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钌金属溅射靶材烧结工艺研究 被引量:17
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作者 罗俊锋 丁照崇 +3 位作者 董亭义 何金江 王欣平 江轩 《粉末冶金工业》 CAS 北大核心 2012年第1期28-31,共4页
采用热压、放电等离子烧结及直接热压等粉末冶金工艺制备了钌金属溅射靶材,通过对致密度、晶粒度与氧含量分析研究了工艺过程对钌金属靶材制备的影响,并对比分析了三种方法制备钌靶的特点。结果表明:通过工艺优化利用三种方法均能制备... 采用热压、放电等离子烧结及直接热压等粉末冶金工艺制备了钌金属溅射靶材,通过对致密度、晶粒度与氧含量分析研究了工艺过程对钌金属靶材制备的影响,并对比分析了三种方法制备钌靶的特点。结果表明:通过工艺优化利用三种方法均能制备出相对密度达到99%以上的高密度钌靶;随着制备温度的升高,钌靶氧含量降低,晶粒尺寸增大;热压工艺制备周期最长,钌靶表面有晶粒粗大层;放电等离子烧结与直接热压工艺都具有快速、近净成形的特点。 展开更多
关键词 溅射靶材 热压烧结 放电等离子烧结 直接热压
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钌粉提纯和钌靶制备的研究进展 被引量:12
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作者 邓瑞 闻明 +2 位作者 陈家林 郭俊梅 杜怡霖 《贵金属》 CAS CSCD 北大核心 2019年第1期82-87,共6页
钌靶在电子信息行业中具有重要的应用价值,我国的钌靶制备技术与国外相比尚存在一定差距。综述了钌提纯中传统提纯工艺和新提纯工艺的特点。对比了热压(HP)、直接热压(DHP)和放电等离子烧结(SPS)等不同工艺加工所得钌靶的差异。分析了... 钌靶在电子信息行业中具有重要的应用价值,我国的钌靶制备技术与国外相比尚存在一定差距。综述了钌提纯中传统提纯工艺和新提纯工艺的特点。对比了热压(HP)、直接热压(DHP)和放电等离子烧结(SPS)等不同工艺加工所得钌靶的差异。分析了靶材的纯度、密度、晶粒大小、晶面取向、成分和组织的均匀性等特性对溅射薄膜的影响。探讨了高品质钌靶的制约因素和发展方向。 展开更多
关键词 金属材料 靶材 提纯 制备 溅射薄膜
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脉冲红外和热导检测法测定钌粉和钌靶中氧、氮含量 被引量:6
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作者 刘伟 刘文 +7 位作者 韩守礼 贺小塘 谭志龙 方卫 王应进 杨晓滔 甘建壮 唐发静 《贵金属》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期53-56,共4页
建立了钌粉和钌靶中氧、氮含量的测定方法。研究了样品前处理、仪器条件、助熔剂选择、方法准确度和精密度等。以锡-碳作助熔剂,在选定条件下,采用脉冲红外和热导检测法,测定50×10-6氧时RSD<10%,测定40×10-6氮时RSD<25%... 建立了钌粉和钌靶中氧、氮含量的测定方法。研究了样品前处理、仪器条件、助熔剂选择、方法准确度和精密度等。以锡-碳作助熔剂,在选定条件下,采用脉冲红外和热导检测法,测定50×10-6氧时RSD<10%,测定40×10-6氮时RSD<25%;加标回收率:氧100%~102%,氮91%~101%。测定范围:氧0.002%~0.4%,氮0.0001%~0.02%。方法简便、快速、精密度和准确度满足质量控制要求。 展开更多
关键词 分析化学 钌粉 钌靶 氮含量
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溅射靶材用高纯钌粉制备技术研究及进展 被引量:6
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作者 赵盘巢 郭磊 +2 位作者 陈家林 操齐高 易伟 《贵金属》 CAS CSCD 北大核心 2017年第B10期12-17,共6页
电子工业生产钌靶对所用的钌粉纯度(99.999%)、分散性、形貌和尺寸等有严格的要求。国内目前只能在实验室制备出高性能的钌粉,尚未应用于生产,在制备高性能钌粉方面与国外有较大差距,且国内钌靶用钌粉主要依靠进口。通过分析和总结了国... 电子工业生产钌靶对所用的钌粉纯度(99.999%)、分散性、形貌和尺寸等有严格的要求。国内目前只能在实验室制备出高性能的钌粉,尚未应用于生产,在制备高性能钌粉方面与国外有较大差距,且国内钌靶用钌粉主要依靠进口。通过分析和总结了国内外钌靶用钌粉的生产方法、工艺和测试方法,并对国内钌靶用钌粉的制备提出了建议。 展开更多
关键词 钌靶 钌粉 氯钌酸铵
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Controlled synthesis of monodispersed spherical ruthenium powders
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作者 Feng-Shuo Xu Hao Cui +7 位作者 Man-Men Liu Jia-Lin Chen Ming Wen Chuan-Jun Wang Wei Wang Song Li Xu-Dong Sun Shao-Hong Liu 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第12期4246-4254,共9页
Monodispersed spherical Ru powders are essential for fabricating high-performance Ru sputtering targets,which have applications in very-large-scale integration circuits and magnetic recording devices.However,the synth... Monodispersed spherical Ru powders are essential for fabricating high-performance Ru sputtering targets,which have applications in very-large-scale integration circuits and magnetic recording devices.However,the synthesis of such powders remains a major challenge.Here,we reported the synthesis of monodispersed spherical Ru powders through controlling the molar ratio of SO_(4)^(2-)to Ru^(3+)in urea homogeneous precipitation solution and the annealing conditions.Without the addition of(NH4)2SO_(4)into the reaction solution,only gel-like precipitation particles were obtained.Once introducing(NH_(4))_(2)SO_(4) into the reaction solution and controlling the molar ratio of SO_(4)^(2-)to Ru3+between 0.50 and 1.00,monodispersed spherical precursor powders were obtained.The nucleation and growth of monodispersed spherical precursor particles in solution were found to conform to LaMer's model.Through controlled annealing at 450℃in a hydrogen atmosphere,the obtained metallic Ru powder with an average particle size of 135 nm inherited the spherical morphology and excellent dispersity from the monodispersed spherical precursor powders.These results and findings would deepen the understanding of the preparation of monodispersed Ru and Ru-like powders. 展开更多
关键词 ruthenium Sputtering target Spherical powder Integration circuits Magnetic recording
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高纯钌粉制备技术的研究和进展 被引量:12
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作者 陈松 谢明 +4 位作者 管伟明 张吉明 胡洁琼 任县利 李爱坤 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第13期123-127,共5页
目前大量使用的钌靶主要用粉末冶金方法制备,所用原料为高纯钌粉。粉末质量是影响钌靶制备和使用性能的关键问题。基于文献和实验,详细列出了高纯钌粉在纯度、尺寸等方面的具体特征,给出了高纯钌粉的具体指标和要求。系统概述了高纯钌... 目前大量使用的钌靶主要用粉末冶金方法制备,所用原料为高纯钌粉。粉末质量是影响钌靶制备和使用性能的关键问题。基于文献和实验,详细列出了高纯钌粉在纯度、尺寸等方面的具体特征,给出了高纯钌粉的具体指标和要求。系统概述了高纯钌粉的主要制备工艺路线和流程(包括物料预处理、氧化溶解、氧化蒸馏、吸收浓缩、沉淀结晶、煅烧分解、还原制粉),以及各过程中的主要原理、工艺步骤和加工方法。在此基础上,系统总结和归纳了目前国内外主要厂家和研究机构的主要生产工艺和流程,并对其制备方法、工艺路线及特点进行了分析和讨论。在研究制备原理和工艺的基础上发现控制杂质含量的基本原则,即通过多次反复四氧化钌的氧化蒸馏和吸收这一过程可降低杂质阳离子含量,而通过煅烧、氢气还原、真空处理等可以有效去除杂质阴离子,根据钌粉中超标的离子种类,就可确定需要改进的工艺环节和步骤。分析了热等静压、放电等离子烧结和真空热压等方法制备钌靶时,所需钌粉在纯度和晶粒尺寸方面的具体要求,以及钌粉末的晶粒尺寸和形貌对靶材的机械加工性能、溅射性能的影响。最后给出了高纯钌粉制备技术方面急待解决的重要问题和发展方向。 展开更多
关键词 钌粉 高纯 制备技术 生产工艺 钌靶
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强磁场中热处理对钌微观结构的影响
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作者 甘俊 张仁耀 +2 位作者 裴文利 周利民 闻明 《贵金属》 CAS 北大核心 2022年第1期34-38,共5页
在强度为6 T的磁场中,在不同温度下,对真空热压成型的钌进行热处理,测定了样品的硬度和密度,并进行了X射线衍射(XRD)织构分析和扫描电镜(SEM)表征。结果表明,经强磁场热处理后钌的密度无变化,硬度增大;在强磁场和热处理温度的的共同作用... 在强度为6 T的磁场中,在不同温度下,对真空热压成型的钌进行热处理,测定了样品的硬度和密度,并进行了X射线衍射(XRD)织构分析和扫描电镜(SEM)表征。结果表明,经强磁场热处理后钌的密度无变化,硬度增大;在强磁场和热处理温度的的共同作用下,钌内部原子迁移,从而使其晶粒取向、织构分布发生改变。 展开更多
关键词 金属材料 钌靶材 热处理 强磁场 织构
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钌靶废料碱熔-水浸实验研究 被引量:1
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作者 鲍冰 李继刚 +6 位作者 易伟 姚陈思琦 郭磊 徐浩 李安金 崔浩 陈家林 《贵金属》 CAS CSCD 北大核心 2020年第1期49-53,共5页
采用碱熔-水浸法溶解难溶钌靶废料,研究熔剂种类、碱熔条件和水浸条件对钌溶解率的影响。结果表明,以Na2O2和NaOH组成的熔剂具有较高的碱熔效率;在配料质量比为Na2O2:NaOH:Ru=4:3:1的条件下,750℃碱熔3 h得到碱熔渣;在液固比为150:1 mL/... 采用碱熔-水浸法溶解难溶钌靶废料,研究熔剂种类、碱熔条件和水浸条件对钌溶解率的影响。结果表明,以Na2O2和NaOH组成的熔剂具有较高的碱熔效率;在配料质量比为Na2O2:NaOH:Ru=4:3:1的条件下,750℃碱熔3 h得到碱熔渣;在液固比为150:1 mL/g,95℃以水浸取碱熔渣4 h,钌靶废料的溶解率达到97.3%。 展开更多
关键词 贵金属冶金 钌靶废料 碱熔 水浸
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以DNA为靶点的钌(Ⅱ)配合物的合成、晶体结构和抗肿瘤活性
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作者 盖爽爽 蓝峻峰 +2 位作者 张鹏 蒋才云 覃逸明 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2021年第7期1277-1283,共7页
为开发新型钌(Ru)抗肿瘤药物,以3-甲基-2-噻吩甲醛-4-羟基苯甲酰肼席夫碱配体(L)合成了[Ru(L)(DMSO)2Cl2](1)(DMSO=二甲基亚砜)。用X射线单晶衍射法测定了1的晶体结构。配合物1的结构由1个Ru(Ⅱ)中心离子与2个DMSO分子、2个氯离子、1个... 为开发新型钌(Ru)抗肿瘤药物,以3-甲基-2-噻吩甲醛-4-羟基苯甲酰肼席夫碱配体(L)合成了[Ru(L)(DMSO)2Cl2](1)(DMSO=二甲基亚砜)。用X射线单晶衍射法测定了1的晶体结构。配合物1的结构由1个Ru(Ⅱ)中心离子与2个DMSO分子、2个氯离子、1个L配位而成。通过MTT实验分析,1对T24细胞表现出良好的抗肿瘤活性。同时,通过彗星实验、蛋白质印迹实验和DNA琼脂糖凝胶电泳实验结果证明1可以有效结合DNA,诱导DNA损伤,最终杀死肿瘤细胞。导致DNA损伤的原因很可能是由于细胞与1孵育后细胞内可以产生大量的活性氧。 展开更多
关键词 钌(Ⅱ)配合物 DNA靶点 T24细胞 抗肿瘤活性
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含钌氧化物靶的制备与电性能测试
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作者 顾梅 曹泽淳 《上海大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1997年第1期33-36,共4页
本文报导了以水合RuO2为原料而采用固相反应、烧结工艺制备脉冲激光沉积用RuO2、BaRuO3、SrRuO3靶材的工艺.
关键词 钌氧化物 靶材 烧结 薄膜 制备 电性能
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