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单晶硅和多晶硅切割废料浆的回收 被引量:28
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作者 邢鹏飞 郭菁 +2 位作者 刘燕 庄艳歆 涂赣峰 《材料与冶金学报》 CAS 2010年第2期148-153,共6页
从单晶和多晶硅切割废料浆中综合回收高纯硅、聚乙二醇和碳化硅,对减少环境污染、提高资源利用率有一定意义,特别是如能将切割料浆中最有价值的高纯硅得以回收并再用于制造太阳能电池,这对缓解我国太阳能多晶硅的紧缺、减少多晶硅的进... 从单晶和多晶硅切割废料浆中综合回收高纯硅、聚乙二醇和碳化硅,对减少环境污染、提高资源利用率有一定意义,特别是如能将切割料浆中最有价值的高纯硅得以回收并再用于制造太阳能电池,这对缓解我国太阳能多晶硅的紧缺、减少多晶硅的进口量有重要意义和商业价值.本文简述了单晶硅和多晶硅的生产概况及其切割工艺,重点阐述了国内外切割料浆的回收进展,综合了国内外现有的回收专利技术,将回收工艺概括为固液分离和固体提纯两个主要步骤,并对每个步骤所采用的方法进行了归纳和分类,以供相关企业参考.同时,本文也介绍了国内现有的切割料浆回收企业的概况,以及目前从切割料浆中回收高纯硅的研究进展. 展开更多
关键词 单晶硅 多晶硅 切割料浆 碳化硅 聚乙二醇 高纯硅 回收
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激光晶化多晶硅的制备与XRD谱 被引量:17
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作者 廖燕平 黄金英 +4 位作者 郜峰利 邵喜斌 付国柱 荆海 缪国庆 《吉林大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期99-102,共4页
对氢化非晶硅(a-Si:H)进行了脱氢和不同能量密度的准分子激光晶化多晶硅的实验,对所得样品用X射线衍射表征.针对多晶硅(111)面特征峰的强度、晶面间距和宽化信息,分析了激光功率密度对晶化多晶硅结晶度和应力的影响,根据谢乐公式(Scherr... 对氢化非晶硅(a-Si:H)进行了脱氢和不同能量密度的准分子激光晶化多晶硅的实验,对所得样品用X射线衍射表征.针对多晶硅(111)面特征峰的强度、晶面间距和宽化信息,分析了激光功率密度对晶化多晶硅结晶度和应力的影响,根据谢乐公式(Scherrer)估算了晶粒的大小,得到用准分子激光晶化多晶硅的较佳工艺参数,并且验证了激光辐射对薄膜材料作用的3种情况. 展开更多
关键词 氢化非晶硅 脱氢 激光晶化 多晶硅 X射线衍射 半宽度 制备 XRD谱 薄膜材料
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单晶及多晶硅切割废料中的高纯硅回收 被引量:12
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作者 郭菁 邢鹏飞 +1 位作者 涂赣峰 祁阳 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期103-106,111,共5页
为提高在切割废料中高纯硅的回收率,对沉降方法和条件进行了优化.根据单/多晶硅切割废料浆的物理、化学性质,在m(水)∶m(聚乙二醇)=(8~9)∶1、含有少量无机盐的水溶液体系中,在不同沉降时间和不同固液配比的条件下进行正交试验,通过盐... 为提高在切割废料中高纯硅的回收率,对沉降方法和条件进行了优化.根据单/多晶硅切割废料浆的物理、化学性质,在m(水)∶m(聚乙二醇)=(8~9)∶1、含有少量无机盐的水溶液体系中,在不同沉降时间和不同固液配比的条件下进行正交试验,通过盐酸、氢氟酸进行除杂,最后在1 500~1 600℃下进行硅的铸锭.通过X射线衍射、元素分析和粒径分析研究沉降条件对于最终回收产物的影响.研究表明:在固液比为0.06、沉降时间5 h的条件下,沉降并经过除杂得到的微粉中硅质量分数达到88.52%,碳化硅质量分数为11.46%,富集的微粉经铸锭得到的硅锭纯度为98.71%,硅的回收率达到43.33%. 展开更多
关键词 单晶硅 多晶硅 切割料浆 碳化硅 聚乙二醇 高纯硅 回收
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直流辉光放电质谱法测定多晶硅中关键杂质元素的相对灵敏度因子 被引量:14
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作者 刘洁 钱荣 +2 位作者 斯琴毕力格 卓尚军 何品刚 《分析化学》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2012年第1期66-71,共6页
采用直流辉光放电质谱(dc-GD-MS)测定多晶硅中关键杂质元素的相对灵敏度因子(RSF)。标样制作过程中主要是在连续通入氩气条件下将固定量的非标准多晶硅样品熔化,向硅熔体中均匀掺入浓度范围为1~30μg/g的关键杂质元素(如B和P),采用快... 采用直流辉光放电质谱(dc-GD-MS)测定多晶硅中关键杂质元素的相对灵敏度因子(RSF)。标样制作过程中主要是在连续通入氩气条件下将固定量的非标准多晶硅样品熔化,向硅熔体中均匀掺入浓度范围为1~30μg/g的关键杂质元素(如B和P),采用快速固化法制成标样;再将制成的标准样品加工成一系列适合GD-MS扁平池(Flat Cell)的片状样品(20 mm×20 mm×2 mm)。采用二次离子质谱法(SI-MS)对标准样品中关键掺杂元素进行多次定量测定,取平均值作为关键杂质元素的精确含量。优化一系列质谱条件后,运用GD-MS对标样中关键掺杂元素的离子强度进行多次测定,计算平均结果,得到未校正的表观浓度,利用标准曲线法计算出关键杂质元素的相对灵敏度因子。 展开更多
关键词 直流辉光放电质谱 多晶硅 杂质元素 相对灵敏度因子
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多晶硅生产中精馏节能减排与提高质量技术的应用 被引量:10
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作者 李群生 《精细与专用化学品》 CAS 2009年第2期25-30,共6页
多晶硅不仅是信息产业的基础材料,而且也是实现光电转换(如太阳能发电)的理想材料。在全球光伏产业链中,高纯度硅料(不仅硅的纯度高达7-9个9,而且其中的硼、磷等杂质限制在几十个ppt(十亿分之几十))是光伏企业生产太阳能电池... 多晶硅不仅是信息产业的基础材料,而且也是实现光电转换(如太阳能发电)的理想材料。在全球光伏产业链中,高纯度硅料(不仅硅的纯度高达7-9个9,而且其中的硼、磷等杂质限制在几十个ppt(十亿分之几十))是光伏企业生产太阳能电池所需要的核心原料。因此,高纯度硅料的合成、精制、提纯、生产也就成为光伏产业集群中最上游的产业。 展开更多
关键词 企业生产 多晶硅 质量技术 应用 减排 节能 精馏 基础材料
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LPCVD多晶硅薄膜缺陷的形成及消除措施 被引量:5
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作者 王胜强 刘玉奎 +1 位作者 黄磊 刘道广 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期484-487,共4页
描述了LPCVD多晶硅的常见缺陷及其分类。对缺陷产生的原因进行了分析,找出工艺设置和工艺操作过程容易出现的问题;并针对各类缺陷,提出了相应的解决措施,以达到完全消除缺陷,使工艺技术水平得到提升。
关键词 半导体工艺 低压化学汽相淀积 多晶硅 薄膜缺陷
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硅材料除硼处理 被引量:5
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作者 何念银 艾韬 +1 位作者 胡迎飞 郑金标 《化学世界》 CAS CSCD 北大核心 2009年第4期197-199,204,共4页
对金属硅进行除硼处理,以解决定向凝固提纯硅对分凝系数大的硼的分离效果不明显难题。高温条件下向经过酸处理的硅粉通入蒸汽,硼经扩散与蒸汽反应。通过实验确定了硅粉粒径、反应温度和反应时间与除硼效果的关系。
关键词 水蒸汽 太阳能 多晶硅
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多晶硅行业用耐磨球阀的磨损分析与优化
8
作者 张道军 贺杨 +1 位作者 李威 陈昌华 《阀门》 2023年第4期468-472,共5页
耐磨球阀是多晶硅生产中使用最多的阀门,由于内漏、卡涩、冲刷磨损等问题,导致耐磨球阀的故障率升高,降低使用寿命。本文详尽阐述了耐磨球阀在多晶硅生产过程中的冲刷磨损情况,利用仿真软件对球阀在工况条件下的磨损情况进行分析,对如... 耐磨球阀是多晶硅生产中使用最多的阀门,由于内漏、卡涩、冲刷磨损等问题,导致耐磨球阀的故障率升高,降低使用寿命。本文详尽阐述了耐磨球阀在多晶硅生产过程中的冲刷磨损情况,利用仿真软件对球阀在工况条件下的磨损情况进行分析,对如何有效的减少密封面的冲刷磨损,降低泄漏风险,提高耐磨球阀使用寿命有着重要的指导意义。 展开更多
关键词 多晶硅 耐磨球阀 冲刷磨损 仿真分析
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High efficiency grating couplers based on shared process with CMOS MOSFETs
9
作者 仇超 盛振 +5 位作者 李乐 彭树根 武爱民 王曦 邹世昌 甘甫烷 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第2期298-301,共4页
Grating couplers are widely investigated as coupling interfaces between silicon-on-insulator waveguides and optical fibers.In this work,a high-efficiency and complementary metal-oxide-semiconductor(CMOS) process com... Grating couplers are widely investigated as coupling interfaces between silicon-on-insulator waveguides and optical fibers.In this work,a high-efficiency and complementary metal-oxide-semiconductor(CMOS) process compatible grating coupler is proposed.The poly-Si layer used as a gate in the CMOS metal-oxide-semiconductor field effect transistor(MOSFET) is combined with a normal fully etched grating coupler,which greatly enhances its coupling efficiency.With optimal structure parameters,a coupling efficiency can reach as high as ~ 70% at a wavelength of 1550 nm as indicated by simulation.From the angle of fabrication,all masks and etching steps are shared between MOSFETs and grating couplers,thereby making the high performance grating couplers easily integrated with CMOS circuits.Fabrication errors such as alignment shift are also simulated,showing that the device is quite tolerant in fabrication. 展开更多
关键词 grating coupler optical waveguide silicon-ON-INSULATOR poly-silicon
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多晶硅微型电极阵列的研制 被引量:3
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作者 吴英 江永清 +1 位作者 温志渝 张正元 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期317-319,共3页
讨论了pn结对制作硅微电极阵列的局限性,提出了一种在沟道侧壁制作多晶硅电极阵列的设计和制作方法。实验结果表明,利用该方法研制的微电极阵列不仅克服了pn结的影响,能够为MEMS芯片器件提供所需的工作电压,而且也为一些小型化电极的设... 讨论了pn结对制作硅微电极阵列的局限性,提出了一种在沟道侧壁制作多晶硅电极阵列的设计和制作方法。实验结果表明,利用该方法研制的微电极阵列不仅克服了pn结的影响,能够为MEMS芯片器件提供所需的工作电压,而且也为一些小型化电极的设计及研制提供了新的思路和方法。 展开更多
关键词 MEMS 微型电极阵列 多晶硅
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保温时间对定向凝固法提纯多晶硅的影响 被引量:3
11
作者 林涛 孙艳辉 +1 位作者 段春艳 章大钧 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2016年第4期643-646,672,共5页
本文采用#3303工业硅作为定向凝固的原料提纯多晶硅锭。实验过程中保持拉锭速度和冷却水流量为常数,并分别以不同的保温时间作为试验参数进行实验。采用金相显微镜(Metalloscope)和扫描电子显微镜(SEM)对硅锭微观形貌进行表征,结果显示... 本文采用#3303工业硅作为定向凝固的原料提纯多晶硅锭。实验过程中保持拉锭速度和冷却水流量为常数,并分别以不同的保温时间作为试验参数进行实验。采用金相显微镜(Metalloscope)和扫描电子显微镜(SEM)对硅锭微观形貌进行表征,结果显示,硅锭的底部杂质含量最少。定向凝固过程中杂质从硅锭的底部朝着硅锭的顶部方向聚集。用电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)对硅锭杂质含量进行分析,结果显示,效果最好的实验保温时间是30分钟,并由此可以推断保温时间越长,硅锭中的杂质含量越少。 展开更多
关键词 保温时间 定向凝固 多晶硅 提纯
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V型电热硅微致动器动态频率特性 被引量:2
12
作者 张永宇 陈晓阳 杜向阳 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期615-618,共4页
提出了V型电热硅微致动器的弯曲振动力学模型。考虑到微米尺度上的硅梁难以简化为质量块、弹簧振动模型,采用了连续体建模,据此可进行其模态分析及动态频率特性的理论研究。利用自行设计制造的在线动态测试机构,测试了V型电热硅微致器... 提出了V型电热硅微致动器的弯曲振动力学模型。考虑到微米尺度上的硅梁难以简化为质量块、弹簧振动模型,采用了连续体建模,据此可进行其模态分析及动态频率特性的理论研究。利用自行设计制造的在线动态测试机构,测试了V型电热硅微致器在不同激励电压驱动下的响应输出,结果表明其位移输出也是随交变驱动电压的变化而非同步地发生变化。 展开更多
关键词 微致动器 电热 多晶硅 动态特性 MEMS
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Simulation of high conversion efficiency and open-circuit voltages of α-si/poly-silicon solar cell 被引量:2
13
作者 CHEN AQing SHAO QingYi 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2011年第8期1466-1470,共5页
The P+ α-Si /N+ polycrystalline solar cell is molded using the AMPS-1D device simulator to explore the new high efficiency thin film poly-silicon solar cell. In order to analyze the characteristics of this device and... The P+ α-Si /N+ polycrystalline solar cell is molded using the AMPS-1D device simulator to explore the new high efficiency thin film poly-silicon solar cell. In order to analyze the characteristics of this device and the thickness of N+ poly-silicon, we consider the impurity concentration in the N+ poly-silicon layer and the work function of transparent conductive oxide (TCO) in front contact in the calculation. The thickness of N+ poly-silicon has little impact on the device when the thickness varies from 20 μm to 300 μm. The effects of impurity concentration in polycrystalline are analyzed. The conclusion is drawn that the open-circuit voltage (Voc) of P+ α-Si /N+ polycrystalline solar cell is very high, reaching 752 mV, and the conversion efficiency reaches 9.44%. Therefore, based on the above optimum parameters the study on the device formed by P+ α-Si/N+ poly-silicon is significant in exploring the high efficiency poly-silicon solar cell. 展开更多
关键词 P+ α-Si/N+ poly-silicon solar cell photovoltaics thin-film polycrystalline-silicon
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多晶硅生产原料中添加四氯化硅的工艺研究 被引量:2
14
作者 方旭升 刘勇 +3 位作者 陈吉 罗旭峰 谢淼波 何大伟 《现代化工》 CAS CSCD 北大核心 2012年第7期85-87,共3页
提高精馏塔塔顶温度,在原料三氯氢硅中混入体积分数0.9%~20.3%的四氯化硅;调整了进入还原炉的混合气流量和硅棒温度,弱化了四氯化硅的加入对硅沉积速度的不利影响。显著降低了尾气组分中四氯化硅的含量,而多晶硅产品品质和沉积速度无... 提高精馏塔塔顶温度,在原料三氯氢硅中混入体积分数0.9%~20.3%的四氯化硅;调整了进入还原炉的混合气流量和硅棒温度,弱化了四氯化硅的加入对硅沉积速度的不利影响。显著降低了尾气组分中四氯化硅的含量,而多晶硅产品品质和沉积速度无明显变化。优化条件下,进气中STC质量分数从4.21%增加到18.11%,尾气中STC质量分数从32. 展开更多
关键词 多晶硅 原料 添加 四氯化硅 尾气
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Negative-Resistance Characteristics Analysis of Poly-Silicon Resistors Formed on the Flow Sensor
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作者 DianzhongWen 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第A03期490-491,共2页
In this paper we put forward a new concept about effective trapping center concentration N^e_T which is decreasing with the trapped charge Q corresponding to index movement,based on that,we discuss theⅠ-Ⅴand tempera... In this paper we put forward a new concept about effective trapping center concentration N^e_T which is decreasing with the trapped charge Q corresponding to index movement,based on that,we discuss theⅠ-Ⅴand temperature characteristics of polysilicon resistors.The new concept presents ideal theoretical interpretion for the originally observed current-voltage negative-resistance characteristics of polysilicon resistors formed on the flow sensor,and also for poly-silicon film resistors. The final results agree well with the theoretical current-voltage characteristics. 展开更多
关键词 poly-silicon resistor trapping center negative-resistance grain boundary
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节能精馏新技术在改良西门子法多晶硅生产中的应用 被引量:2
16
作者 赵雄 姜利霞 +2 位作者 严大洲 万烨 杨永亮 《有色冶金节能》 2015年第5期49-53,45,共6页
在西门子法多晶硅生产中,降低精馏能耗和提高精馏产品质量的方向主要是优化的工艺流程和高效的分离技术。通过应用预热进料、优化塔组排列顺序、差压热耦合精馏技术及高效规整填料等方法。
关键词 节能精馏新技术 高效分离技术 多晶硅
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准分子激光线形光束晶化非晶硅薄膜 被引量:2
17
作者 尹广玥 游利兵 +4 位作者 陈星 邵景珍 陈亮 王庆胜 方晓东 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2019年第2期219-225,共7页
准分子激光线形光束在多晶硅薄膜的工业生产中有重要应用。基于自行研制的激光退火设备输出的线形XeCl准分子激光对等离子体增强化学气相沉积制备的大尺寸非晶硅薄膜进行退火处理。研究了线形光束的能量密度、辐照数量对薄膜晶化程度的... 准分子激光线形光束在多晶硅薄膜的工业生产中有重要应用。基于自行研制的激光退火设备输出的线形XeCl准分子激光对等离子体增强化学气相沉积制备的大尺寸非晶硅薄膜进行退火处理。研究了线形光束的能量密度、辐照数量对薄膜晶化程度的影响,讨论了制备的大尺寸多晶硅薄膜的晶化体积分数及均匀性。实验结果表明,薄膜晶化的阈值为194 mJ·cm^(-2);薄膜的晶化体积分数随能量密度先线性增大,再缓慢减小,线性增长因子约为0.3,当能量密度为432 mJ·cm^(-2)时,晶化程度最优;当辐照数量超过20次时,薄膜的晶化体积分数维持稳定;当光斑搭接率为93.7%时,制备的大尺寸多晶硅薄膜右侧区域的晶化体积分数为92.26%,相对标准差为1.56%,略好于左侧区域。该工作为线形光束晶化非晶硅薄膜的研究及准分子激光线形光束退火设备的国产化及提供了参考。 展开更多
关键词 薄膜 多晶硅 准分子激光退火 能量密度 搭接率 线形光束
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CaO-SiO_2基造渣剂除硼的研究进展 被引量:2
18
作者 黄平平 吴浩 +3 位作者 傅翠梨 张蓉 李锦堂 罗学涛 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第19期68-71,共4页
太阳能电池中B作为受主杂质在硅基体中的含量不得超过0.3×10-6。造渣氧化精炼是有效的除硼方法之一,综述了CaO-SiO2基造渣剂除硼的研究进展。研究发现,向融硅中连续不断地加入60%CaO-40%SiO2造渣剂,原料硅中的B含量可从40×10-... 太阳能电池中B作为受主杂质在硅基体中的含量不得超过0.3×10-6。造渣氧化精炼是有效的除硼方法之一,综述了CaO-SiO2基造渣剂除硼的研究进展。研究发现,向融硅中连续不断地加入60%CaO-40%SiO2造渣剂,原料硅中的B含量可从40×10-6降至1×10-6。硼分离系数(LB)在低碱度(0.55)到高碱度(1.21)呈明显抛物线形状。添加少量CaF2会增加渣的实际碱度比,但过量的CaF2则起到稀释渣的有效成分和降低渣熔点的作用。本实验室利用CaO-SiO2-CaF2体系进行造渣实验也获得很好的除硼效果。 展开更多
关键词 多晶硅 造渣 除硼
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多晶硅集成高温压力传感器研究 被引量:2
19
作者 张威 王阳元 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第11期1736-1738,共3页
高温压力传感器因其特殊的应用环境而日益受到人们的重视 .一些特殊的材料如SiC、SOI等可以用来制作高温压力传感器 ,但是由于成本较高或加工难度大等原因 ,尚未得到广泛应用 .本文提出了一种新型的高温压力传感器 ,采用多晶硅作为压敏... 高温压力传感器因其特殊的应用环境而日益受到人们的重视 .一些特殊的材料如SiC、SOI等可以用来制作高温压力传感器 ,但是由于成本较高或加工难度大等原因 ,尚未得到广泛应用 .本文提出了一种新型的高温压力传感器 ,采用多晶硅作为压敏电阻 ,同时采用新的工艺措施与全耗尽CMOS放大电路集成在一起 ,将输出电压转换为 0~ +5V的输出信号 .通过模拟与投片实验 ,得到了优化的多晶硅注入浓度 ,从而使其压阻温度系数在 - 4 0℃~ 180℃范围内接近于零 . 展开更多
关键词 集成 CMOS 多晶硅 压力传感器
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CMOS器件用金属栅材料的研究进展 被引量:1
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作者 蔡苇 符春林 +1 位作者 邓小玲 程文德 《金属功能材料》 CAS 2008年第3期43-48,共6页
传统多晶硅栅已不能适应CMOS器件尺寸进一步减小的要求,因此需要金属栅极材料来取代多晶硅。本文综述了多晶硅栅极存在的问题;金属栅极材料性能的要求;新型金属栅材料的研究进展及热点。最后提出了金属栅极材料研究中需要进一步解决的... 传统多晶硅栅已不能适应CMOS器件尺寸进一步减小的要求,因此需要金属栅极材料来取代多晶硅。本文综述了多晶硅栅极存在的问题;金属栅极材料性能的要求;新型金属栅材料的研究进展及热点。最后提出了金属栅极材料研究中需要进一步解决的问题。 展开更多
关键词 金属栅 综述 多晶硅 性能
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