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钛酸钡基阻变存储单元的构建及其特性
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作者 郝瑞 刘越 刘贵山 《大连工业大学学报》 CAS 2024年第1期51-55,共5页
采用磁控溅射在低阻态Si(100)衬底上制备均匀的钛酸钡(BTO)薄膜,通过磁控溅射制备Ag电极,构建Si(100)/BTO/Ag阻变存储单元。利用XRD,SEM和AFM对不同退火温度和保温时间下的BTO薄膜结构和形貌进行表征,利用数字源表对Si(100)/BTO/Ag阻变... 采用磁控溅射在低阻态Si(100)衬底上制备均匀的钛酸钡(BTO)薄膜,通过磁控溅射制备Ag电极,构建Si(100)/BTO/Ag阻变存储单元。利用XRD,SEM和AFM对不同退火温度和保温时间下的BTO薄膜结构和形貌进行表征,利用数字源表对Si(100)/BTO/Ag阻变存储单元进行阻变性能测试。结果表明,退火温度750℃、保温0.5 h条件下制备的BTO薄膜结晶度最高,薄膜表面晶体颗粒呈均匀分布,构建的Si(100)/BTO/Ag阻变存储单元阻变性能最佳,呈现典型的双极性开关效应。 展开更多
关键词 磁控溅射 BTO薄膜 阻变存储单元 阻变性能
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铋掺杂对SrTiO_3薄膜微观结构及阻变行为的影响 被引量:2
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作者 张文博 王华 +3 位作者 许积文 刘国保 谢航 杨玲 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第11期1932-1937,共6页
采用溶胶-凝胶及快速退火工艺在p+-Si上制备了Bi掺杂SrTiO_3薄膜,构建了Ag/Sr_(1-x)Bi_xTiO_3/p+-Si结构阻变器件,研究了Bi掺杂量对薄膜微观结构、器件阻变行为及特性的影响。结果表明:Bi掺杂量较低时并未改变Sr_(1-x)Bi_xTiO_3薄膜的... 采用溶胶-凝胶及快速退火工艺在p+-Si上制备了Bi掺杂SrTiO_3薄膜,构建了Ag/Sr_(1-x)Bi_xTiO_3/p+-Si结构阻变器件,研究了Bi掺杂量对薄膜微观结构、器件阻变行为及特性的影响。结果表明:Bi掺杂量较低时并未改变Sr_(1-x)Bi_xTiO_3薄膜的相结构,但随着掺杂比例的增大,晶粒尺寸也明显增大,当掺杂量x=0.16时,有Bi4SrTi4O15及TiO2相形成;不同Bi掺杂量的Ag/Sr_(1-x)Bi_xTiO_3/p+-Si器件均呈现出双极性阻变特性,且有明显的多级阻变行为。随Bi掺杂量的增加,器件的阻变性能逐步提高,当x=0.12时器件的高、低阻态电阻比值最大,达到105左右,并且在2 000次可逆循环测试下,高、低阻态电阻比未出现衰减,表现出良好的抗疲劳特性,但当掺杂量x达到或超过0.16后,器件的性能呈下降趋势。Bi掺杂量的增大会导致器件高阻态时的导电机制从空间电荷效应(SCLC)导电机制(x<0.16)转变为肖特基势垒发射(x=0.16)。器件在低阻态下均遵循欧姆导电机制。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 钛酸锶薄膜 Ag/Sr1-xBixTiO3/p+-Si 铋掺杂 阻变特性 阻变存储器(RRAM)
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Electro-optical dual modulation on resistive switching behavior in BaTiO3/BiFeO3/TiO2 heterojunction 被引量:1
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作者 Jia-Jia Zhao Jin-Shuai Zhang +4 位作者 Feng Zhang Wei Wang Hai-Rong He Wang-Yang Cai Jin Wang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第12期292-297,共6页
The novel BaTiO3/BiFeO3/TiO2 multilayer heterojunction is prepared on a fluorine-doped tinoxide(FTO) substrate by the sol–gel method. The results indicate that the Pt/Ba TiO3/BiFeO3/TiO2/FTO heterojunction exhibits s... The novel BaTiO3/BiFeO3/TiO2 multilayer heterojunction is prepared on a fluorine-doped tinoxide(FTO) substrate by the sol–gel method. The results indicate that the Pt/Ba TiO3/BiFeO3/TiO2/FTO heterojunction exhibits stable bipolar resistive switching characteristic, good retention performance, and reversal characteristic. Under different pulse voltages and light fields, four stable resistance states can also be realized. The analysis shows that the main conduction mechanism of the resistive switching characteristic of the heterojunction is space charge limited current(SCLC) effect. After the comprehensive analysis of the band diagram and the P–E ferroelectric property of the multilayer heterojunction, we can deduce that the SCLC is formed by the effect of the oxygen vacancy which is controlled by ferroelectric polarizationmodulated change of interfacial barrier. And the effective photo-generated carrier also plays a regulatory role in resistance state(RS), which is formed by the double ferroelectric layer Ba TiO3/BiFeO3 under different light fields. This research is of potential application values for developing the multi-state non-volatile resistance random access memory(RRAM) devices based on ferroelectric materials. 展开更多
关键词 ferroelectric multilayer heterojunction resistive switching characteristic electro-optical dual modulation multi-state resistance
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利用模拟对SiC双极性器件的开发
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作者 邓隐北(编译) 李烨(编译) +3 位作者 刘瑞红(编译) 吴晓静(编译) 松永慎一郎 武井学 《电源世界》 2017年第10期34-38,共5页
在宽禁带(wide band-gap)半导体的Si C器件中,为实现1.3k V以上的高耐压,双极性器件被认为是有利的。富士电机公司对模拟的预测与实测结果之差异进行分析,通过反复修改参数,进一步提高了预测精度。实施了耐压特性模拟、顺向特性模拟和... 在宽禁带(wide band-gap)半导体的Si C器件中,为实现1.3k V以上的高耐压,双极性器件被认为是有利的。富士电机公司对模拟的预测与实测结果之差异进行分析,通过反复修改参数,进一步提高了预测精度。实施了耐压特性模拟、顺向特性模拟和开关特性模拟,然后在参数中反映出测量的物理性能值,并考虑到界面电荷和寄生阻抗,结果可以高精度的再现实际器件的特性。 展开更多
关键词 碳化硅(SiC) 双极性器件 模拟耐压特性 顺向特性 开关特性
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