抑制方法,该文采用离子交换方法对聚酰亚胺(polyimide,PI)薄膜表面进行改性处理,并基于搭建的强电磁场诱发真空沿面放电平台,结合表面陷阱、二次电子发射系数(secondary electron emission yields,SEEY)等表征手段,系统分析表面改性对抑制强电磁场诱发PI薄膜沿面放电的机理。结果表明:改性后的PI表面引入大量浅陷阱,显著降低PI薄膜的表面电阻率和SEEY,并提升了材料表面电荷的积聚与消散速率。同时,浅陷阱的引入降低了PI薄膜的SEEY和直流场下的极化能,抑制气体的解吸附与电离及二次电子倍增过程,从而显著提升了PI薄膜在抑制强电磁场诱发真空沿面放电方面的能力。该研究有望为强电磁场诱发航天器表面沿面放电的防护设计提供参考。 展开更多
关键词 沿面闪络 聚酰亚胺 强电磁场诱发放电 界面陷阱 二次电子发射
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High-electric-field-stress-induced degradation of SiN passivated AlGaN/GaN high electron mobility transistors 被引量:2
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作者 谷文萍 段焕涛 +4 位作者 倪金玉 郝跃 张进城 冯倩 马晓华 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第4期1601-1608,共8页
AlGaN/GaN high electron mobility transistors (HEMTs) are fabricated by employing SiN passivation, this paper investigates the degradation due to the high-electric-field stress. After the stress, a recoverable degrad... AlGaN/GaN high electron mobility transistors (HEMTs) are fabricated by employing SiN passivation, this paper investigates the degradation due to the high-electric-field stress. After the stress, a recoverable degradation has been found, consisting of the decrease of saturation drain current IDsat, maximal transconductance gm, and the positive shift of threshold voltage VTH at high drain-source voltage VDS. The high-electric-field stress degrades the electric characteristics of AlGaN/GaN HEMTs because the high field increases the electron trapping at the surface and in AlGaN barrier layer. The SiN passivation of AlGaN/GaN HEMTs decreases the surface trapping and 2DEC depletion a little during the high-electric-field stress. After the hot carrier stress with VDS = 20 V and VGS= 0 V applied to the device for 104 sec, the SiN passivation decreases the stress-induced degradation of IDsat from 36% to 30%. Both on-state and pulse-state stresses produce comparative decrease of IDsat, which shows that although the passivation is effective in suppressing electron trapping in surface states, it does not protect the device from high-electric-field degradation in nature. So passivation in conjunction with other technological solutions like cap layer, prepassivation surface treatments, or field-plate gate to weaken high-electric-field degradation should be adopted. 展开更多
关键词 AlGaN/GaN high electron mobility transistors surface states traps in AlGaN PASSIVATION
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溅射金膜对氧化铝陶瓷纳秒脉冲真空沿面闪络的影响 被引量:2
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作者 朱明远 孟永鹏 +4 位作者 成永红 王增彬 卢为 陈玉 吴锴 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期97-101,共5页
研究了溅射金膜对氧化铝陶瓷在真空环境中、纳秒脉冲高电压作用下沿面闪络特性的影响规律.通过对氧化铝陶瓷表面粗糙度、电极接触形式的研究,并结合表面态陷阱、界面能带结构、电荷注入过程的分析,探究了影响氧化铝陶瓷溅射金膜后沿面... 研究了溅射金膜对氧化铝陶瓷在真空环境中、纳秒脉冲高电压作用下沿面闪络特性的影响规律.通过对氧化铝陶瓷表面粗糙度、电极接触形式的研究,并结合表面态陷阱、界面能带结构、电荷注入过程的分析,探究了影响氧化铝陶瓷溅射金膜后沿面闪络电压的主要原因.在50 ns/1.2μs脉冲下、电极间距10 mm时,测量各试样的闪络电压60次,取后30次平均值作为稳定的闪络电压.研究结果发现,氧化铝陶瓷在溅射金膜电极试样的闪络电压比直接压接电极试样的闪络电压低,这是因为在不同电极接触方式下,氧化铝陶瓷材料的表面态对真空中的电子发射和材料表层的电荷注入的影响不同所致. 展开更多
关键词 沿面闪络 氧化铝陶瓷 纳秒脉冲 溅射金膜 表面态
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纳米TiO2改性变压器油中电子迁移特性及机制 被引量:2
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作者 黄猛 牛铭康 +3 位作者 应宇鹏 吕玉珍 葛扬 李成榕 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第12期4220-4226,共7页
电子迁移率是影响变压器油中流注发展及空间电荷分布的关键因素之一,但是其高电场下的测量一直是个难题,现有纳米改性研究中也鲜见纳米粒子影响电子迁移率方面的报道。为此基于Kerr效应电场测量系统搭建了冲击高电场下变压器油中电子迁... 电子迁移率是影响变压器油中流注发展及空间电荷分布的关键因素之一,但是其高电场下的测量一直是个难题,现有纳米改性研究中也鲜见纳米粒子影响电子迁移率方面的报道。为此基于Kerr效应电场测量系统搭建了冲击高电场下变压器油中电子迁移率测量平台,测量了不同形状TiO2纳米粒子改性变压器油中的电子迁移率,分析其与纳米粒子表面缺陷态和变压器油的陷阱数密度之间的关系,揭示了纳米粒子对电子迁移率的影响机理。结果表明,文中所提出的方法可有效测量变压器油中电子在冲击高电场下的迁移速率,纳米改性变压器油中所添加的纳米粒子表面缺陷态越多,其浅陷阱数密度越大、电子迁移率越高。分析表明,纳米粒子表面缺陷导致跳跃势垒降低、隧穿概率增大从而引起电子迁移率增大。该方法可用于液体介质电子迁移率的测量,结果可为流注仿真提供关键数据支撑。 展开更多
关键词 纳米粒子 电子迁移率 表面缺陷 浅陷阱 KERR效应 空间电荷
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电应力对GaAlAs红外发光二极管低频噪声的影响(英文)
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作者 包军林 庄奕琪 +4 位作者 杜磊 马仲发 李伟华 万长兴 胡瑾 《电子器件》 EI CAS 2005年第4期765-768,774,共5页
在宽范围偏置条件下,测量了电应力前后GaAlAs红外发光二极管(IRED)的低频噪声,发现应力前后1/f噪声随偏置电流变化的规律没有改变,但应力后1/f噪声幅值比应力前增加大约100倍。基于载流子数和迁移率涨落的理论分析表明GaAlAsIRED的1/f... 在宽范围偏置条件下,测量了电应力前后GaAlAs红外发光二极管(IRED)的低频噪声,发现应力前后1/f噪声随偏置电流变化的规律没有改变,但应力后1/f噪声幅值比应力前增加大约100倍。基于载流子数和迁移率涨落的理论分析表明GaAlAsIRED的1/f噪声在小电流时反映体陷阱特征,大电流时反映激活区陷阱特征,1/f噪声的增加归因于电应力在器件有源区诱生的界面陷阱和表面陷阱,因而,1/f噪声可以用来探测电应力对该类器件有源区的潜在损伤。 展开更多
关键词 低频噪声 红外发光二极管 电应力 界面陷阱 表面陷阱
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The role of surface charges in the blinking mechanisms and quantum-confined Stark effect of single colloidal quantum dots
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作者 Jialu Li Dengfeng Wang +9 位作者 Guofeng Zhang Changgang Yang Wenli Guo Xue Han Xiuqing Bai Ruiyun Chen Chengbing Qin Jianyong Hu Liantuan Xiao Suotang Jia 《Nano Research》 SCIE EI CSCD 2022年第8期7655-7661,共7页
The two frequently observed phenomena,photoluminescence(PL)blinking and quantum-confined Stark effect(QCSE)-induced spectral diffusion,are not conducive to the applications of colloidal quantum dots(QDs).It remains el... The two frequently observed phenomena,photoluminescence(PL)blinking and quantum-confined Stark effect(QCSE)-induced spectral diffusion,are not conducive to the applications of colloidal quantum dots(QDs).It remains elusive how these two phenomena are linked to each other.Unraveling the potential link between blinking and QCSE could facilitate the adoption of appropriate strategies that can simultaneously suppress both PL blinking and spectral diffusion.In this work,we investigated the blinking mechanism and QCSE of single CdSe/CdS/ZnS QDs in the presence of positive and negative surface charges using single-dot PL spectroscopy.We found that the negative surface charges can simultaneously suppress PL blinking and spectral diffusion of single QDs.On the other hand,the positive surface charges could change the blinking mechanisms of QDs from Auger-blinking to band-edge carrier(BC)-blinking.Two types of QCSE were observed,and a significant QCSE-induced spectral broadening of 5.25 nm was measured,which could be attributed to the hopping of surface charges between different surface-trap sites.Based on these findings,several theoretical models are proposed to explain various phenomena observed. 展开更多
关键词 single quantum dots blinking mechanisms quantum-confined Stark effect surface charges surface traps
原文传递
Modified model of gate leakage currents in AlGaN/GaN HEMTs
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作者 王元刚 冯志红 +4 位作者 吕元杰 谭鑫 敦少博 房玉龙 蔡树军 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第10期345-349,共5页
It has been reported that the gate leakage currents are described by the Frenkel-Poole emission(FPE) model,at temperatures higher than 250 K.However,the gate leakage currents of our passivated devices do not accord wi... It has been reported that the gate leakage currents are described by the Frenkel-Poole emission(FPE) model,at temperatures higher than 250 K.However,the gate leakage currents of our passivated devices do not accord with the FPE model.Therefore,a modified FPE model is developed in which an additional leakage current,besides the gate(ⅠⅡ),is added.Based on the samples with different passivations,the ⅠⅡcaused by a large number of surface traps is separated from total gate currents,and is found to be linear with respect to(φB-Vg)0.5.Compared with these from the FPE model,the calculated results from the modified model agree well with the Ig-Vgmeasurements at temperatures ranging from 295 K to 475 K. 展开更多
关键词 gate leakage currents FPE model additional leakage current surface traps
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毫米波AlGaN/GaNHEMT器件物理模型仿真 被引量:1
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作者 董若岩 徐跃杭 +1 位作者 谢俊 徐锐敏 《微波学报》 CSCD 北大核心 2014年第S1期48-50,共3页
本文利用器件仿真软件Silvaco Altlas建立了考虑表面态和陷阱效应的微波Al Ga N/Ga N HEMT器件物理模型。针对毫米波Ga N HEMT器件短栅长引起的短沟道效应,本文采用了更精确的能量平衡模型。仿真结果与实测结果取得了良好的一致性。
关键词 GAN HEMT 物理模型 表面态 陷阱
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Improving the performance of perovskite solar cells by surface passivation
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作者 Wenbin Han Guanhua Ren +3 位作者 Zhiqi Li Minnan Dong Chunyu Liu Wenbin Guo 《Journal of Energy Chemistry》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第7期202-207,I0007,共7页
NiO has a perfect-aligned energy level with CH3 NH3 Pb I3 perovskite such that it serves as a hole transport layer(HTL),but Ni O-based perovskite solar cells(PSCs)still suffer from low efficiency due to the poor inter... NiO has a perfect-aligned energy level with CH3 NH3 Pb I3 perovskite such that it serves as a hole transport layer(HTL),but Ni O-based perovskite solar cells(PSCs)still suffer from low efficiency due to the poor interface contact between the perovskite layer and the Ni O HTL,and haphazardly stacked perovskite grains.Herein,poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-alt-co-(1,4-benzo-{2,1,3}-thiadiazole)](PFBT)is introduced between the Ni O and perovskite layers in the form of a polymer aggregate to enhance perovskite crystallinity and decrease the interface charge recombination between perovskite and Ni O in PSCs,resulting in an improved performance.Moreover,PFBT modified perovskite films showed sharper,smoother,and more compact crystalline grains with fewer grain boundaries,leading to the decreased nonradiative recombination.This study offers a simple strategy to achieve highly efficient PSCs with the incorporation of polymer semiconductor aggregates to passivate the interface between the perovskite and Ni O layers. 展开更多
关键词 Perovskite solar cells Hole transport Interface passivation surface traps CRYSTALLINITY
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安县运动对四川盆地中西部上三叠统地层划分对比与油气勘探的意义 被引量:35
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作者 罗启后 《天然气工业》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期21-27,122-123,共7页
四川盆地上三叠统包括原来川西北地区所称的上三叠统须家河煤系(组)和盆地其余地区所称香溪群。一直以来,对这2套地层各段间的对比关系存在着激烈争论,有多种对比意见,但都缺乏有力证据。安县运动的发现并被证实广泛存在于四川盆地中西... 四川盆地上三叠统包括原来川西北地区所称的上三叠统须家河煤系(组)和盆地其余地区所称香溪群。一直以来,对这2套地层各段间的对比关系存在着激烈争论,有多种对比意见,但都缺乏有力证据。安县运动的发现并被证实广泛存在于四川盆地中西部地区,为解决上述问题找到了一条路径。分析认为:盆地中西部地区上三叠统原来划分的香一段中海相化石层的广泛分布以及孢粉的组合特征,表明这些地区存在卡尼克—诺利克期的沉积;香一段顶部侵蚀面的被发现、香二段砂岩超覆在香一段的不同层位上,以及区域地震大剖面解释成果,均表明安县运动也强烈影响到这些地区。以安县运动所形成的侵蚀面为界,可将该区上三叠统划分为上、下两部分沉积。由此可知,川西北地区的须二段砂岩应在川中和川西地区南部香二段砂岩之下,改变了原来"砂对砂"、"泥对泥"的格局,出现了须二段大套砂岩往川中方向尖灭,往川西地区南部变为原香一段中上部的粉、细砂岩夹泥岩的现象;须四、须五段横向上的岩性也有明显变化,并往川西北方向尖灭。这一对比结果,为在该区寻找地层尖灭油气藏、岩性油气藏指示了方向。 展开更多
关键词 安县运动 四川盆地 中西部 晚三叠世 侵蚀面 划分对比 地层尖灭油气藏 岩性油气藏
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不同温度热老化对高压配网交联聚乙烯电缆绝缘表面陷阱参数的影响 被引量:28
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作者 闫群民 李欢 +2 位作者 翟双 胡丽斌 陈杰 《中国电机工程学报》 EI CSCD 北大核心 2020年第2期692-701,共10页
陷阱参数可影响交联聚乙烯(cross-linked polyethylene,XLPE)电缆绝缘中载流子的注入和迁移过程,进而对XLPE电缆绝缘的介电性能产生影响。针对商用110kV的高压配电电缆绝缘,通过等温表面电位衰减(isothermal surface potential decay,IS... 陷阱参数可影响交联聚乙烯(cross-linked polyethylene,XLPE)电缆绝缘中载流子的注入和迁移过程,进而对XLPE电缆绝缘的介电性能产生影响。针对商用110kV的高压配电电缆绝缘,通过等温表面电位衰减(isothermal surface potential decay,ISPD)测试系统研究不同温度热老化过程对XLPE电缆绝缘表面陷阱参数的影响。实验结果表明,未老化的XLPE电缆绝缘表面以电子深陷阱和空穴深陷阱为主,当老化温度低于XLPE的熔融温度(T_m)时,浅陷阱密度增加,深陷阱密度变化幅度不大,XLPE电缆绝缘表面仍以深陷阱为主。而当老化温度高于Tm时,电子、空穴浅陷阱密度大幅增加,深陷阱密度大幅下降,陷阱能级下降,老化临界时间之后,XLPE试样表面以电子浅陷阱和空穴浅陷阱为主。热老化试样中浅陷阱密度的增加可能来源于羰基(C=O)等老化副产物的增加,深陷阱密度的下降可能是来源于老化过程对球晶的破坏。不同老化温度条件下表面陷阱密度和能级变化规律的差异可能是由晶体结构劣化方式的差异造成。 展开更多
关键词 交联聚乙烯 热老化 等温表面电位衰减 陷阱
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Ti0_2/环氧复合材料脉冲真空沿面闪络特性 被引量:6
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作者 王增彬 成永红 +3 位作者 陈玉 周稼斌 卢为 吴锴 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 2012年第5期109-114,共6页
为了揭示微米TiO2填料对环氧复合材料真空快脉冲作用下的沿面闪络特性的影响,并探讨相关影响因素的作用机理,制备了6种不同填料含量的TiO2/环氧复合材料,测试了各种试样在30 ns(脉冲前沿)/200ns(半高宽)脉冲作用下的真空沿面闪络电压,... 为了揭示微米TiO2填料对环氧复合材料真空快脉冲作用下的沿面闪络特性的影响,并探讨相关影响因素的作用机理,制备了6种不同填料含量的TiO2/环氧复合材料,测试了各种试样在30 ns(脉冲前沿)/200ns(半高宽)脉冲作用下的真空沿面闪络电压,并测量了介电频谱和热刺激去极化电流(TSDC)。结果显示,TiO2质量分数(wt%)的变化对Ti02/环氧复合材料的闪络电压有显著影响,但两者之间并不是线性关系;随着填料质量分数的增加,复合材料的介电常数和电导率都逐渐增加;所有实验材料都存在深、浅两种不同的陷阱能级,深陷阱电荷量和浅陷阱电荷量随填料质量分数的变化呈现出不同的变化规律。分析认为,Ti02/环氧复合材料的真空快脉冲沿面闪络特性不能由介电常数和电导率等影响因素的变化趋势单独解释,而针对闪络的深浅陷阱共同作用模型可以很好地解释闪络电压的实验结果。同时,根据实验结果对闪络的深浅陷阱共同作用模型进行完善,提出了当填料质量分数较低时,浅陷阱将显著降低材料的闪络强度,而当填料质量分数较高时,深陷阱对闪络强度的增强作用更为明显。 展开更多
关键词 TIO2 环氧复合材料 沿面闪络 介电谱 热刺激去极化电流 深浅陷阱
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Passivation effects of phosphorus on 4H-SiC (0001) Si dangling bonds: A first-principles study 被引量:1
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作者 李文波 李玲 +9 位作者 王方方 郑柳 夏经华 秦福文 王晓琳 李永平 刘瑞 王德君 潘艳 杨霏 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第3期461-464,共4页
The effect of phosphorus passivation on 4H-SiC(0001) silicon (Si) dangling bonds is investigated using ab initio atomistic thermodynamic calculations. Phosphorus passivation commences with chemisorption of phospho... The effect of phosphorus passivation on 4H-SiC(0001) silicon (Si) dangling bonds is investigated using ab initio atomistic thermodynamic calculations. Phosphorus passivation commences with chemisorption of phosphorus atoms at high-symmetry coordinated sites. To determine the most stable structure during the passivation process of phosphorus, a surface phase diagram of phosphorus adsorption on SiC (0001) surface is constructed over a coverage range of 1/9-1 monolayer (ML). The calculated results indicate that the 1/3 ML configuration is most energetically favorable in a reasonable environment. At this coverage, the total electron density of states demonstrates that phosphorus may effectively reduce the interface state density near the conduction band by removing 4H-SiC (0001) Si dangling bonds. It provides an atomic level insight into how phosphorus is able to reduce the near interface traps. 展开更多
关键词 phosphorus passivation silicon carbide near interface traps surface phase diagram
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高场应力及栅应力下AlGaN/GaN HEMT器件退化研究 被引量:2
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作者 谷文萍 郝跃 +3 位作者 张进城 王冲 冯倩 马晓华 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期511-517,共7页
采用不同的高场应力和栅应力对AlGaN/GaN HEMT器件进行直流应力测试,实验发现:应力后器件主要参数如饱和漏电流,跨导峰值和阈值电压等均发生了明显退化,而且这些退化还是可以完全恢复的;高场应力下,器件特性的退化随高场应力偏置电压的... 采用不同的高场应力和栅应力对AlGaN/GaN HEMT器件进行直流应力测试,实验发现:应力后器件主要参数如饱和漏电流,跨导峰值和阈值电压等均发生了明显退化,而且这些退化还是可以完全恢复的;高场应力下,器件特性的退化随高场应力偏置电压的增加和应力时间的累积而增大;对于不同的栅应力,相对来说,脉冲栅应力和开态栅应力下器件特性的退化比关态栅应力下的退化大.对不同应力前后器件饱和漏电流,跨导峰值和阈值电压的分析表明,AlGaN势垒层陷阱俘获沟道热电子以及栅极电子在栅漏间电场的作用下填充虚栅中的表面态是这些不同应力下器件退化的主要原因.同时,不同栅应力下器件的退化表明,钝化只是把短时间的电流崩塌问题转化成了长时间的退化问题,它并不能从根本上完全解决AlGaN/GaN HEMT的可靠性问题. 展开更多
关键词 ALGAN/GAN HEMT器件 表面态(虚栅) 势垒层陷阱 应力
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Influence of surface states on deep level transient spectroscopy in AlGaN/GaN heterostructure
16
作者 朱青 马晓华 +6 位作者 陈伟伟 侯斌 祝杰杰 张濛 陈丽香 曹艳荣 郝跃 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第6期489-493,共5页
Deep level transient spectroscopy(DLTS) as a method to investigate deep traps in AlGaN/GaN heterostructure or high electron mobility transistors(HEMTs) has been widely utilized.The DLTS measurements under differen... Deep level transient spectroscopy(DLTS) as a method to investigate deep traps in AlGaN/GaN heterostructure or high electron mobility transistors(HEMTs) has been widely utilized.The DLTS measurements under different bias conditions are carried out in this paper.Two hole-like traps with active energies of E_v + 0.47 eV,and E_v + 0.10 eV are observed,which are related to surface states.The electron traps with active energies of E_c-0.56 eV are located in the channel,those with E_c-0.33 eV and E_c-0.88 eV are located in the AlGaN layer.The presence of surface states has a strong influence on the detection of electron traps,especially when the electron traps are low in density.The DLTS signal peak height of the electron trap is reduced and even disappears due to the presence of plentiful surface state. 展开更多
关键词 ALGAN/GAN hole-like traps DLTS surface states
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不同高场应力下SiN钝化的AlGaN/GaN HEMT器件的性能退化
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作者 谷文萍 郝跃 +1 位作者 张进城 马晓华 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期94-97,共4页
采用不同的高场应力对Si N钝化前后的Al GaN/GaN HEMT器件进行直流应力测试,实验发现:应力后器件主要参数如饱和漏电流IDS,跨导峰值gm和阈值电压VTH等均发生了明显退化,而且这些退化还是可以完全恢复的。分析表明:高场应力后,在栅漏区... 采用不同的高场应力对Si N钝化前后的Al GaN/GaN HEMT器件进行直流应力测试,实验发现:应力后器件主要参数如饱和漏电流IDS,跨导峰值gm和阈值电压VTH等均发生了明显退化,而且这些退化还是可以完全恢复的。分析表明:高场应力后,在栅漏区高场作用下,表面和Al GaN势垒层的陷阱俘效应增加,使得器件参数漂移,从而导致器件电特性退化。偏置应力VDS=20V,VGS=0V后发现Si N钝化使得应力产生的IDS、退化从36%减少到了30%。这说明高场应力下,虽然Si N钝化一定程度上有助于阻挡电子陷落表面态和2DEG耗尽,但是它不能从根本上解决Al GaN/GaN HEMT的高场退化问题。作者认为在钝化的基础上应当结合其他工艺方法例如帽层结构或者场板结构来改善高场下器件的退化问题。 展开更多
关键词 ALGAN/GAN HEMT器件 表面态 势垒层陷阱 高场应力
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