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表面化学分析与标准化
被引量:
2
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作者
刘芬
《分析测试技术与仪器》
CAS
2013年第3期182-190,共9页
对表面化学分析标准化作了概述.介绍了标准管理机构和标准制订程序.还介绍了表面化学分析的相关标准和标准应用实例.
关键词
表面化学分析
标准化
电子能谱
下载PDF
职称材料
硅片表面超薄氧化硅层厚度测量关键比对CCQM—K32
2
作者
王海
刘芬
+3 位作者
阚莹
宋小平
赵良仲
邱丽美
《计量学报》
CSCD
北大核心
2013年第6期617-622,共6页
利用X射线光电子能谱技术,建立了硅片表面超薄氧化硅层厚度(小于10nm)准确测量方法。中国计量科学研究院参加了国际关键比对CCQM—K32,根据公布的国际关键比对结果,中国计量科学研究院的测量结果与参比的各国国家计量研究院的测量...
利用X射线光电子能谱技术,建立了硅片表面超薄氧化硅层厚度(小于10nm)准确测量方法。中国计量科学研究院参加了国际关键比对CCQM—K32,根据公布的国际关键比对结果,中国计量科学研究院的测量结果与参比的各国国家计量研究院的测量结果达到了等效一致,测量结果的不确定度为4.6%~7.0%。
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关键词
计量学
厚度测量
栅氧化层
SIO2
Si
表面化学分析
X射线光电子能谱
关键比对
下载PDF
职称材料
题名
表面化学分析与标准化
被引量:
2
1
作者
刘芬
机构
中国科学院化学研究所
出处
《分析测试技术与仪器》
CAS
2013年第3期182-190,共9页
文摘
对表面化学分析标准化作了概述.介绍了标准管理机构和标准制订程序.还介绍了表面化学分析的相关标准和标准应用实例.
关键词
表面化学分析
标准化
电子能谱
Keywords
surface
chemical
analysis
standardization
electron
spectroscopy
分类号
O651 [理学—分析化学]
下载PDF
职称材料
题名
硅片表面超薄氧化硅层厚度测量关键比对CCQM—K32
2
作者
王海
刘芬
阚莹
宋小平
赵良仲
邱丽美
机构
中国计量科学研究院
中国科学院化学研究所
出处
《计量学报》
CSCD
北大核心
2013年第6期617-622,共6页
基金
国家科技基础条件平台建设项目(2005DKAl0800/2005DKAl0806)
质检公益性行业科研专项项目(10-199)
文摘
利用X射线光电子能谱技术,建立了硅片表面超薄氧化硅层厚度(小于10nm)准确测量方法。中国计量科学研究院参加了国际关键比对CCQM—K32,根据公布的国际关键比对结果,中国计量科学研究院的测量结果与参比的各国国家计量研究院的测量结果达到了等效一致,测量结果的不确定度为4.6%~7.0%。
关键词
计量学
厚度测量
栅氧化层
SIO2
Si
表面化学分析
X射线光电子能谱
关键比对
Keywords
Metrology
Thickness
measurement
Gate
oxide
Si02/Si
surface
chemical
analysis
X-ray
photoelectronspectroscopy
Key
comparison
分类号
TB99 [一般工业技术—计量学]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
表面化学分析与标准化
刘芬
《分析测试技术与仪器》
CAS
2013
2
下载PDF
职称材料
2
硅片表面超薄氧化硅层厚度测量关键比对CCQM—K32
王海
刘芬
阚莹
宋小平
赵良仲
邱丽美
《计量学报》
CSCD
北大核心
2013
0
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职称材料
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