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高分子沉淀剂在HPLC法检测防腐剂时抗化妆品基质干扰的效果研究
被引量：
1
1
作者
张华珺
刘钊
+1 位作者
刘齐
张蓉
《日用化学品科学》
CAS
2017年第2期11-15,共5页
选用霜、乳、液3类化妆品为研究对象,考察高分子沉淀剂对HPLC法检测防腐剂过程中的抗基质干扰效果。实验发现乙酸锌、亚铁氰化钾联合使用可有效去除霜、乳、液3类化妆品基质对防腐剂测定的干扰,12种防腐剂的色谱峰峰型尖锐对称,无杂峰干...
选用霜、乳、液3类化妆品为研究对象,考察高分子沉淀剂对HPLC法检测防腐剂过程中的抗基质干扰效果。实验发现乙酸锌、亚铁氰化钾联合使用可有效去除霜、乳、液3类化妆品基质对防腐剂测定的干扰,12种防腐剂的色谱峰峰型尖锐对称,无杂峰干扰,线性相关系数均大于0.999 9,方法相对标准偏差小于2%,回收率为90%~104%。
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关键词
化妆品
防腐剂
高分子沉淀剂
基质干扰
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职称材料
题名
高分子沉淀剂在HPLC法检测防腐剂时抗化妆品基质干扰的效果研究
被引量：
1
1
作者
张华珺
刘钊
刘齐
张蓉
机构
北京市药品检验所
出处
《日用化学品科学》
CAS
2017年第2期11-15,共5页
文摘
选用霜、乳、液3类化妆品为研究对象,考察高分子沉淀剂对HPLC法检测防腐剂过程中的抗基质干扰效果。实验发现乙酸锌、亚铁氰化钾联合使用可有效去除霜、乳、液3类化妆品基质对防腐剂测定的干扰,12种防腐剂的色谱峰峰型尖锐对称,无杂峰干扰,线性相关系数均大于0.999 9,方法相对标准偏差小于2%,回收率为90%~104%。
关键词
化妆品
防腐剂
高分子沉淀剂
基质干扰
Keywords
cosmetics
preservative
polymeric
precipitant
substrate
impurities
分类号
TQ658 [化学工程—精细化工]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高分子沉淀剂在HPLC法检测防腐剂时抗化妆品基质干扰的效果研究
张华珺
刘钊
刘齐
张蓉
《日用化学品科学》
CAS
2017
1
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