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表面化学分析与标准化 被引量:2
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作者 刘芬 《分析测试技术与仪器》 CAS 2013年第3期182-190,共9页
对表面化学分析标准化作了概述.介绍了标准管理机构和标准制订程序.还介绍了表面化学分析的相关标准和标准应用实例.
关键词 表面化学分析 标准化 电子能谱
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硅片表面超薄氧化硅层厚度测量关键比对CCQM—K32
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作者 王海 刘芬 +3 位作者 阚莹 宋小平 赵良仲 邱丽美 《计量学报》 CSCD 北大核心 2013年第6期617-622,共6页
利用X射线光电子能谱技术,建立了硅片表面超薄氧化硅层厚度(小于10nm)准确测量方法。中国计量科学研究院参加了国际关键比对CCQM—K32,根据公布的国际关键比对结果,中国计量科学研究院的测量结果与参比的各国国家计量研究院的测量... 利用X射线光电子能谱技术,建立了硅片表面超薄氧化硅层厚度(小于10nm)准确测量方法。中国计量科学研究院参加了国际关键比对CCQM—K32,根据公布的国际关键比对结果,中国计量科学研究院的测量结果与参比的各国国家计量研究院的测量结果达到了等效一致,测量结果的不确定度为4.6%~7.0%。 展开更多
关键词 计量学 厚度测量 栅氧化层 SIO2 Si 表面化学分析 X射线光电子能谱 关键比对
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