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Si掺杂TiO_2纤维的溶胶-凝胶法制备及其光催化活性 被引量:18
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作者 包南 张锋 +3 位作者 马志会 魏振涛 孙剑 刘峰 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2007年第23期2786-2792,共7页
采用溶胶-凝胶法并结合水蒸气活化制备了Si掺杂TiO2纤维,通过TG-DSC,XRD,FT-IR,UV-Vis-DRS,N2吸附-脱附,SEM等手段对纤维样品的结构参数及其表面形貌进行了表征,并以活性艳红X-3B模拟废水体系评价了其光催化活性.结果表明,与纯TiO2产物... 采用溶胶-凝胶法并结合水蒸气活化制备了Si掺杂TiO2纤维,通过TG-DSC,XRD,FT-IR,UV-Vis-DRS,N2吸附-脱附,SEM等手段对纤维样品的结构参数及其表面形貌进行了表征,并以活性艳红X-3B模拟废水体系评价了其光催化活性.结果表明,与纯TiO2产物相比,适量Si掺杂制得的产物是具有丰富介孔结构的TiO2长纤维,不仅热稳定性和晶型稳定性俱佳,而且光催化活性得以显著提高,经900℃热处理后仍能保持结晶完好的锐钛矿相;在Si/Ti摩尔比为0.15时,其比表面积和孔容最大,光催化活性最佳,该纤维作为光催化剂反应75min,水中X-3B的降解率可达99.6%. 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 si掺杂 TiO2纤维 光催化活性
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Si掺杂对NbTaWMo难熔高熵合金的高温摩擦学性能的影响 被引量:8
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作者 郭志明 张爱军 +1 位作者 韩杰胜 孟军虎 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第2期197-205,共9页
采用放电等离子烧结技术在NbTaWMo难熔高熵合金中掺杂Si元素成功制备了NbTaWMoSi_(0.25)难熔高熵合金,研究了物相组成、显微结构和力学性能的变化,并重点对比了25~800℃的摩擦学性能.结果表明:NbTaWMo高熵合金由单一的BCC相组成,而NbTaW... 采用放电等离子烧结技术在NbTaWMo难熔高熵合金中掺杂Si元素成功制备了NbTaWMoSi_(0.25)难熔高熵合金,研究了物相组成、显微结构和力学性能的变化,并重点对比了25~800℃的摩擦学性能.结果表明:NbTaWMo高熵合金由单一的BCC相组成,而NbTaWMoSi_(0.25)合金由BCC相和硅化物两相组成.在NbTaWMo难熔高熵合金中掺杂Si元素后,高熵合金室温下的屈服强度、抗压强度和断裂应变均有显著的提高.NbTaWMo难熔高熵合金掺杂Si元素后从25℃到800℃摩擦系数变化较小,但其耐磨性显著改善,其耐磨性的提高主要由于硅化物增强了合金的强度.NbTaWMoSi_(0.25)难熔高熵合金从室温到中温阶段的磨损机制主要为磨粒磨损,而高温阶段的磨损机制主要表现为磨粒磨损和氧化磨损的综合作用.NbTaWMoSi_(0.25)高熵合金在宽温域内具有良好的耐磨性,在高温摩擦学领域具有较大的应用潜力. 展开更多
关键词 难熔高熵合金 NbTaWMo si掺杂 力学性能 摩擦学性能
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Si掺杂Al_2O_3电子结构的第一性原理计算 被引量:6
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作者 伏春平 孙凌涛 程正富 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期142-146,共5页
本文采用第一性原理对纯Al2O3和Si掺杂的Si0.167Al0.833O1.5,Si0.25Al0.75O1.5晶体体系的能带结构、态密度进行了计算分析.结果发现:随着Si在Al2O3晶体中所占比例的增加,体系能隙变小,在Si0.25Al0.75O1.5晶体体系中能隙已降到2.5 e V,... 本文采用第一性原理对纯Al2O3和Si掺杂的Si0.167Al0.833O1.5,Si0.25Al0.75O1.5晶体体系的能带结构、态密度进行了计算分析.结果发现:随着Si在Al2O3晶体中所占比例的增加,体系能隙变小,在Si0.25Al0.75O1.5晶体体系中能隙已降到2.5 e V,表明该体系为半导体材料;而在掺杂的体系中有数条分散的能带穿过了费米能级,即可以预测该掺杂体系有特别的光电性质;同时对比纯Al2O3和Si掺杂的Si0.167Al0.833O1.5,Si0.25Al0.75O1.5晶体体系的总态密度,发现掺杂体系的价带和导带向低能区域移动. 展开更多
关键词 第一性原理 AL2O3 能带结构 si掺杂
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硅掺杂石榴石型Li_(7)La_(3)Zr_(2)O_(12)固体电解质的制备及性能表征
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作者 黄晓东 王庆伟 +1 位作者 刘萌 金广辉 《中国稀土学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期503-508,共6页
石榴石型固体电解质Li_(7)La_(3)Zr_(2)O_(12)(LLZO)因为具有高的锂离子电导率、宽的化学窗口和良好的锂金属稳定性而被广泛研究。为进一步提高其电化学性能,得到稳定立方相结构,本文采用高温固相法制备出Si掺杂LLZO(Li_(7)La_(3)Zr_(2-... 石榴石型固体电解质Li_(7)La_(3)Zr_(2)O_(12)(LLZO)因为具有高的锂离子电导率、宽的化学窗口和良好的锂金属稳定性而被广泛研究。为进一步提高其电化学性能,得到稳定立方相结构,本文采用高温固相法制备出Si掺杂LLZO(Li_(7)La_(3)Zr_(2-x)Si_(x)O_(12))固体电解质。探究了Si掺杂量x对烧结陶瓷片的物相组成、晶体结构、微观形貌、相对密度、锂离子电导率和电导活化能的影响。结果表明,随着Si掺杂量x的增加,Li_(7)La_(3)Zr_(2-x)Si_(x)O_(12)烧结陶瓷片的气孔减少,相对密度增加,锂离子电导率随着Si掺杂量x的增加呈现出先上升后下降的趋势。当Si掺杂量x=0.24时,Li_(7)La_(3)Zr_(2-x)Si_(x)O_(12)烧结陶瓷片的锂离子电导率达到了最大值4.86×10^(-4)S·cm^(-1),电导活化能达到了最低值为0.32 eV。 展开更多
关键词 固体电解质 Li_(7)La_(3)Zr_(2)O_(12) 锂离子电导率 si掺杂
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Al,Si,P掺杂对Ge在石墨烯上吸附的影响 被引量:4
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作者 李艳慧 刘中山 +2 位作者 赵建华 赵宝 戴宪起 《河南师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2011年第5期51-54,共4页
利用基于密度泛函理论的第一性原理计算方法研究了Al、Si和P掺杂对Ge在石墨烯上吸附的影响.Ge原子在完整石墨烯上吸附的最稳定位置为桥位,Ge的吸附改变了石墨烯中C原子的电子自旋性质;Al、Si和P掺杂石墨烯使衬底C原子发生了移动,且Si,P... 利用基于密度泛函理论的第一性原理计算方法研究了Al、Si和P掺杂对Ge在石墨烯上吸附的影响.Ge原子在完整石墨烯上吸附的最稳定位置为桥位,Ge的吸附改变了石墨烯中C原子的电子自旋性质;Al、Si和P掺杂石墨烯使衬底C原子发生了移动,且Si,P原子掺杂比Al掺杂石墨烯容易;杂质类型对Ge在石墨烯上的吸附位置有较大的影响,Al、Si、P掺杂增强了Ge在石墨烯上的吸附,其中Al掺杂对Ge在石墨烯上吸附的影响最大,P掺杂次之,Si掺杂最小;Ge吸附Al掺杂体系和Si掺杂体系不具有磁性,Ge吸附P掺杂体系具有磁性. 展开更多
关键词 石墨烯 AL掺杂 si掺杂 P掺杂 吸附 第一性原理
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Si掺杂对Mn-Co-Ni系NTC热敏电阻电性能的影响 被引量:4
6
作者 王海珍 康雪雅 +1 位作者 贾素兰 韩英 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2011年第3期36-39,共4页
采用传统陶瓷工艺制备了Mn1.05-xCo0.92Ni 0.03SixO4(0≤x≤0.05)系列NTC热敏电阻样品,借用XRD、SEM和电性能测试等手段,研究了Si掺杂量对样品相结构和电性能的影响。结果表明:当0≤x≤0.03时,样品为尖晶石立方相和四方相的固溶体,室温... 采用传统陶瓷工艺制备了Mn1.05-xCo0.92Ni 0.03SixO4(0≤x≤0.05)系列NTC热敏电阻样品,借用XRD、SEM和电性能测试等手段,研究了Si掺杂量对样品相结构和电性能的影响。结果表明:当0≤x≤0.03时,样品为尖晶石立方相和四方相的固溶体,室温电阻率ρ25和B25/50值均随着Si掺杂量的增加而增加;当0.03<x≤0.05时,样品为尖晶石立方相,ρ25和B25/50值均随着Si掺杂量的增加而降低。当x=0.03时,在1 373 K烧结获得的样品电性能较好:ρ25=79 501Ω·cm,B25/50=4 142 K。 展开更多
关键词 NTC 热敏电阻 si掺杂 尖晶石 电性能
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硅对钢/铝轧制复合界面化合物抑制效应的研究 被引量:5
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作者 高超 高明 王平 《沈阳师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2010年第2期185-188,共4页
对钢铝复合材料高温时的界面化合物进行了系统研究并找到一定的方法抑制界面化合物的生成。要获得高品质的复合带材,就必须在高温时能抑制界面化合物的生成,提高钢铝结合强度和加工性能。通过对复合前的铝材料熔入不同含量的Si元素,经... 对钢铝复合材料高温时的界面化合物进行了系统研究并找到一定的方法抑制界面化合物的生成。要获得高品质的复合带材,就必须在高温时能抑制界面化合物的生成,提高钢铝结合强度和加工性能。通过对复合前的铝材料熔入不同含量的Si元素,经过与低碳钢的冷轧工艺复合,研究硅对于复合界面化合物的抑制作用。对不同Si含量的铝板复合后的样品进行分组比较,使用金相显微镜和扫描电镜进行了组织分析,发现钢/铝复合材料界面产生的化合物属于Fe-Al化合物,以Fe2Al5居多。通过热力学计算分析界面的自由能,发现Fe-Si化合物比Fe-Al化合物在退火过程中更容易生成,并且以大量实验结果表明微量元素Si的加入能显著抑制钢/铝界面Fe-Al化合物的生成,抑制效果随着硅含量的增加而越发明显。 展开更多
关键词 钢/铝复合材料 si掺杂 抑制效应 自由能 界面化合物
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引入Si掺杂层调控InGaAs/GaAs表面量子点的光学特性
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作者 刘晓辉 刘景涛 +5 位作者 郭颖楠 王颖 郭庆林 梁宝来 王淑芳 傅广生 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第1期73-82,共10页
在InGaAs/GaAs表面量子点(SQDs)的GaAs势垒层中引入Si掺杂层,以研究Si掺杂对InGaAs/GaAs SQDs光学特性的影响。荧光发光谱(PL)测量结果显示,InGaAs/GaAs SQDs的发光强烈依赖于Si掺杂浓度。随着掺杂浓度的增加,SQDs的PL峰值位置先红移后... 在InGaAs/GaAs表面量子点(SQDs)的GaAs势垒层中引入Si掺杂层,以研究Si掺杂对InGaAs/GaAs SQDs光学特性的影响。荧光发光谱(PL)测量结果显示,InGaAs/GaAs SQDs的发光强烈依赖于Si掺杂浓度。随着掺杂浓度的增加,SQDs的PL峰值位置先红移后蓝移;PL峰值能量与激光激发强度的立方根依赖关系由线性向非线性转变;通过组态交互作用方法发现SQDs的PL峰位蓝移减弱;时间分辨荧光光谱显示了从非线性衰减到线性衰减的转变。以上结果说明Si掺杂能够填充InGaAs SQDs的表面态,并且改变表面费米能级钉扎效应和SQDs的荧光辐射特性。本研究为深入理解与InGaAs SQDs的表面敏感特性关联的物理机制和载流子动力学过程,以及扩大InGaAs/GaAs SQDs传感器的应用提供了实验依据。 展开更多
关键词 InGaAs量子点 si掺杂 表面费米能级 荧光发光谱 间接跃迁辐射 时间分辨荧光光谱
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B原子吸附石墨烯的结构和性质 被引量:4
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作者 杜声玖 王蜀霞 +1 位作者 刁凯迪 廖中伟 《重庆理工大学学报(自然科学)》 CAS 2012年第7期105-109,共5页
采用第一性原理计算讨论了不同覆盖度下,存在空位缺陷和Si掺杂时,石墨烯吸附B原子的稳定外形、电子结构和磁性。计算表明,B原子吸附石墨烯的稳定吸附位为桥位,吸附后表现为铁磁性;空位缺陷石墨烯造成了悬空键,结构不稳定,剩余磁矩为零;... 采用第一性原理计算讨论了不同覆盖度下,存在空位缺陷和Si掺杂时,石墨烯吸附B原子的稳定外形、电子结构和磁性。计算表明,B原子吸附石墨烯的稳定吸附位为桥位,吸附后表现为铁磁性;空位缺陷石墨烯造成了悬空键,结构不稳定,剩余磁矩为零;B的吸附占据了C的空位,体系的能量大为降低,但引入空穴,磁矩不为零;石墨烯掺杂Si原子吸附B的吸附能远大于完整石墨烯的情况,说明Si掺杂能促进B原子的吸附,同时衬底与B原子作用强烈,体系显示出磁性,而且近似呈半金属性。 展开更多
关键词 石墨烯 吸附 si掺杂 第一性原理
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Si对Inconel 718合金中γ相影响的第一性原理研究
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作者 刘郅澄 周杰 +9 位作者 陈凡 彭彪 彭文屹 章爱生 邓晓华 罗显芝 刘日新 刘德武 黄雨 阎军 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第18期338-345,共8页
随着航空航天、能源化工等领域的快速发展,人们对高温合金的性能提出了更高的期望.Inconel 718(简称IN 718)是目前用量最大的镍基高温合金,目前国内外关于Si对IN 718合金组织与性能影响的研究,尤其是在微观尺度上的研究,还存在大量空白... 随着航空航天、能源化工等领域的快速发展,人们对高温合金的性能提出了更高的期望.Inconel 718(简称IN 718)是目前用量最大的镍基高温合金,目前国内外关于Si对IN 718合金组织与性能影响的研究,尤其是在微观尺度上的研究,还存在大量空白.本文从第一性原理计算出发研究了Si掺杂对IN 718合金中γ相的影响,计算了Si掺杂前后γ相的晶格常数、总能量、缺陷形成能、形成热、结合能、态密度和差分电荷密度,并进行了布居分析.同时利用等离子熔覆的方法制备了IN 718涂层以及Si质量分数为2%的IN 718涂层,并对其进行显微组织及相结构的分析.计算结果表明,Si的掺杂改变了体系内原子的交互作用,影响了原子之间的价电子数量、电荷密度分布及原子之间键合的强度,从而扩大了γ相的晶胞体积,同时降低了γ相的稳定性.实验结果表明,Si掺杂会使得IN 718合金涂层组织发生由柱状晶向等轴晶的转变,并降低IN 718合金中γ相的体积分数,同时,Si掺杂会加剧合金组织内Nb和Cr元素的偏析. 展开更多
关键词 Inconel 718合金 第一性原理 Γ相 si掺杂
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分子束外延高Al组分AlGaN薄膜及Si掺杂研究
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作者 梁潇 李思琦 +9 位作者 王中伟 邵鹏飞 陈松林 陶涛 谢自力 刘斌 陈敦军 郑有炓 张荣 王科 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第5期783-790,共8页
实现电学性能优良的高Al组分AlGaN外延层是制备深紫外光电器件最重要的环节之一。本工作利用分子束外延(MBE)技术,基于周期热脱附的生长方式,通过改变Al源供应量调控Al组分,并用Si进行n型掺杂,在AlN/蓝宝石衬底上得到了系列高Al组分的Si... 实现电学性能优良的高Al组分AlGaN外延层是制备深紫外光电器件最重要的环节之一。本工作利用分子束外延(MBE)技术,基于周期热脱附的生长方式,通过改变Al源供应量调控Al组分,并用Si进行n型掺杂,在AlN/蓝宝石衬底上得到了系列高Al组分的Si-Al_(x)Ga_(1-x)N外延层(x>0.60)。对外延层相关物理性质进行了表征测试,结果表明,外延层Al组分与生长过程中Al束流大小呈现线性关系,这为制备精确Al组分的AlGaN外延层奠定了基础。AFM结果表明,高Al组分AlGaN外延层的表面形貌强烈依赖于Ga的供应量,在生长过程中提高Ga束流可以显著降低外延层的粗糙度。基于范德堡法测量Si-AlGaN外延层电学性能,证实其载流子特性良好,其中Al组分为0.93的样品室温下自由电子浓度、电子迁移率和电阻率分别达到了8.9×10^(18)cm^(-3)和3.8 cm^(2)·V^(-1)·s^(-1)和0.18Ω·cm。 展开更多
关键词 高Al组分AlGaN 分子束外延 si掺杂 载流子特性 周期热脱附
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氟、硅掺杂对CeO_(2)(001)表面结构及还原性能影响的第一性原理研究
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作者 贾慧灵 卢元 +3 位作者 吴锦绣 谭心 邵祺 任元 《中国稀土学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第4期794-801,I0005,共9页
使用DFT+U的方法研究了F,Si掺杂CeO_(2)(001)表面的结构和电子结构,分析了F,Si掺杂对CeO_(2)(001)表面还原性能的影响。结果表明:F,Si掺杂的CeO_(1.963)(001)体系中表层氧空位形成能均小于次表层氧空位形成能。CeO_(1.963)F_(0.037)(001... 使用DFT+U的方法研究了F,Si掺杂CeO_(2)(001)表面的结构和电子结构,分析了F,Si掺杂对CeO_(2)(001)表面还原性能的影响。结果表明:F,Si掺杂的CeO_(1.963)(001)体系中表层氧空位形成能均小于次表层氧空位形成能。CeO_(1.963)F_(0.037)(001)面的氧空位形成能比CeO_(1.963)(001)面的要大,而Ce_(0.926)Si_(0.074)O_(1.963)(001)面的氧空位形成能比CeO_(1.963)(001)面的要小。Si掺杂的CeO_(2)(001)面局部晶格发生畸变,结构变得不稳定。CeO_(2)(001)面的Ce 4f电子态部分占据费米能级,禁带宽度变为零,并且上下自旋电子态不对称;CeO1.926F0.037-sur面的Ce 4f电子态和O 2p电子态分布变得局域,费米能级处产生0.853 eV的带隙;Ce_(0.926)Si_(0.074)O_(1.963)^(-sur)面的电子态向低能级方向移动,Ce 4f的上自旋电子态和O 2p的下自旋电子态占据费米能级。Ce_(O1.926)F_(0.037)-sur面中氧空位最近邻的铈离子分别从掺杂F原子和氧空位处得到0.022e和0.038e电子;Ce_(0.926)Si_(0.074)O_(1.963)-sur面中氧空位最近邻的铈离子分别从掺杂Si原子和氧空位处得到0.102e和0.021e电子。 展开更多
关键词 CeO_(2)(001)表面 F si掺杂 原子结构 电子结构 第一性原理
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Structural investigation and luminescent properties of BaZr(BO_3)_2:Eu^(3+) phosphors containing Si 被引量:3
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作者 ZHANG ZhongPeng LI GuangMin +3 位作者 ZHANG XiaoSong XU ShengYan JI Ting LI Lan 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2010年第29期3252-3255,共4页
Si4+-doped BaZr(BO3)2:Eu3+ phosphors are prepared by a conventional solid-state reaction.The influence of Si4+ addition on the charge transfer state of Eu3+-O2- and photoluminescence(PL) properties of BaZr(BO3)2:Eu3+ ... Si4+-doped BaZr(BO3)2:Eu3+ phosphors are prepared by a conventional solid-state reaction.The influence of Si4+ addition on the charge transfer state of Eu3+-O2- and photoluminescence(PL) properties of BaZr(BO3)2:Eu3+ are discussed.Room temperature PL spectra indicated that efficient emission is obtained by Si doping.Increased values for the peak-peak ratio(PPR) of BaZr(BO3)2:Eu3+ at higher Si doping concentrations implied that the Eu3+ ion is located in a more asymmetric environment in BaZr0.8Si0.2(BO3)2:Eu3+ than in the undoped samples.The Judd-Ofelt parameters Ωλ(λ=2,4) were calculated from the PL data,giving results that were consistent with those from the PPR.The maximum radiative quantum efficiency was achieved at a Si doping concentration of 20 mol%. 展开更多
关键词 si掺杂 铕离子 荧光粉 发光性能 结构调查 掺杂 固相反应 电荷转移
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Si掺杂金红石TiO_2光学特性的第一性原理研究 被引量:3
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作者 冯庆 《重庆师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2009年第4期106-109,共4页
TiO2是一种重要的n型金属氧化物半导体功能材料。近年来的实验与理论研究表明,运用杂质掺入来减小TiO2禁带宽度是提高其活性的一种有效办法。本文运用基于局域密度泛函和赝势的第一性原理方法,从理论上研究了S i掺杂金红石相TiO2的电子... TiO2是一种重要的n型金属氧化物半导体功能材料。近年来的实验与理论研究表明,运用杂质掺入来减小TiO2禁带宽度是提高其活性的一种有效办法。本文运用基于局域密度泛函和赝势的第一性原理方法,从理论上研究了S i掺杂金红石相TiO2的电子结构和光学特性。通过能带结构、态密度及电荷布居的分析发现,Si原子的引入使Si-Ti的键长发生明显的变化,近邻氧原子有靠近硅原子的趋势而近邻钛原子有远离硅原子的趋势。半导体禁带宽度没有明显变化,但是禁带中产生了一个杂质能级,该杂质能级主要是由Si的3p电子和Ti的3d电子杂化引起的。因此,Si掺杂能使材料的宏观特性表现为电子激发能量减小,材料活性增强,响应可见光范围达到480 nm左右。 展开更多
关键词 TIO2 si掺杂 第一性原理 金红石
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溶胶-凝胶法制备Si掺杂TiO_2超滤膜 被引量:3
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作者 徐晓容 李丹 +1 位作者 景文珩 范益群 《南京工业大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2014年第3期67-71,共5页
以钛酸四丁酯为Ti源、正硅酸乙酯为Si源、乙酰丙酮为螯合剂、HNO3为催化剂、P123为模板剂,采用溶胶-凝胶法制备Si掺杂的TiO2介孔材料。利用低温N2吸附-脱附法、X线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)等考察Si掺杂量对TiO2材料的微观结构... 以钛酸四丁酯为Ti源、正硅酸乙酯为Si源、乙酰丙酮为螯合剂、HNO3为催化剂、P123为模板剂,采用溶胶-凝胶法制备Si掺杂的TiO2介孔材料。利用低温N2吸附-脱附法、X线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)等考察Si掺杂量对TiO2材料的微观结构及晶体结构的影响。结果表明:Si的最佳掺杂量n(Si)/n(Ti)=0.05,且Si的引入阻碍了TiO2材料组装孔的坍塌,抑制了TiO2材料的晶型转变温度,同时提高了TiO2材料的比表面积。选用最佳Si掺杂量溶胶为涂膜液,通过过滤实验表征,3次涂膜后的TiO2片式膜的纯水通量为3.6×10-5L/(m2·h·Pa),截留相对分子质量为19 900。 展开更多
关键词 si掺杂 TiO2超滤膜 溶胶-凝胶
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PDP放电单元Si掺杂MgO保护层二次电子发射系数理论研究 被引量:3
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作者 李巧芬 屠彦 +1 位作者 杨兰兰 王保平 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期535-540,共6页
采用基于密度泛函理论的原子轨道展开方法的第一性原理计算了Mg1-xSixO体系的电子结构、用SIESTA软件包计算了Mg1-xSixO体系的晶胞结构,体系基态总能,确定了MgO的最优晶格常数。同时,计算了Mg1-xSixO的能带结构、态密度、分波态密度等... 采用基于密度泛函理论的原子轨道展开方法的第一性原理计算了Mg1-xSixO体系的电子结构、用SIESTA软件包计算了Mg1-xSixO体系的晶胞结构,体系基态总能,确定了MgO的最优晶格常数。同时,计算了Mg1-xSixO的能带结构、态密度、分波态密度等。针对采用氖氙混合气体的PDP放电单元,分析了Si掺杂对MgO晶体的电子结构以及氖离子和氙离子二次电子发射系数的影响。结果表明,掺入微量的Si(掺杂浓度小于0.06)可提高MgO保护层氖离子和氙离子的二次电子发射系数,其中氙离子的二次电子发射系数的提高尤为显著。同时由分析结果表明,Si掺杂量存在最优化值为0.0185。 展开更多
关键词 二次电子发射系数 si掺杂 MgO保护层 等离子体平板显示
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基于Si掺杂增强光吸收提升Li_(2)SnO_(3)光催化降解四环素的研究 被引量:1
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作者 李园园 曾寒露 +4 位作者 蒲红争 蒋明珠 王仲明 杨怡萌 公祥南 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第3期206-212,共7页
在Li_(2)SnO_(3)中掺杂Si,研究了Si掺杂Li_(2)SnO_(3)对四环素的光催化降解性能。结果表明,对Li_(2)SnO_(3)进行等电子Si掺杂使其光学吸收带隙减小和光吸收系数增大,提高了对四环素的光催化降解效率。等电子Si掺杂Li_(2)SnO_(3)为纯相... 在Li_(2)SnO_(3)中掺杂Si,研究了Si掺杂Li_(2)SnO_(3)对四环素的光催化降解性能。结果表明,对Li_(2)SnO_(3)进行等电子Si掺杂使其光学吸收带隙减小和光吸收系数增大,提高了对四环素的光催化降解效率。等电子Si掺杂Li_(2)SnO_(3)为纯相不规则块状固体,随着Si掺杂量的增加其晶格参数呈减小的趋势。Si掺杂使样品的光催化性能显著提高。Si掺杂量为10%的样品,在紫外光照射25 min后光催化降解效率为75.8%,约为母体的2倍。Si掺杂Li_(2)SnO_(3)的光催化降解行为满足赝一级动力学模型,拟合速率常数为0.02464 min-1。在Si掺杂Li_(2)SnO_(3)的价带顶形成的Si-O键减少了光学吸收带隙,使其光吸收能力增强。Si掺杂Li_(2)SnO_(3)的光催化降解机制,属于空穴主导型。 展开更多
关键词 无机非金属材料 si掺杂 光催化 能带计算 四环素
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点缺陷对γ-TiAl(100)表面O原子吸附和扩散影响的第一性原理研究 被引量:1
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作者 周立颖 王福合 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期1387-1391,共5页
利用基于密度泛函理论的第一性原理计算了γ-TiAl(100)表面附近空位、Si和W掺杂的形成能,以及它们对O原子在该表面附近吸附和扩散的影响.计算结果表明,在掺杂体系中,Si原子更容易替代表面第1层Al原子的位置,而W原子更容易替代表面第2层T... 利用基于密度泛函理论的第一性原理计算了γ-TiAl(100)表面附近空位、Si和W掺杂的形成能,以及它们对O原子在该表面附近吸附和扩散的影响.计算结果表明,在掺杂体系中,Si原子更容易替代表面第1层Al原子的位置,而W原子更容易替代表面第2层Ti原子的位置,且2者均使其近邻吸附O原子的吸附能升高.因此,Si更容易偏析在表面第1层上,而W更容易偏析在表面第2层上,且抑制了O原子在γ-TiAl(100)表面的吸附.在空位缺陷体系中,表面第1层Ti原子空位比Al原子空位更易形成.在干净表面、Ti空位表面,Si掺杂和W掺杂表面体系中,O原子从表面上到表面下第2层扩散的能垒分别为1.98,1.34,2.53和2.69 eV,相对于干净表面,Ti空位缺陷的形成使得O原子在,γ-TiAl(100)表面附近的扩散更加容易,而Si和W掺杂使得O原子在γ-TiAl(100)表面上的扩散更加困难. 展开更多
关键词 Γ-TIAL (100)表面 si掺杂 W掺杂 空位 O的扩散
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掺Si对热压合成Ti_2AlC/Ti_3AlC_2的影响及理论分析 被引量:1
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作者 王苹 梅炳初 +2 位作者 闵新民 洪小林 周卫兵 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期1037-1040,共4页
采用热压工艺以Ti、Al、Si元素粉和活性炭为原料,分别以2.0Ti/1.1Al/1.0C(摩尔比)及以0.1和0.2mol的Si取代Al,合成了Ti2AlC/Ti3AlC2块体材料。通过建立Ti2AlC、Ti3AlC2和掺Si的计算模型,计算了平均原子净电荷和平均共价键键级。结果表明... 采用热压工艺以Ti、Al、Si元素粉和活性炭为原料,分别以2.0Ti/1.1Al/1.0C(摩尔比)及以0.1和0.2mol的Si取代Al,合成了Ti2AlC/Ti3AlC2块体材料。通过建立Ti2AlC、Ti3AlC2和掺Si的计算模型,计算了平均原子净电荷和平均共价键键级。结果表明:以元素粉2.0Ti/1.1Al/1.0C为原料在1450℃热压60min合成只含有非常少量Ti3AlC2的Ti2AlC材料;当Si取代Al达到0.2mol时,作用非常明显,表现为使同一温度下Ti3AlC2含量增加而Ti2AlC含量减少。另外,应用掺Si后对原子净电荷和共价键键级的影响解释了实验结果。 展开更多
关键词 si掺杂 热压 Ti2AlC/Ti3AlC2 理论分析
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水热法制备硅掺杂纳米TiO_2的光催化性能(英文) 被引量:1
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作者 刘艳敏 张雪景 +2 位作者 刘敬泽 张艳峰 魏雨 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期1399-1403,共5页
以TiCl4和Na2SiO3为原料,采用水热法制备了一系列掺杂Si的纳米TiO2粉体。采用X射线衍射分析(XRD),红外光谱(FT-IR),紫外可见吸收光谱(UV-vis DRS)对样品进行了表征。结果表明:掺杂Si的TiO2样品粒径较小,样品中锐钛矿的百分含量有了一定... 以TiCl4和Na2SiO3为原料,采用水热法制备了一系列掺杂Si的纳米TiO2粉体。采用X射线衍射分析(XRD),红外光谱(FT-IR),紫外可见吸收光谱(UV-vis DRS)对样品进行了表征。结果表明:掺杂Si的TiO2样品粒径较小,样品中锐钛矿的百分含量有了一定提高。同时发现在Si掺杂的样品中有Ti-O-Si键的存在。掺杂Si的TiO2样品的光催化活性较未掺杂样品有了较大提高。并讨论了Si掺杂提高TiO2光催化活性可能的原因。 展开更多
关键词 si掺杂 TIO2 水热法 光催化活性
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