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北京第三代半导体产业发展思路的研究 被引量:7
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作者 顾瑾栩 张倩 卢晓威 《集成电路应用》 2019年第5期1-6,共6页
第三代半导体是以碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)为代表的新一代半导体材料,它们拥有高频高效、耐高压、耐高温等特性,是支撑轨道交通、新能源汽车、5G等产业的核心材料和电子元器件。北京市作为我国第三代半导体发展的重镇,具备丰富的科技... 第三代半导体是以碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)为代表的新一代半导体材料,它们拥有高频高效、耐高压、耐高温等特性,是支撑轨道交通、新能源汽车、5G等产业的核心材料和电子元器件。北京市作为我国第三代半导体发展的重镇,具备丰富的科技资源和产业基础,聚集了诸如世纪金光、天科合达、泰科天润等知名生产制造企业。研究并实施北京第三代半导体产业的发展大计,不仅是助推北京市经济结构的优化,更是完善中国第三代半导体产业布局、助推产业成长的重要举措。 展开更多
关键词 第三代半导体 宽禁带半导体材料 碳化硅 氮化镓 功率器件
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Applications of Wide Bandgap Semiconductor Materials in High-Power Electronic Devices
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作者 Yucheng Zhou 《World Journal of Engineering and Technology》 2024年第4期1034-1045,共12页
Wide bandgap semiconductor materials are driving revolutionary improvements in the performance of high-power electronic devices. This study systematically evaluates the application prospects of wide bandgap semiconduc... Wide bandgap semiconductor materials are driving revolutionary improvements in the performance of high-power electronic devices. This study systematically evaluates the application prospects of wide bandgap semiconductor materials in high-power electronic devices. The research first compares the physical properties of major wide bandgap materials (such as silicon carbide SiC and gallium nitride GaN), analyzing their advantages over traditional silicon materials. Through theoretical calculations and experimental data analysis, the study assesses the performance of these materials in terms of high breakdown field, high thermal conductivity, and high electron saturation velocity. The research focuses on the application of SiC and GaN devices in power electronics, including high-voltage DC transmission, electric vehicle drive systems, and renewable energy conversion. The study also discusses the potential of wide bandgap materials in RF and microwave applications. However, the research also points out the challenges faced by wide bandgap semiconductor technology, such as material defect control, device reliability, and cost issues. To address these challenges, the study proposes solutions, including improving epitaxial growth techniques, optimizing device structure design, and developing new packaging methods. Finally, the research looks ahead to the prospects of wide bandgap semiconductors in emerging application areas such as quantum computing and terahertz communications. This study provides a comprehensive theoretical foundation and technology roadmap for the application of wide bandgap semiconductor materials in high-power electronic devices, contributing to the development of next-generation high-efficiency energy conversion and management systems. 展开更多
关键词 Wide Bandgap Semiconductors High-power Electronics silicon Carbide Gallium nitride power Electronics
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宽禁带电力电子器件研发新进展
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作者 陈治明 《机械制造与自动化》 2005年第6期1-3,6,共4页
碳化硅和氮化镓是最有发展前途的半导体材料,可用于电力半导体器件的制造。与硅半导体电力电子器件相比,其优点是:标定阻断电压较高,功率损耗较低,工作温度较高,因此给这种器件增加了与硅器件竞争的活力。至于其发展水平,SiC肖特基二极... 碳化硅和氮化镓是最有发展前途的半导体材料,可用于电力半导体器件的制造。与硅半导体电力电子器件相比,其优点是:标定阻断电压较高,功率损耗较低,工作温度较高,因此给这种器件增加了与硅器件竞争的活力。至于其发展水平,SiC肖特基二极管的标定阻断电压达1.2kV、电流20A,并已投入生产;SiC大功率二极管的研制水平,标定阻断电压达12.3kV,正向电流密度达100 A/cm2。预期在数年内,SiC与GaN器件将在因节能而著称的电力电子设备中得到广泛采用。 展开更多
关键词 碳化硅 氮化镓 肖特基二极管 电力电子器件
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应用高频激励源制备低应力氮化硅薄膜研究 被引量:3
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作者 达小丽 郭霞 +2 位作者 关宝璐 董立闽 沈光地 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期138-142,共5页
研究了在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法制备氮化硅薄膜时,射频功率和腔室压力对氮化硅薄膜应力的影响以及应力与沉积速率的关系。通常认为高频下制备得到的氮化硅膜呈现张应力,但是通过实验,表明即使应用高频(13.56MH z)作为激励... 研究了在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法制备氮化硅薄膜时,射频功率和腔室压力对氮化硅薄膜应力的影响以及应力与沉积速率的关系。通常认为高频下制备得到的氮化硅膜呈现张应力,但是通过实验,表明即使应用高频(13.56MH z)作为激励源同样可以沉积出呈现压应力的氮化硅薄膜。并使用角度可变光谱型椭偏仪观察了薄膜的厚度和低应力氮化硅膜的m app ing图,利用傅立叶变换红外光谱仪(FT IR)对不同应力状态下的氮化硅膜的化学键结构进行了分析。 展开更多
关键词 氮化硅 应力 等离子体增强化学气相沉积 腔室压力 射频功率
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球磨介质对氮化硅粉体的微观形貌和表面氧化硅层的影响 被引量:1
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作者 郗威 周杨杨 +1 位作者 刘鹏飞 韩召 《中国粉体技术》 CSCD 2023年第6期82-90,共9页
氮化硅(Si_(3)N_(4))粉体极易氧化,表面氧化硅层氧含量过高会对Si_(3)N_(4)陶瓷的力学性能和导热性能产生不利影响。在球磨法细化Si_(3)N_(4)粉体过程中,分别选取去离子水、无水乙醇和质量分数为20%的氢氧化钠(NaOH)溶液作为3种球磨介质... 氮化硅(Si_(3)N_(4))粉体极易氧化,表面氧化硅层氧含量过高会对Si_(3)N_(4)陶瓷的力学性能和导热性能产生不利影响。在球磨法细化Si_(3)N_(4)粉体过程中,分别选取去离子水、无水乙醇和质量分数为20%的氢氧化钠(NaOH)溶液作为3种球磨介质,研究不同球磨介质对细化后的Si_(3)N_(4)纳米粉体的颗粒粒径和表面氧化硅层氧含量的影响;采用X射线衍射分析仪、激光粒径仪、场发射扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜、氧氮分析仪、傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱仪分析Si_(3)N_(4)纳米粉体的物相组成、粒径分布、微观形貌、表面氧化硅层的氧含量、化学基团和化学键种类及浓度;探讨碱液法球磨制备表面氧化硅层的氧含量较低的Si_(3)N_(4)粉体的机制。结果表明:以NaOH溶液为球磨介质时,Si_(3)N_(4)粉体先与水反应生成非晶氧化硅层,NaOH再和氧化硅层发生反应,球磨过程加速了Si_(3)N_(4)粉体表面氧化硅层的溶解和剥离,降低了表面氧化硅层的氧含量,减小了颗粒粒径,实现了Si_(3)N_(4)粉体的细化;表面氧化硅层的氧的质量分数从1.00%仅增加到1.25%,颗粒平均粒径从3.50μm减小为0.71μm,微观形貌由长条状变成分散性较好的球形颗粒;球磨后的Si_(3)N_(4)纳米粉体的O—Si—O键的物质的量浓度从15.06%减小为11.24%;与去离子水和无水乙醇相比,以NaOH溶液为最优球磨介质。 展开更多
关键词 球磨介质 氮化硅粉体 颗粒微观形貌 表面氧化硅层 氧含量
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管式PECVD射频功率对氮化硅薄膜性能的影响
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作者 任现坤 马玉英 +6 位作者 张黎明 刘鹏 姜言森 程亮 徐振华 贾河顺 张春艳 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2012年第6期853-855,862,共4页
氮化硅薄膜作为传统的晶体硅太阳电池钝化减反膜,其性能的变化直接影响电池的转化效率。通过改变管式PECVD的射频功率,制备了不同膜厚和折射率的氮化硅薄膜,并分别进行了薄膜致密性以及硅片镀膜后少子寿命的测试。实验及测试结果表明,改... 氮化硅薄膜作为传统的晶体硅太阳电池钝化减反膜,其性能的变化直接影响电池的转化效率。通过改变管式PECVD的射频功率,制备了不同膜厚和折射率的氮化硅薄膜,并分别进行了薄膜致密性以及硅片镀膜后少子寿命的测试。实验及测试结果表明,改变PECVD的射频功率对氮化硅薄膜的沉积速率及其薄膜的性能有重要影响。 展开更多
关键词 氮化硅 转化效率 射频功率 致密性 少子寿命
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第三代宽禁带功率半导体及应用发展现状 被引量:29
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作者 蔡蔚 孙东阳 +2 位作者 周铭浩 郭庆波 高晗璎 《科技导报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第14期42-55,共14页
近年来,以碳化硅和氮化镓为代表的第三代宽禁带功率半导体迅猛发展,已成为中国功率电子行业的研发和产业化应用的重点。抓住第三代宽禁带功率半导体的战略机遇期,实现半导体材料、器件、封装模块和系统开发的自主可控,对保障工业创新体... 近年来,以碳化硅和氮化镓为代表的第三代宽禁带功率半导体迅猛发展,已成为中国功率电子行业的研发和产业化应用的重点。抓住第三代宽禁带功率半导体的战略机遇期,实现半导体材料、器件、封装模块和系统开发的自主可控,对保障工业创新体系的可持续发展至关重要。在分析第三代宽禁带功率半导体重要战略意义的基础上,综述了其材料、器件研发和产业的发展现状,阐述了碳化硅及氮化镓器件在当前环境下的应用成果,剖析了第三代半导体行业存在的关键问题。建议在国家政策的进一步领导之下,发挥行业协会和产业联盟的桥梁和纽带作用,对衬底材料、外延材料、芯片与器件设计和制造工艺等产业链各环节进行整体支撑,引导各环节间实现资源共享、强强联合,上下游互相拉动和促进,形成一个布局合理、结构完整的产业链。 展开更多
关键词 第三代宽禁带功率半导体 碳化硅 氮化镓 芯片与封装技术 半导体应用与市场 碳化硅控制器和逆变器
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高功率脉冲磁控溅射沉积(AlCrNbSiTiV)N薄膜提升刀具的切削性能 被引量:3
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作者 刘志伟 何靖国 +1 位作者 林宇璇 张良超 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2019年第13期674-679,共6页
通过高功率脉冲反应磁控溅(HIPIMS)在车刀表面溅镀(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化物薄膜。研究了溅镀功率(120、150、180、210和240W)对薄膜的形貌、厚度、沉积速率、硬度、弹性恢复率等性质的影响。以50CrMo4铬钼合金钢作为被切削材料,在... 通过高功率脉冲反应磁控溅(HIPIMS)在车刀表面溅镀(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化物薄膜。研究了溅镀功率(120、150、180、210和240W)对薄膜的形貌、厚度、沉积速率、硬度、弹性恢复率等性质的影响。以50CrMo4铬钼合金钢作为被切削材料,在干式切削条件下考察了切削后工件的表面粗糙度和车刀的腹部磨耗。结果表明,增大溅镀功率可以提高薄膜的硬度和耐磨性,被切削工件的表面质量得到明显的改善,刀具磨损量大大减小。 展开更多
关键词 铝铬铌硅钛钒 高熵合金 氮化物 高功率脉冲反应磁控溅射 纳米压痕 腹部磨耗
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射频功率对富硅-氮化硅薄膜结构及性质影响 被引量:2
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作者 乌仁图雅 周炳卿 +2 位作者 高爱明 部芯芯 丁德松 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第9期2322-2325,共4页
采用等离子体增强化学气相沉积法,以SiH_4、NH_3和N_2为反应气源,通过改变射频功率制备富硅-氮化硅薄膜材料。利用傅里叶变换红外吸收光谱,紫外-可见光透射光谱,扫描电镜等对薄膜材料结构与性质进行表征。实验表明,随着射频功率的逐渐增... 采用等离子体增强化学气相沉积法,以SiH_4、NH_3和N_2为反应气源,通过改变射频功率制备富硅-氮化硅薄膜材料。利用傅里叶变换红外吸收光谱,紫外-可见光透射光谱,扫描电镜等对薄膜材料结构与性质进行表征。实验表明,随着射频功率的逐渐增加,薄膜光学带隙缓慢减小、有序度增加,薄膜材料中的Si-H键、N-H键缓慢减小,Si-N键增多。分析结果发现,适量的增加射频功率有利于提高样品反应速率,使薄膜有序度增加,致密性增强,提高薄膜质量,但过高的射频功率会使薄膜质量变差。 展开更多
关键词 富硅-氮化硅薄膜 等离子增强化学气相沉积 射频功率 沉积速率
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