-
题名极端远紫外光刻技术
被引量：4
- 1
-
-
作者
谢常青
叶甜春
-
机构
中国科学院微电子中心三室
-
出处
《半导体情报》
2001年第5期28-32,共5页
-
文摘
半导体器件与集成电路的不断小型化要求特征尺寸越来越小 ,极端远紫外光刻是 5种下一代光刻技术候选者之一 ,它的目标是瞄准 70纳米及 70纳米以下的特征尺寸光刻。本文从极端远紫外光源、极端远紫外光学系统、反射掩模、光刻胶、光刻机等方面对极端远紫外光刻技术进行了分析论述 。
-
关键词
极端远紫外线光刻
半导体工艺
集成电路
-
Keywords
extreme ultraviolet lithography
EUV light source
multilayer
reflective mask
stepper
-
分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
-
-
题名基于结构光测量技术的DMD自适应掩膜生成
被引量：1
- 2
-
-
作者
郑小钰
董祉序
杨赫然
孙兴伟
刘寅
-
机构
沈阳工业大学机械工程学院
辽宁省复杂曲面数控制造技术重点实验室
-
出处
《电子测量与仪器学报》
CSCD
北大核心
2023年第7期148-155,共8页
-
基金
2022年度辽宁省教育厅高等学校基本科研项目面上项目(LJKMZ20220459)
辽宁省应用基础研究计划项目(2022JH2/101300214)
国家自然科学基金(52005347)项目资助。
-
文摘
为解决强反射表面物体测量过程中易发生局部镜面反射,影响测量精度的问题。将数字微镜添加到结构光测量光路中并设计搭建测量系统,包括数字微镜、CCD相机、投影仪等器件。完成了系统的匹配、相机和投影仪的参数标定以及相位计算,采用麻雀搜索算法优化BP神经网络的方法建立数字微镜单元和相机像素单元之间的坐标映射关系,映射误差为0.583 pixels。基于PID控制器提出一种自适应掩膜生成方法,并对具有强反射表面的量块进行了测量实验,实验表明该方法能有效降低过曝光区域的灰度,实现了高动态范围成像。提出的方法可为强反射表面的三维测量提供理论支撑。
-
关键词
数字微镜
强反射表面
高动态范围
掩膜
-
Keywords
digital micromirror device
strong reflective surface
high dynamic range
mask
-
分类号
TH74
[机械工程—光学工程]
TN247
[机械工程—仪器科学与技术]
-
