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基于光子晶体纳米梁腔的反射壁下载型电光调制器
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作者 朱文玲 陈鹤鸣 +1 位作者 徐文凯 胡宇宸 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第19期21-29,共9页
随着光通信产业和光互联技术的高速发展,具有高调制速率且易集成的小尺寸电光调制器件研究越来越重要。提出了一种以硅绝缘体(SOI)材料为基底的光子晶体纳米梁腔(PCNC)反射壁下载型电光调制器。信号光经过主线波导后首先被锥形波导耦合... 随着光通信产业和光互联技术的高速发展,具有高调制速率且易集成的小尺寸电光调制器件研究越来越重要。提出了一种以硅绝缘体(SOI)材料为基底的光子晶体纳米梁腔(PCNC)反射壁下载型电光调制器。信号光经过主线波导后首先被锥形波导耦合进一维光子晶体纳米梁腔中,然后进入下载波导并输出。优化主线波导与下载波导中反射圆孔的位置与个数,可以提高器件的整体透射率。纳米梁腔采用圆孔形渐变孔径,使得光束更好地被束缚在腔内。同时,在纳米梁腔两侧引入掺杂以形成PN结,施加较低偏压以改变纳米梁腔的谐振波长,从而实现工作波长光信号的“通”“断”调制。运用三维时域有限差分(3D‐FDTD)法对调制器的光学特性和电学性能进行仿真分析。结果表明,该电光调制器可以实现波长为1550.01 nm的光信号调制,调制电压仅为1.2 V,插入损耗为0.2 dB,消光比为24 dB,面积仅为54μm2,调制速率为8.7 GHz,调制带宽为122 GHz,调制速率下的能耗仅为4.17 pJ/bit。所提出的电光调制器结构紧凑,性能优异,有望应用于高速大容量光通信系统和集成硅光子技术等领域。 展开更多
关键词 光通信 载流子色散效应 时域有限差分法 光子晶体纳米梁腔 硅基波导 电光调制器
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基于远程抄表通信技术的新型波导设计
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作者 罗毅 《实验技术与管理》 CAS 北大核心 2017年第3期52-54,59,共4页
为了解决表面等离子器件尺寸过大、不能通用集成的问题,采用对称梯形、金属-介质-金属结构,设计了一种新型的能够光电集成的硅基波导。设计波导的芯层面积越大局域化强度更高,梯形波导顶角145°时局域因子能够达到96.8%;内部芯层越... 为了解决表面等离子器件尺寸过大、不能通用集成的问题,采用对称梯形、金属-介质-金属结构,设计了一种新型的能够光电集成的硅基波导。设计波导的芯层面积越大局域化强度更高,梯形波导顶角145°时局域因子能够达到96.8%;内部芯层越宽电场局域化程度越高,传输距离越长;当芯宽50nm时,梯形波导间距大于900nm能提高耦合效率、降低干扰的影响。 展开更多
关键词 硅基波导 波导设计 光电集成 表面等离子
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基于硅十字缝隙波导结构的偏振无关微环型谐振腔的设计与模拟(英文)
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作者 耿敏明 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2016年第2期176-181,共6页
分析了硅基十字缝隙波导(SCSW)偏振敏感的原因,计算了不同偏振态下SCSW的有效折射率和单模工作条件,分析发现通过合理的设计单模SCSW的结构,可以达到偏振不敏感。提出并模拟了基于SCSW的具有偏振无关特性的微环形谐振腔。该谐振腔的半径... 分析了硅基十字缝隙波导(SCSW)偏振敏感的原因,计算了不同偏振态下SCSW的有效折射率和单模工作条件,分析发现通过合理的设计单模SCSW的结构,可以达到偏振不敏感。提出并模拟了基于SCSW的具有偏振无关特性的微环形谐振腔。该谐振腔的半径为3.7μm,偏振无关的工作区域大约64 nm,自由光谱范围大约35 nm。 展开更多
关键词 集成光学 微环型谐振腔 十字缝隙波导 偏振无关 硅基波导
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硅基光波导及光波导开关的研究进展 被引量:11
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作者 魏红振 余金中 +1 位作者 刘忠立 王启明 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1999年第6期369-376,共8页
SiO2 光波导、重掺杂光波导、SOI光波导、合金光波导及聚合物光波导等低损耗硅基光波导的研究已取得了很大的进展,随着这些波导的硅基光开关不断研制出来,各种光开关结构也不断提出来了。为了解决硅的线性电光系数为零的问题... SiO2 光波导、重掺杂光波导、SOI光波导、合金光波导及聚合物光波导等低损耗硅基光波导的研究已取得了很大的进展,随着这些波导的硅基光开关不断研制出来,各种光开关结构也不断提出来了。为了解决硅的线性电光系数为零的问题,采用了多种方法,以获得强的线性电光效应,实现高速光开关。文章回顾了近十年来硅基光波导及光开关的研究进展。 展开更多
关键词 光波导 光电集成 光开关 硅基光波导
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中红外硅基光波导的发展现状
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作者 冯露露 冯松 +3 位作者 胡祥建 陈梦林 刘勇 王迪 《电子科技》 2024年第2期36-45,共10页
作为硅光子集成芯片中基本无源器件的硅基光波导是进行光信号传输的通道,其具有良好的性能,且与CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)工艺相兼容因而得到广泛应用。用于电信和数据中心的硅光子集成电路已逐步走向商业化。近年... 作为硅光子集成芯片中基本无源器件的硅基光波导是进行光信号传输的通道,其具有良好的性能,且与CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)工艺相兼容因而得到广泛应用。用于电信和数据中心的硅光子集成电路已逐步走向商业化。近年来,中红外波段在自由空间通信、传感以及环境监测等领域的潜在应用受到研究者们的广泛关注。文中分析了中红外硅基光波导的研究现状,归纳了SOI(Silicon on Insulator)、GOSI(Ge-on-SOI)、SOS(Si on Sapphire)、GOS(Ge-on-Si)、SGOS(SiGe-on-Si)、SON(Si-on Si_(3)N_(4))、GON(Ge-on Si_(3)N_(4))等波导材料平台和SOPS(Si on Porous Si)、Undercut、Pedestal、Freestanding、Suspended、LOCOS(Local Oxidation of Silicon)以及等离子体结构等制造工艺平台的研究成果。迄今为止,多数单晶硅在MIR(Mid-Infrared)平台的传播损耗大约在0.7~3.0 dB·cm^(-1)。文中讨论并对比了不同类型波导的应用前景,为中红外硅基光波导的研发、应用和商业化提供了参考。 展开更多
关键词 中红外 硅光子学 无源器件 硅基光波导 绝缘体上硅 锗硅 传播损耗 工作波长
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硅基光子集成芯片光纤陀螺 被引量:1
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作者 毛玉政 何建 +3 位作者 谢良平 万洵 崔志超 李艾伦 《中国惯性技术学报》 EI CSCD 北大核心 2023年第2期202-206,212,共6页
光纤陀螺用于敏感载体旋转角速率,是惯性导航系统的核心传感器之一。未来军用及民用领域对小体积、低成本的光纤陀螺需求巨大。利用光子集成芯片代替传统光纤分立器件,借助集成光学光刻工艺大规模批量生产的优势,降低生产成本,提高出货... 光纤陀螺用于敏感载体旋转角速率,是惯性导航系统的核心传感器之一。未来军用及民用领域对小体积、低成本的光纤陀螺需求巨大。利用光子集成芯片代替传统光纤分立器件,借助集成光学光刻工艺大规模批量生产的优势,降低生产成本,提高出货量,是光纤陀螺发展的重要方向。因此,在充分考虑目前国内微纳加工水平基础上,提出了一种工艺实现相对简单、可快速工程化的硅基光子集成芯片光纤陀螺设计方案。基于开环光纤陀螺架构,设计并加工了硅基光子芯片,实现了陀螺全部无源器件的片上集成,光子芯片尺寸约4 mm×3 mm;设计加工了四通道超细径保偏光纤阵列,实现波导与光纤多个耦合点的一次对准,大幅提高耦合封装效率;实现了光子集成芯片光纤陀螺样机25℃时零偏稳定性达到0.2°/h,性能优于相同结构的传统全光纤器件光纤陀螺。 展开更多
关键词 光纤陀螺 光子集成芯片 硅基光波导 超细径保偏光纤阵列
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硅基波导谐振腔特性分析与实验研究 被引量:3
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作者 于怀勇 吴衍记 +1 位作者 雷明 李宗利 《导航定位与授时》 2015年第2期46-53,共8页
给出了硅基二氧化硅波导谐振腔的整体设计结构和谐振腔的传递函数及考虑光源线宽情况下特征参数的数学表达式。仿真分析了耦合器分光比、波导传输损耗、谐振腔腔长、激光器谱宽对谐振腔特性的影响。研究了硅基二氧化硅波导的加工工艺并... 给出了硅基二氧化硅波导谐振腔的整体设计结构和谐振腔的传递函数及考虑光源线宽情况下特征参数的数学表达式。仿真分析了耦合器分光比、波导传输损耗、谐振腔腔长、激光器谱宽对谐振腔特性的影响。研究了硅基二氧化硅波导的加工工艺并针对其关键因素——光刻工艺实验验证了其曝光时间与显影对波导芯片的影响。最后对比了实验测试结果与理论仿真谐振曲线,吻合度良好。 展开更多
关键词 集成光学 硅基波导谐振腔 多光束干涉 实验研究
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Propagation characteristics of parallel dark solitons in silicon-on-insulator waveguide
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作者 Zhen Liu Weiguo Jia +3 位作者 Yang Wang Hongyu Wang Neimule Men-Ke Jun-Ping Zhang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第1期265-271,共7页
The propagation characteristic of two identical and parallel dark solitons in a silicon-on-insulator(SOI)waveguide is simulated numerically using the split-step Fourier method.The parallel dark solitons imposed by the... The propagation characteristic of two identical and parallel dark solitons in a silicon-on-insulator(SOI)waveguide is simulated numerically using the split-step Fourier method.The parallel dark solitons imposed by the initial chirp are investigated mainly by changing their power,their relative time delay.The simulation shows that the time delay deforms the parallel dark soliton pulse,forming a bright-like soliton in the transmission process and making the transmission quality down.By increasing the power of one dark soliton,the energy of the other dark soliton can be increased,and larger increase in a soliton’s power leads to larger increase in the energy of the other.When the initial chirp is introduced into one of the dark solitons,higher energy consumption is observed.In particular,positive chirps resulting in pulse broadening width while negative chirps narrowing,with an obvious compression effect on the other dark soliton.Finally,large negative chirps are found to have a profound impact on parallel and nonparallel dark solitons. 展开更多
关键词 silicon-based optical waveguide dark soliton nonlinear effect INTERACTION
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金属辅助化学刻蚀太赫兹腔体器件仿真分析
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作者 张杰 赵豪杰 +1 位作者 桑磊 黄文 《微波学报》 CSCD 北大核心 2020年第S01期321-324,共4页
本文提出了一种基于金属辅助化学刻蚀(MacEtch)的太赫兹形矩形波导及带通滤波器的制造方法,该方法有能力制作腔壁粗糙度低,垂直度高,制造公差精度高的硅基矩形波导和带通滤波器结构。相对于使用常见的深硅反应离子刻蚀(DRIE)工艺,能够... 本文提出了一种基于金属辅助化学刻蚀(MacEtch)的太赫兹形矩形波导及带通滤波器的制造方法,该方法有能力制作腔壁粗糙度低,垂直度高,制造公差精度高的硅基矩形波导和带通滤波器结构。相对于使用常见的深硅反应离子刻蚀(DRIE)工艺,能够有效减少由于粗糙度和制造公差带来的插入损耗和频率偏移。基于粗糙度Huray模型和有限元仿真分析得到MacEtch太赫兹矩形波导的平均插入损耗在0.75THz^1.15THz频段,相对于使用DRIE制作出的相同器件降低了0.15dB/mm;频率偏移减少了3GHz^6GHz。 展开更多
关键词 金属辅助化学刻蚀 硅基矩形波导 硅基带通滤波器 太赫兹
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基于端面耦合的InP基激光器/硅光波导混合集成技术研究
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作者 王艳 王东辰 +3 位作者 徐鹏霄 唐光华 尤国庆 孔月婵 《光电子技术》 CAS 北大核心 2020年第1期13-18,共6页
针对硅光子集成回路缺少实用化光源的问题,提出了一种1.55μm波段InP基FP激光器芯片、InP基PIN光电探测器芯片与硅光波导芯片集成模块的设计与制备方法。使用CMOS工艺兼容的硅光无源器件制备工艺,设计并制备了倒拉锥型端面耦合器,与锥... 针对硅光子集成回路缺少实用化光源的问题,提出了一种1.55μm波段InP基FP激光器芯片、InP基PIN光电探测器芯片与硅光波导芯片集成模块的设计与制备方法。使用CMOS工艺兼容的硅光无源器件制备工艺,设计并制备了倒拉锥型端面耦合器,与锥形透镜光纤耦合效率为36.7%。采用微组装对准技术将激光器芯片与硅波导芯片耦合、UV固化胶固化后耦合效率为35.8%,1 dB耦合对准容差横向为1.2μm,纵向为0.95μm。 展开更多
关键词 InP基激光器 硅光波导 端面耦合 混合集成
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用氧化多孔硅方法制备厚的SiO_2膜及其微观分析 被引量:8
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作者 欧海燕 杨沁清 +4 位作者 雷红兵 王红杰 余金中 王启明 胡雄伟 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期260-263,共4页
用氧化多孔硅的方法来制备厚的 Si O2 成本低 ,省时 .氧化硅膜的厚度 ,表面粗糙度和组分这三个参数 ,对波导器件的性能有重要影响 ,扫描电子显微镜 ( SEM)、原子力显微镜 ( AFM)和俄歇分析得到 :氧化的多孔硅的膜厚已达 2 1 .2μm;表面... 用氧化多孔硅的方法来制备厚的 Si O2 成本低 ,省时 .氧化硅膜的厚度 ,表面粗糙度和组分这三个参数 ,对波导器件的性能有重要影响 ,扫描电子显微镜 ( SEM)、原子力显微镜 ( AFM)和俄歇分析得到 :氧化的多孔硅的膜厚已达 2 1 .2μm;表面粗糙度在 1 nm以内 ,Si和 O的组分比为 1∶ 1 .90 6.这些结果表明 ,用氧化多孔硅方法制备的厚 Si O2 展开更多
关键词 厚二氧化硅 氧化多孔硅 薄膜 微观分析
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硅基二氧化硅光波导器件偏振特性的理论分析 被引量:3
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作者 欧海燕 雷红兵 +3 位作者 杨沁清 王红杰 王启明 胡雄伟 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期122-124,共3页
从理论上分析了硅基二氧化硅光波导器件的芯区尺寸、相对折射率差、内应力和弯曲半径对器件偏振特性的影响 ,得出结论 :小折射率差的正方形波导的双折射系数小 ;内应力对双折射的影响比几何参数大 ;弯曲半径较小时 ,双折射系数较大 ,弯... 从理论上分析了硅基二氧化硅光波导器件的芯区尺寸、相对折射率差、内应力和弯曲半径对器件偏振特性的影响 ,得出结论 :小折射率差的正方形波导的双折射系数小 ;内应力对双折射的影响比几何参数大 ;弯曲半径较小时 ,双折射系数较大 ,弯曲损耗也较大。 展开更多
关键词 偏振 线双折射 硅基二氧化硅光波导器件
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硅基集成光波导放大器的最新研究进展 被引量:3
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作者 陈子萍 舒浩文 王兴军 《中国科学:物理学、力学、天文学》 CSCD 北大核心 2017年第12期1-19,共19页
在信息化进程中,随着摩尔定律越来越接近极限,将微电子和光电子结合起来,开发硅基大规模光电子集成技术已经成为技术发展的必然和业界的普遍共识.在硅基光电子集成器件中,硅基光源是重中之重.虽然硅是间接带隙半导体材料,发光效率很低,... 在信息化进程中,随着摩尔定律越来越接近极限,将微电子和光电子结合起来,开发硅基大规模光电子集成技术已经成为技术发展的必然和业界的普遍共识.在硅基光电子集成器件中,硅基光源是重中之重.虽然硅是间接带隙半导体材料,发光效率很低,但人们一直没有放弃制备硅基光源.硅基光源包括硅基光波导放大器、发光二极管、激光器等,其中硅基光波导放大器又是激光器的基础,是硅基光电子集成回路中不可或缺的器件,如果光波导放大器有足够高的净增益,在光波导放大器的两端设计合适的谐振腔就可以获得光泵的激光.本文着眼于硅基光波导放大器,介绍了目前硅基光波导放大器最主要的两个研究方向,即硅基混合集成Ⅲ- Ⅴ族半导体光波导放大器和硅基掺稀土离子光波导放大器.并分别讨论了这两个研究方向的原理、制备方法、发展过程等,列举了相关的典型研究成果,最后简单介绍了其他光放大技术,并做了相应的分析、总结和展望. 展开更多
关键词 硅基光电子学 硅基集成光波导放大器 Ⅲ- Ⅴ族半导体光放大器 掺稀土离子光波导放大器
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