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多孔硅基发光材料的研究进展
1
作者
李宏建
欧谷平
+2 位作者
彭景翠
黄生祥
向建南
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第4期46-47,共2页
介绍了多孔硅经表面钝化后,其发光强度和谱线峰位的稳定性,以及多孔硅激光染料镶嵌膜的荧光光谱等方面的最新成果。
关键词
表面钝化
镶嵌膜
多孔硅基发光材料
下载PDF
职称材料
题名
多孔硅基发光材料的研究进展
1
作者
李宏建
欧谷平
彭景翠
黄生祥
向建南
机构
湖南大学电子材料研究所
湖南大学化学化工学院
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第4期46-47,共2页
基金
湖南省自然科学基金 98JJY2047
文摘
介绍了多孔硅经表面钝化后,其发光强度和谱线峰位的稳定性,以及多孔硅激光染料镶嵌膜的荧光光谱等方面的最新成果。
关键词
表面钝化
镶嵌膜
多孔硅基发光材料
Keywords
porous
silicon
,
surface
passivation
,
compound
films
分类号
TN104.3 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
多孔硅基发光材料的研究进展
李宏建
欧谷平
彭景翠
黄生祥
向建南
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
0
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