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Microstructure and Mechanical Property of Magnetron Sputtering Deposited DLC Film 被引量:2
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作者 孙泽 ZHAO Wen 孔德军 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2018年第3期579-584,共6页
A diamond-like carbon(DLC) film was deposited on YT14 substrate using magnetron sputtering(MS). The surface morphologies, roughness and bonding spectra of obtained film were characterized using scanning electron m... A diamond-like carbon(DLC) film was deposited on YT14 substrate using magnetron sputtering(MS). The surface morphologies, roughness and bonding spectra of obtained film were characterized using scanning electron microscopy(SEM), atomic force microscopy(AFM), and X-ray photoelectron spectroscopy(XPS), respectively, and its mechanical property and bonding strength were measured using a nanoindentation and scratch tester, respectively. The results show that the C-enriched DLC film exhibits a denser microstructure and smoother surface with lower surface roughness of 21.8 nm. The ratio of C sp2 at 284.4 e V that corresponds to the diamond(111) and the C sp3 at 285.3 e V that corresponds to the diamond(220) plane for the as-received film is 0.36: 0.64, showing that the C sp3 has the high content. The hardness and Young's modulus of DLC film by nanoindentation are 8.534 41 and 142.158 1 GPa, respectively, and the corresponding bonding strength is 74.55 N by scratch test. 展开更多
关键词 diamond-like carbon(DLC) film magnetron sputteringms atomic force microscope (AFM) X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) nanoindentation
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锆合金表面磁控溅射与多弧离子镀Cr涂层的高温抗氧化性能 被引量:25
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作者 黄鹤 邱长军 +3 位作者 陈勇 胡良斌 刘艳红 李怀林 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期51-58,共8页
为了研究磁控溅射(MS)和多弧离子镀(MAIP)技术制备Cr涂层的高温抗氧化性能,分别在锆合金表面制备厚度约5μm的Cr涂层。利用氧化动力学曲线对比研究800℃条件下涂层的高温抗氧化性能,利用SEM、XRD、EDS分析涂层表面形貌和相结构。结果表... 为了研究磁控溅射(MS)和多弧离子镀(MAIP)技术制备Cr涂层的高温抗氧化性能,分别在锆合金表面制备厚度约5μm的Cr涂层。利用氧化动力学曲线对比研究800℃条件下涂层的高温抗氧化性能,利用SEM、XRD、EDS分析涂层表面形貌和相结构。结果表明:磁控溅射和多弧离子镀Cr涂层均能显著提高锆合金的高温抗氧化性能;磁控溅射Cr涂层表面光滑、致密,但涂层表面存在一定数量的孔洞,占涂层表面积0.40%,氧化7 h后涂层表面出现裂纹,单位面积氧化增重6.434 mg/cm2;与磁控溅射Cr涂层相比,多弧离子镀Cr涂层不再有(211)单一择优取向,Cr涂层厚度均匀,表面平整,膜/基界面分明,孔洞相对较少,占涂层表面积0.21%,氧化7 h后涂层表面依然致密,单位面积氧化增重5.616 mg/cm2,高温抗氧化性能优于磁控溅射Cr涂层。 展开更多
关键词 磁控溅射 多弧离子镀 Cr涂层 孔洞 高温抗氧化性能
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磁控溅射薄膜沉积速率的研究 被引量:10
3
作者 惠迎雪 杭凌侠 徐均琪 《西安工业学院学报》 2005年第4期307-310,共4页
沉积速率是影响薄膜性能的重要参数,直接影响着薄膜质量的优劣.本文采用磁控溅射方法,在玻璃基底上沉积钛膜.通过对比研究了平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射两种工作模式下,靶基距、氩气流量等工艺参数对沉积速率的影响,同时测试了非平衡... 沉积速率是影响薄膜性能的重要参数,直接影响着薄膜质量的优劣.本文采用磁控溅射方法,在玻璃基底上沉积钛膜.通过对比研究了平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射两种工作模式下,靶基距、氩气流量等工艺参数对沉积速率的影响,同时测试了非平衡磁控溅射线圈励磁电流大小变化对薄膜沉积速率的影响.结果表明:磁控溅射源以非平衡模式工作时,线圈励磁电流在60~180 A范围内,沉积速率随励磁电流的调整而变化;磁控溅射薄膜沉积速率随靶基距的增大而下降;相同工艺条件下,非平衡模式下薄膜沉积速率高于平衡模式,且更易受到氩气流量变化的影响. 展开更多
关键词 磁控溅射 非平衡磁控溅射 沉积速率 工艺参数
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磁控溅射离子束流密度的研究 被引量:7
4
作者 徐均琪 杭凌侠 蔡长龙 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期74-76,共3页
磁控溅射镀膜技术由于具有显著的优点而得到了广泛的应用。磁控溅射离子束流密度的大小及分布状况 ,直接决定着薄膜质量的优劣。本文通过对比研究了普通磁控溅射 (MS)和非平衡磁控溅射 (UBMS)两种工作模式下 ,氩气流量、负偏压等工艺参... 磁控溅射镀膜技术由于具有显著的优点而得到了广泛的应用。磁控溅射离子束流密度的大小及分布状况 ,直接决定着薄膜质量的优劣。本文通过对比研究了普通磁控溅射 (MS)和非平衡磁控溅射 (UBMS)两种工作模式下 ,氩气流量、负偏压等工艺参数对离子束流密度大小的影响 ,测试了基片架附近的离子密度 ,分析讨论了测试结果。 展开更多
关键词 磁控溅射镀膜 离子束流密度 氩气 磁通量
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多晶硅薄膜太阳电池 被引量:8
5
作者 何海洋 陈诺夫 +6 位作者 李宁 白一鸣 仲琳 弭辙 辛雅焜 吴强 高征 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2013年第3期137-142,166,共7页
多晶硅薄膜太阳电池因兼具低材料消耗、低成本、高稳定性及多晶硅薄膜微电子器件的成熟工艺而备受瞩目。对多晶硅薄膜太阳电池的结构和制备工艺流程进行了详细阐述,指出当前多晶硅薄膜太阳电池的关键研究方向,即衬底的选择和高质量多晶... 多晶硅薄膜太阳电池因兼具低材料消耗、低成本、高稳定性及多晶硅薄膜微电子器件的成熟工艺而备受瞩目。对多晶硅薄膜太阳电池的结构和制备工艺流程进行了详细阐述,指出当前多晶硅薄膜太阳电池的关键研究方向,即衬底的选择和高质量多晶硅薄膜的实现。特别是针对高质量多晶硅薄膜的制备,系统地介绍了化学气相沉积(CVD)、磁控溅射(MS)、固相晶化(SPC)、激光晶化(LC)以及快速热退火(RTA)等制备方法的工作原理、特点和优劣。综合阐述了各项技术的发展现状,并对上述技术及其在多晶硅薄膜太阳电池中的应用前景进行了客观评述与展望。 展开更多
关键词 太阳电池 多晶硅薄膜 化学气相沉积(CVD) 磁控溅射(ms) 快速热退火(RTA)
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Mechanical and corrosion properties of Al/Ti film on magnesium alloy AZ31B 被引量:3
6
作者 Rong-Chang ZENG KeJIANG +3 位作者 Shuo-Qi LI Fen ZHANG Hong-Zhi CUI En-Hou HAN 《Frontiers of Materials Science》 SCIE CSCD 2015年第1期66-76,共11页
Preparation of titanium film on magnesium substrate faces a challenge due to non-Fickian inter-diffusion between titanium and magnesium. Aluminum can build a bridge between titanium and magnesium. Al/Ti duplex coating... Preparation of titanium film on magnesium substrate faces a challenge due to non-Fickian inter-diffusion between titanium and magnesium. Aluminum can build a bridge between titanium and magnesium. Al/Ti duplex coatings were deposited on magnesium alloy AZ31B using magnetron sputtering (MS). The low temperature diffusion bonding behavior of the MglAl/Ti coating was investigated through SEM and its affiliated EDS. The phase structure and critical load of the coatings were examined by means of XRD and scratch tests, respectively, The results demonstrated that the bonding strength was significantly improved after a post heat treatment (HT) at a temperature of 210℃. The diffusion mechanism of the interfaces of MglAI and Al/Ti in the coating was discussed based on the analysis of formation energy of vacancies and diffusion rates. The Al/Ti dual layer enhanced the corrosion resistance of the alloy. And the HT process further increased the corrosion resistance of the coated alloy. This result implies that a post HTat a lower temperature after MS is an effective approach to enhance the bonding strength and corrosion resistance of the Al/Ti film on Mg alloys. 展开更多
关键词 magnesium alloy aluminum/titanium coating magnetron sputtering ms DIFFUSION bonding strength
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闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀离化特性研究 被引量:2
7
作者 贺耀华 鲍明东 +2 位作者 贺志勇 梁柔 王英芹 《真空》 CAS 北大核心 2010年第3期24-26,共3页
应用闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀系统,研究了溅射靶电流、偏压和Ar流量对偏流密度的影响。结果表明,偏流密度随着偏压和靶电流的升高而增大,但随偏压的提高偏流密度的增加趋势趋于平缓;偏流密度随着Ar流量的增大而出现峰值。
关键词 磁控溅射 离子镀 离化率 偏流密度
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太阳能高反射薄膜制备技术对薄膜性能的影响 被引量:2
8
作者 李海兵 徐勇军 +2 位作者 蔡其文 涂伟萍 廖俊旭 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期34-40,共7页
采用磁过滤阴极真空弧沉积(FCVAD)与磁控溅射(MS)两种技术在玻璃上制备厚度分别为75 nm和165 nm的Glass/Al高反射薄膜,利用Lambda 950分光光度计、扫描电子显微镜、原子力显微镜、附着力测试仪、摩擦试验机和加速老化试验箱分别表... 采用磁过滤阴极真空弧沉积(FCVAD)与磁控溅射(MS)两种技术在玻璃上制备厚度分别为75 nm和165 nm的Glass/Al高反射薄膜,利用Lambda 950分光光度计、扫描电子显微镜、原子力显微镜、附着力测试仪、摩擦试验机和加速老化试验箱分别表征薄膜的反射率、表面形貌、粗糙度、附着力、耐摩擦和耐老化性能,通过薄膜性能评估分析两种技术制备高反射膜性能的差异。结果表明:在双方优化工艺下,FCVAD制备的薄膜表面形貌和附着力优于MS薄膜;FCVAD制备的75 nm和165 nm薄膜反射率比同厚度MS薄膜高出3.3%-4.2%;75 nm厚的薄膜方均根粗糙度明显小于同厚度的MS薄膜;FCVAD制备的75 nm薄膜老化后反射率仅下降1.2%,而MS同厚度薄膜反射率下降了3.3%-4%。说明FCVAD在制备高反射膜方面比磁控溅射更有优势。 展开更多
关键词 光学薄膜 物理气相沉积 磁过滤阴极真空弧沉积 磁控溅射 高反射膜
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仿Morpho蝶翅微纳结构制备及其光学特性 被引量:1
9
作者 廖广兰 江婷 +1 位作者 江轩 史铁林 《华中科技大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第12期21-25,共5页
以Morpho Rhetenor蝴蝶鳞翅为研究对象,采用光学显微镜和电子显微镜对其蝶翅表面结构进行分析,提出一种易于操作、成本低的仿蝶翅微纳结构制备方法.以Morpho Rhetenor鳞片为生物模板,采用磁控溅射技术,借助烧结成型工艺,制备出仿蝶翅结... 以Morpho Rhetenor蝴蝶鳞翅为研究对象,采用光学显微镜和电子显微镜对其蝶翅表面结构进行分析,提出一种易于操作、成本低的仿蝶翅微纳结构制备方法.以Morpho Rhetenor鳞片为生物模板,采用磁控溅射技术,借助烧结成型工艺,制备出仿蝶翅结构的Al2O3和ZnO反结构产物.再采用Rsoft软件对蝶翅结构及蝶翅样本的Al2O3和ZnO遗态结构进行光学仿真模拟,与实测的蝶翅样本反射谱进行比较.研究表明:仿真结果与所制备出的仿蝶翅微纳结构颜色及用低温原子层沉积工艺、溶胶凝胶等方法得到的结果较为近似,从而印证了该工艺的可行性,也为仿生微纳结构的制备及其应用提供了一条具有参考性的途径. 展开更多
关键词 仿生微纳制造 蝶翅 磁控溅射技术 Rsoft仿真 光学特性
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MgB2/Mo多层膜的制备与超导性质
10
作者 周章渝 肖寒 +4 位作者 王松 张青竹 王代强 陈雨青 傅兴华 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第8期2711-2715,共5页
采用磁控溅射技术(MS)和混合物理化学气相沉积法(HPCVD)在单晶Al2O3基底上制备MgB2/Mo多层膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和标准四线法对样品的表面形貌、晶体结构和超导特性进行了测量研究。结果表明,随着后续MgB2沉积... 采用磁控溅射技术(MS)和混合物理化学气相沉积法(HPCVD)在单晶Al2O3基底上制备MgB2/Mo多层膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和标准四线法对样品的表面形貌、晶体结构和超导特性进行了测量研究。结果表明,随着后续MgB2沉积温度的提高,各膜层结晶程度进一步提高,晶粒尺寸不断增大,各自保持着良好的物质稳定性。在730℃下生长的MgB2薄膜的超导转变温度Tconset和零电阻温度Tc0分别为39.73和39.53 K,剩余电阻率ρ40K为0.77μΩ·cm,表明样品处于干净极限。 展开更多
关键词 混合物理化学气相沉积法 磁控溅射技术 MgB2/Mo多层膜
原文传递
沉积压强对Sc掺杂ZnO薄膜性能的影响 被引量:6
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作者 缪存星 赵占霞 +2 位作者 栗敏 徐飞 马忠权 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期139-143,共5页
利用射频磁控溅射方法,采用Sc2O3掺杂(质量百分比2%)ZnO为靶材在石英玻璃上制备透明导电ZnO:Sc(SZO)薄膜。用X射线衍射仪、分光光度计及霍尔测试仪等对样品进行表征,分析了沉积压强从0.3Pa到2.0Pa的变化对SZO薄膜的微结构及光学特性的... 利用射频磁控溅射方法,采用Sc2O3掺杂(质量百分比2%)ZnO为靶材在石英玻璃上制备透明导电ZnO:Sc(SZO)薄膜。用X射线衍射仪、分光光度计及霍尔测试仪等对样品进行表征,分析了沉积压强从0.3Pa到2.0Pa的变化对SZO薄膜的微结构及光学特性的影响。XRD研究结果表明所有样品都是六角密堆积结构,而且溅射压强对SZO薄膜的微结构有着显著的影响。所有SZO薄膜的透过率在可见光区域均大于85%,近紫外区域由于吸收,透射率大大降低。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 SZO薄膜 溅射压强 透明导电氧化物
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