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题名需求模板一致性智能化检查
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作者
张龙阳
杨卫东
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机构
复旦大学计算机科学与技术系
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出处
《计算机应用与软件》
北大核心
2023年第9期290-295,302,共7页
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文摘
需求模板的一致性检查对于需求工程的自动化分析十分重要。现有方法往往需要通过术语表对需求语句的各个组件进行定位,或是通过单词词性组合来判定一致性信息,其在术语表缺失的情况下和在句式较长的需求语句上表现不佳。针对这种情况,提出基于依存关系的模板一致性检查方法,分析需求模板的依存关系来定义通用的依存语法模式,进而通过模式匹配的方法来判定需求语句的一致性信息,同时根据需求模板的特性来对词性标注和依存分析任务带来的错误进行校正,提高方法的准确率。经过实验验证,依存分析的方法相较于现有方法有了明显提升。
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关键词
需求模板
一致性
自动化分析
依存关系
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Keywords
requirements template
template conformance
Automatic analysis
Dependency relation
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分类号
TP3
[自动化与计算机技术—计算机科学与技术]
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题名面向大规模定制的产品变型设计方法研究
被引量：2
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作者
郑姝
陆长明
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机构
浙江机电职业技术学院机械工程系
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出处
《成组技术与生产现代化》
2007年第1期54-56,共3页
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文摘
从产品顾客需求出发,在功能域中通过创建功能模板,对功能模板进行改进得到新的模板,并以此为基础映射到物理域中的具体设计参数,提出了一种简便快捷的产品变型设计方法.
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关键词
大规模定制
功能需求
变型设计
功能模板
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Keywords
mass customization
functional requirements
variant design
functional template
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分类号
TB472
[一般工业技术—工业设计]
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题名面向MC产品族设计的重卡客户需求分析与处理
被引量：1
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作者
方毅
朱远庆
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机构
华菱星马汽车(集团)股份有限公司
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出处
《汽车工程学报》
2018年第4期304-312,共9页
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文摘
从重型卡车行业实施的大规模定制(Mass Customization,MC)模式出发,基于MC产品族设计理论,通过市场调研和语义转换的方法建立以客户需求为基础的工程技术需求模板,并采用因子分析法和聚类分析法获得客户需求的重要度。运用基于模糊矩阵的层次分析法获得客户需求重要度的权重,其结果是重型卡车实施产品平台构建的关键依据,其形成的产品族设计模型能够充分体现客户的差异化定制需求。
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关键词
重型卡车
客户需求
功能模块
需求模板
产品族设计
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Keywords
heavy trucks
customer need
functional module
requirements template
product family design
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分类号
U469.2
[机械工程—车辆工程]
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题名用例驱动技术在需求获取过程中的应用
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作者
刘旭勇
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机构
西北大学
陕西省行政学院
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出处
《计算机技术与发展》
2012年第3期153-156,共4页
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基金
国家自然科学基金项目(60871097)
陕西省科技攻关项目(2009K08-11)
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文摘
需求获取是软件开发过程中非常重要的环节,它贯穿于整个软件生命周期。针对系统客户和开发人员由于认识问题角度和知识的差异而存在的需求获取障碍,提出了一种基于用例的需求获取方法。该方法以用户和任务为中心,设计了一个用户需求描述模板,引导用户填写需求描述信息,开发人员利用用例驱动技术对需求描述信息进行分析和验证,最终获取全面和准确的参与者和用例信息。该构建过程不仅为构造用例图和类图奠定了基础,而且也使软件工程活动更加规范。
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关键词
需求获取
用例驱动
模板
类图
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Keywords
requirements elicitation
use case driven
template
class diagram
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分类号
TP39
[自动化与计算机技术—计算机应用技术]
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题名表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量：5
- 5
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作者
董启明
郭小伟
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机构
电子科技大学光电信息学院
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出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
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基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
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文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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Keywords
Interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and large-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition and suitability for large-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as S
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名基于界面模板的界面逻辑模型研究
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作者
赵跃华
吴安
薛娟
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机构
江苏大学计算机科学与通信工程学院
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出处
《计算机工程》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期244-246,共3页
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文摘
针对企业对Web应用环境的需求,依据基于主谓宾逻辑的需求获取和分析方法从表单出发获得需求模型,从而由需求模型获得界面逻辑模型,提出基于界面模板的界面逻辑模型以及一个易于扩充的企业通用界面模板库。应用结果表明,选择相应的模板,可完成系统设计的大部分工作,提高开发效率。
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关键词
表单
对象需求模型
用户界面逻辑模型
界面模板
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Keywords
form
objective requirement model
user interface logical model
interface template
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分类号
TP311.51
[自动化与计算机技术—计算机软件与理论]
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