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机器人气囊抛光SiC光学元件加工特性研究 被引量:10
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作者 黄智 周涛 +3 位作者 吴湘 刘海涛 万勇健 郑晓 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第12期22-29,共8页
针对碳化硅光学元件已有的化学机械抛光、磁流变抛光、电化学抛光和催化剂辅助抛光等方式存在材料去除率低、成本高等问题,提出机器人气囊抛光方法,并对气囊抛光特性、抛光头机械结构进行了研究。首先基于Preston理论和赫兹接触理论以... 针对碳化硅光学元件已有的化学机械抛光、磁流变抛光、电化学抛光和催化剂辅助抛光等方式存在材料去除率低、成本高等问题,提出机器人气囊抛光方法,并对气囊抛光特性、抛光头机械结构进行了研究。首先基于Preston理论和赫兹接触理论以及速度分析建立了材料理论去除模型,并对去除函数进行了仿真,再此基础上设计了气囊抛光磨头装置。然后对非球面碳化硅元件开展了单点和多点抛光,实验验证了去除函数的精确性和稳定性。最后通过粗抛和精抛进行加工应用验证,实验结果表明,所提出方法能够有效实现碳化硅光学元件抛光,并且去除函数精度高稳定性强,通过3个周期的粗抛、4个周期的精抛,面形收敛率分别为69.4%、51.9%,且收敛速度快、加工精度高。 展开更多
关键词 气囊抛光 碳化硅 去除函数 抛光头
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300mm晶圆化学机械抛光机关键技术研究与实现 被引量:8
2
作者 王同庆 路新春 +2 位作者 赵德文 门延武 何永勇 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期182-187,共6页
在芯片微细化和互连多层化趋势下,化学机械抛光(Chemical mechanical polishing,CMP)成为集成电路制造的核心技术。针对300 mm晶圆CMP装备被极少数国外厂家垄断、国内300 mm晶圆CMP装备水平远远落后的现状,开展300 mm晶圆CMP装备关键技... 在芯片微细化和互连多层化趋势下,化学机械抛光(Chemical mechanical polishing,CMP)成为集成电路制造的核心技术。针对300 mm晶圆CMP装备被极少数国外厂家垄断、国内300 mm晶圆CMP装备水平远远落后的现状,开展300 mm晶圆CMP装备关键技术研究。研制出300 mm晶圆多区压力抛光头及其压力控制系统,该抛光头具有多区压力、浮动保持环及真空吸附等功能,每个腔室均可实现施加正压、抽负压、通大气和泄漏检测;压力控制系统性能测试结果表明,该系统可实现689.5 Pa的超低压力,其精度和响应速度均能满足常规压力及超低压力CMP的要求;开发了300 mm晶圆超低压力CMP样机,创建出一套比较稳定、可靠的工艺流程,并利用该样机初步开展铜CMP试验研究。试验结果表明:抛光压力为15.169 kPa时,材料去除率达671.3 nm/min,片内非均匀性为3.93%。 展开更多
关键词 300 mm晶圆 抛光头 多区压力 超低压力 化学机械抛光
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抛光磨头摆动机构建模与运动仿真 被引量:6
3
作者 迟明善 邵俊鹏 王仲文 《哈尔滨理工大学学报》 CAS 2012年第5期29-33,共5页
为了研究抛光磨头摆动机构的振动问题,采用SolidWorks软件建立抛光磨头摆动机构的三维模型图,并利用其COSMOSMotion插件对该机构摆动的角位移、速度和加速度进行分析.结果表明,该款磨头的主动摆杆与从动摆杆运动规律正好相反,但是凸轮... 为了研究抛光磨头摆动机构的振动问题,采用SolidWorks软件建立抛光磨头摆动机构的三维模型图,并利用其COSMOSMotion插件对该机构摆动的角位移、速度和加速度进行分析.结果表明,该款磨头的主动摆杆与从动摆杆运动规律正好相反,但是凸轮与主动摆杆间存在较大接触间隙以及从动摆杆的运动也存在较大误差,为进一步的研究并改善抛光磨头的性能奠定了基础. 展开更多
关键词 抛光磨头 SolidWorks/COSMOSMotion 运动仿真
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多转速抛光机创新设计及振动实验研究 被引量:5
4
作者 邵俊鹏 徐斌 《振动与冲击》 EI CSCD 北大核心 2012年第4期110-114,150,共6页
为了提高瓷砖抛光机的效率,提出一种多转速抛光机。分析了多转速抛光机结构和原理,设计了磨头变速机构。以新多转速抛光机磨头为研究对象,建立磨头动力学模型。得出Z方向的振动大于X、Y方向的振动,并通过实验得到验证。通过实验确定了... 为了提高瓷砖抛光机的效率,提出一种多转速抛光机。分析了多转速抛光机结构和原理,设计了磨头变速机构。以新多转速抛光机磨头为研究对象,建立磨头动力学模型。得出Z方向的振动大于X、Y方向的振动,并通过实验得到验证。通过实验确定了多转速抛光机粗磨磨头转速为570 r/min、压力为2.6~3.2 MPa,精磨磨头转速为475r/min、压力为2.6 MPa,抛光磨头转速为570 r/min、压力为3.2 MPa。 展开更多
关键词 抛光机 多转速 磨头 振动加速度
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基于环形磁场励磁的多工位磁流变抛光方法 被引量:4
5
作者 周琴琴 彭可 +2 位作者 陈永福 赵卓 杨玉娥 《制造技术与机床》 北大核心 2019年第7期105-111,共7页
提出一种基于环形磁场励磁的商用磁流变抛光方法,可满足工业化大批量生产需求。通过设计环形磁场的电磁铁,进行三维有限元仿真分析,配合既公转、自转又摇摆的多工位抛光头,搭建环形磁场磁流变抛光装置。利用该平台分别对表面粗糙度为0.2... 提出一种基于环形磁场励磁的商用磁流变抛光方法,可满足工业化大批量生产需求。通过设计环形磁场的电磁铁,进行三维有限元仿真分析,配合既公转、自转又摇摆的多工位抛光头,搭建环形磁场磁流变抛光装置。利用该平台分别对表面粗糙度为0.2 μm的铝合金和不锈钢手表框曲面进行磁流变抛光试验,结果表明该方法可以同时对多个工件的曲面进行抛光,抛光后两者的表面粗糙度分别提高到0.05 μm和0.025 μm,从而验证该加工方法进行精密抛光的可行性。 展开更多
关键词 磁流变抛光 环形磁场 磁场仿真 抛光头 曲面
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行星运动方式下不同形状磨头的去除函数 被引量:4
6
作者 姚永胜 马臻 +4 位作者 许亮 丁蛟腾 王永杰 沈乐 蒋波 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第10期2706-2713,共8页
为了在光学元件的加工中获取更加接近高斯型的去除函数,本文基于传统行星运动抛光理论,提出了用自转去除函数公转轨迹积分较方便地求取各种复杂形状磨头去除函数的方法。当转速比大于10时,新方法与传统方法得到的实心圆盘去除函数曲线... 为了在光学元件的加工中获取更加接近高斯型的去除函数,本文基于传统行星运动抛光理论,提出了用自转去除函数公转轨迹积分较方便地求取各种复杂形状磨头去除函数的方法。当转速比大于10时,新方法与传统方法得到的实心圆盘去除函数曲线非常接近,从而验证了提出方法的正确性。采用新方法推导了不同形状磨头的去除函数,并通过计算机进行了仿真实验。实验显示:磨头形状为Ⅱ型花瓣,偏心率为0.4时,可以获得非常接近高斯型的去除函数。针对Ⅱ型花瓣磨头进行了抛光试验,结果表明,当偏心率为0.4、转速比为10时,试验结果与仿真结果非常吻合,且都非常接近高斯型去除函数。实验结果再次验证了新方法的正确性。 展开更多
关键词 行星抛光 磨头 高斯型去除函数 自转去除函数
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Contact stress non-uniformity of wafer surface for multi-zone chemical mechanical polishing process 被引量:3
7
作者 WANG TongQing LU XinChun +1 位作者 ZHAO DeWen HE YongYong 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2013年第8期1974-1979,共6页
A finite element analysis(FEA)model is developed for the chemical-mechanical polishing(CMP)process on the basis of a 12-in five-zone polishing head.The proposed FEA model shows that the contact stress non-uniformity i... A finite element analysis(FEA)model is developed for the chemical-mechanical polishing(CMP)process on the basis of a 12-in five-zone polishing head.The proposed FEA model shows that the contact stress non-uniformity is less dependent on the material property of the membrane and the geometry of the retaining ring.The larger the elastic modulus of the pad,the larger contact stress non-uniformity of the wafer.The applied loads on retaining ring and zone of the polishing head significantly affect the contact stress distribution.The stress adjustment ability of a zone depends on its position.In particular,the inner-side zone has a high stress adjustment ability,whereas the outer-side zone has a low stress adjustment ability.The predicted results by the model are shown to be consistent with the experimental data.Analysis results have revealed some insights regarding the performance of the multi-zone CMP. 展开更多
关键词 chemical mechanical polishing contact stress NON-UNIFORMITY multi-zone polishing head retaining ring
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冲击-切削联合破碎瓷砖机理与建模 被引量:3
8
作者 邵俊鹏 徐斌 《振动与冲击》 EI CSCD 北大核心 2012年第11期32-37,共6页
为了研究磨头磨粒的破碎瓷砖机理,分析抛光机的结构和运行原理,提出磨粒在冲击与切削联合作用下破碎瓷砖,并分析其机理。建立磨粒冲击破碎瓷砖和切削破碎瓷砖的模型,综合理论分析得出:磨头转速、磨头压力、磨粒粒度号是影响瓷砖破碎的... 为了研究磨头磨粒的破碎瓷砖机理,分析抛光机的结构和运行原理,提出磨粒在冲击与切削联合作用下破碎瓷砖,并分析其机理。建立磨粒冲击破碎瓷砖和切削破碎瓷砖的模型,综合理论分析得出:磨头转速、磨头压力、磨粒粒度号是影响瓷砖破碎的主要因素。多磨块磨头可以提高瓷砖的磨削深度。 展开更多
关键词 抛光机 磨头 冲击-切削 瓷砖
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磨粒的“后部效应”对瓷砖破碎及振动的影响 被引量:2
9
作者 邵俊鹏 徐斌 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2012年第6期36-42,共7页
为了研究磨头微观加工机理,提出低、高速磨头微观冲击机理。建立微观冲击速度和振幅模型。通过SEM实验得出瓷砖微观缺陷形成过程,并验证了冲击机理理论符合瓷砖表面形貌。通过振动实验得出:粗抛阶段,低速磨头可以减少瓷砖缺陷,降低冲击... 为了研究磨头微观加工机理,提出低、高速磨头微观冲击机理。建立微观冲击速度和振幅模型。通过SEM实验得出瓷砖微观缺陷形成过程,并验证了冲击机理理论符合瓷砖表面形貌。通过振动实验得出:粗抛阶段,低速磨头可以减少瓷砖缺陷,降低冲击振动;精抛阶段,高转速磨头可以提高瓷砖的表面质量。 展开更多
关键词 抛光机 磨头 微观冲击 瓷砖
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抛光机磨头磨块座振动问题求解及实验 被引量:2
10
作者 徐斌 邵俊鹏 刘嘉 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期179-184,共6页
为了研究磨块座的振动频率对瓷砖碎裂和磨削效率的影响,以摆动式抛光磨头磨块座为研究对象,将其简化为悬臂梁模型。利用有限差分方程得出磨块座的横向自由振动频率,并通过李却德孙外推法修正K值。通过实例计算得出磨块座的自由振动频率... 为了研究磨块座的振动频率对瓷砖碎裂和磨削效率的影响,以摆动式抛光磨头磨块座为研究对象,将其简化为悬臂梁模型。利用有限差分方程得出磨块座的横向自由振动频率,并通过李却德孙外推法修正K值。通过实例计算得出磨块座的自由振动频率为5.68Hz。通过实验得出主轴频率与磨块座频率共振是碎砖的主因。主轴频率控制在8.7Hz可以保证高磨削效率和低碎砖率。 展开更多
关键词 抛光机 磨头 磨块座 振动频率
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抛光机磨头抛光深度建模与实验 被引量:1
11
作者 邵俊鹏 徐斌 李冲 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2012年第5期713-717,共5页
为了研究抛光机磨头在垂直方向上的抛光量,分析了抛光机的结构和运行原理,以及磨块上的磨粒抛光瓷砖机理,分析结果得出磨头在垂直方向上以螺旋形轨迹抛光瓷砖。将磨块简化为刮刀模型,建立磨头在垂直方向上的抛光深度数学模型,并通过实... 为了研究抛光机磨头在垂直方向上的抛光量,分析了抛光机的结构和运行原理,以及磨块上的磨粒抛光瓷砖机理,分析结果得出磨头在垂直方向上以螺旋形轨迹抛光瓷砖。将磨块简化为刮刀模型,建立磨头在垂直方向上的抛光深度数学模型,并通过实验验证了所建模型的正确性。 展开更多
关键词 抛光机 磨头 磨块 抛光深度
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陶瓷抛光机磨头专用润滑脂的开发应用 被引量:1
12
作者 李秋炎 卢少华 林国就 《广东化工》 CAS 2017年第5期53-55,共3页
根据陶瓷抛光机磨头实际工况,研制出了陶瓷抛光机磨头专用脂。该产品以Ⅰ类基础油和抽出油为基础油,以十二羟基硬脂酸、氢氧化锂、氢氧化钙等为稠化剂,同时添加了极压、抗磨、防锈等多种添加剂调合而成。产品具有较好的抗氧化性能、抗... 根据陶瓷抛光机磨头实际工况,研制出了陶瓷抛光机磨头专用脂。该产品以Ⅰ类基础油和抽出油为基础油,以十二羟基硬脂酸、氢氧化锂、氢氧化钙等为稠化剂,同时添加了极压、抗磨、防锈等多种添加剂调合而成。产品具有较好的抗氧化性能、抗磨性能、抗流失性能。在某陶瓷厂使用后,解决了原润滑脂存在易漏失、承载能力低的问题,完全满足用户使用需要。 展开更多
关键词 抛光机 磨头 经济
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抛光机磨头磨削方式对磨削效果影响的试验研究 被引量:1
13
作者 邵俊鹏 徐斌 李冲 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第20期2423-2427,共5页
为了研究不同磨头的磨削效果,建立了垂直轴磨头磨削过程模型,并通过试验验证了其正确性。综合理论分析和试验研究结果可知:垂直轴磨头磨削瓷砖时,磨削后的瓷砖表面不平整。提出了倾斜轴磨头磨削瓷砖的加工方式,通过一系列试验得出倾斜... 为了研究不同磨头的磨削效果,建立了垂直轴磨头磨削过程模型,并通过试验验证了其正确性。综合理论分析和试验研究结果可知:垂直轴磨头磨削瓷砖时,磨削后的瓷砖表面不平整。提出了倾斜轴磨头磨削瓷砖的加工方式,通过一系列试验得出倾斜轴磨头定深磨削可以有效提高瓷砖的平整度的结论。 展开更多
关键词 抛光机 磨头 垂直磨削 倾斜磨削
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高温合金脉冲电化学复合抛光实验研究
14
作者 田喜明 朱红钢 张云鹏 《电加工与模具》 2012年第4期13-16,共4页
电化学机械复合抛光是近年来发展起来的一种抛光新技术。针对粗糙表面的高效抛光问题,提出一种两阶段的电化学机械复合抛光和纯机械抛光相结合的方法。论述了脉冲电化学机械复合抛光加工的实验设备,进行了系统的工艺参数实验研究;用方... 电化学机械复合抛光是近年来发展起来的一种抛光新技术。针对粗糙表面的高效抛光问题,提出一种两阶段的电化学机械复合抛光和纯机械抛光相结合的方法。论述了脉冲电化学机械复合抛光加工的实验设备,进行了系统的工艺参数实验研究;用方差分析的方法分析了各参数对加工试件表面粗糙度影响的显著性,得出最佳的工艺参数;详细分析了不同磨头加工时各参数对表面粗糙度的影响规律。实验研究表明,利用脉冲电化学机械复合抛光的加工方法,采用各种类型的阴极工具头,可实现镜面加工。 展开更多
关键词 脉冲电化学机械磨头抛光加工
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机械-水力联合破碎瓷砖及降噪机理
15
作者 徐斌 邵俊鹏 刘建军 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2016年第3期31-38,共8页
为了研究水力辅助破碎瓷砖和降噪机理,建立水射流冲击瓷砖模型,提出机械-水力联合作用下破碎瓷砖,并分析其机理。通过SEM分析得出噪声主要发生在瓷砖表面比较粗糙的地方。建立湿磨瓷砖降噪模型。由一系列干湿磨瓷砖噪声对比实验表明,湿... 为了研究水力辅助破碎瓷砖和降噪机理,建立水射流冲击瓷砖模型,提出机械-水力联合作用下破碎瓷砖,并分析其机理。通过SEM分析得出噪声主要发生在瓷砖表面比较粗糙的地方。建立湿磨瓷砖降噪模型。由一系列干湿磨瓷砖噪声对比实验表明,湿磨瓷砖噪声性能优于干磨瓷砖,有显著的降噪作用。 展开更多
关键词 抛光机 磨头 机械-水力 瓷砖 降噪
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MPM-700光学零件抛光平台的研制与改进
16
作者 杨师 李嘉浪 +1 位作者 张世崇 熊朋 《电子工业专用设备》 2016年第4期25-28,59,共5页
论述了用于激光陀螺仪、旋光片抛光的MPM-700光学零件抛光平台的主要结构及特点。介绍了该设备在传动方式、台面选型优化、抛光头装载结构方面较原PG-710抛光设备的技术改进;并通过运用有限元软件对该抛光平台架进行受载情况仿真,消除... 论述了用于激光陀螺仪、旋光片抛光的MPM-700光学零件抛光平台的主要结构及特点。介绍了该设备在传动方式、台面选型优化、抛光头装载结构方面较原PG-710抛光设备的技术改进;并通过运用有限元软件对该抛光平台架进行受载情况仿真,消除了抛光过程中抛光盘变形对抛光效果的影响,进而在理论和实践两个方面确定了该设备已达到设计要求。 展开更多
关键词 光学零件 超精密抛光 抛光头
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抛光机磨头微观冲击机理与实验
17
作者 邵俊鹏 徐斌 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2012年第3期46-52,共7页
为了研究磨头微观加工机理,提出低、高速磨头微观冲击机理。建立微观冲击速度和振幅模型。通过SEM实验得出瓷砖微观缺陷形成过程,并验证了冲击机理理论符合瓷砖表面形貌。通过振动实验得出:粗抛阶段,低速磨头可以减少瓷砖缺陷,降低冲击... 为了研究磨头微观加工机理,提出低、高速磨头微观冲击机理。建立微观冲击速度和振幅模型。通过SEM实验得出瓷砖微观缺陷形成过程,并验证了冲击机理理论符合瓷砖表面形貌。通过振动实验得出:粗抛阶段,低速磨头可以减少瓷砖缺陷,降低冲击振动;精抛阶段,高转速磨头可以提高瓷砖的表面质量。 展开更多
关键词 抛光机 磨头 微观冲击 瓷砖
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瓷质砖抛光生产线抛光磨削机理探讨
18
作者 许立坤 《佛山陶瓷》 2020年第11期34-37,共4页
抛光线对于提升瓷砖的整体质量有至关重要的作用。以抛光磨头为研究对象,通过分析整体抛光磨头的分裂排布,研究抛光磨头的运动状态,对此实际生产探讨瓷砖抛光生产线的磨削机理。得出抛光磨块的分布特点以及抛光磨头的运动轨迹,通过理论... 抛光线对于提升瓷砖的整体质量有至关重要的作用。以抛光磨头为研究对象,通过分析整体抛光磨头的分裂排布,研究抛光磨头的运动状态,对此实际生产探讨瓷砖抛光生产线的磨削机理。得出抛光磨块的分布特点以及抛光磨头的运动轨迹,通过理论计算得出不同的运输皮带速度、摆动速度以及不同砖坯大小下的整体布局。对抛光线的设计、维护、整改具有很强的指导意义。 展开更多
关键词 抛光磨头 磨块 磨削 速度 周期
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基于ADAMS的摆动式抛光磨头凸轮改进设计研究
19
作者 叶友东 汪凯 周哲波 《安徽理工大学学报(自然科学版)》 CAS 2018年第4期1-5,共5页
为提高国产磨头抛光性能,利用ADAMS软件对MT268磨头中凸轮机构运动过程中的加速度冲击问题进行了仿真研究,提出采用正弦加速度运动规律改进凸轮轮廓,仿真结果表明改进后的凸轮能有效地降低模块座加速度冲击;同时利用软件参数化分析功能... 为提高国产磨头抛光性能,利用ADAMS软件对MT268磨头中凸轮机构运动过程中的加速度冲击问题进行了仿真研究,提出采用正弦加速度运动规律改进凸轮轮廓,仿真结果表明改进后的凸轮能有效地降低模块座加速度冲击;同时利用软件参数化分析功能对凸轮和滚轮的接触间隙进行了分析研究,得到凸轮合理的安装位置并给出一种具体的结构改进方案。 展开更多
关键词 抛光磨头 凸轮 接触间隙 ADAMS
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瓷砖抛光轨迹对振动影响的实验研究
20
作者 邵俊鹏 徐斌 《振动与冲击》 EI CSCD 北大核心 2012年第18期50-54,共5页
为了研究瓷砖微观轨迹对振动的影响,对粗、中、精抛瓷砖进行了SEM实验,同时对抛光机磨头进行了振动实验。通过SEM实验得出瓷砖两端为平行轨迹,中间为交叉轨迹。通过振动实验得出:粗抛阶段,平行轨迹处振动大,交叉轨迹处振动小;中、精抛阶... 为了研究瓷砖微观轨迹对振动的影响,对粗、中、精抛瓷砖进行了SEM实验,同时对抛光机磨头进行了振动实验。通过SEM实验得出瓷砖两端为平行轨迹,中间为交叉轨迹。通过振动实验得出:粗抛阶段,平行轨迹处振动大,交叉轨迹处振动小;中、精抛阶段,平行和交叉轨迹对振动影响很小,磨头运行平稳。 展开更多
关键词 抛光机 磨头 轨迹 振动
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