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多孔压敏荧光粒子的制备与流场压力/速度测量的性能表征 被引量：1
1
作者 谷丰 彭迪 +1 位作者 温新 刘应征 《实验流体力学》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期72-78,共7页
开发了一类微米级压敏荧光粒子。该粒子由表面多孔的空心二氧化硅(SiO_2)粒子与压敏荧光材料(PtTFPP和Ru(dpp))融合而成。通过浸染方法使压敏荧光分子附着于粒子上,形成多功能示踪粒子,从而将粒子图像速度场测量技术(Particle Image Vel... 开发了一类微米级压敏荧光粒子。该粒子由表面多孔的空心二氧化硅(SiO_2)粒子与压敏荧光材料(PtTFPP和Ru(dpp))融合而成。通过浸染方法使压敏荧光分子附着于粒子上,形成多功能示踪粒子,从而将粒子图像速度场测量技术(Particle Image Velocimetry,PIV)与压敏漆(Pressure Sensitive Paint,PSP)技术相结合,发展了一种流场压力与速度同步测量的技术,为流体力学研究提供一种崭新的实验测量手段。利用PSP静态与动态标定系统,对压敏粒子的信号强度、压力敏感性与压力响应时间进行了测量,研究了不同粒径和不同材料对压敏粒子性能的影响。测量结果表明,制备的压敏粒子具有较好的压力敏感性,其压力响应时间区间为40～70μm,符合测量流场瞬态压力的需求。分析了粒子在流场中的跟随性能,其中2μm粒子松弛时间为7.5μs,有较好的跟随性能。 展开更多
关键词 多孔粒子 PSP PIV 压力速度同步测量
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