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本征氢化非晶硅薄膜厚度对其钝化性能和HIT太阳电池电性能的影响
1
作者
杜敬良
张会学
+3 位作者
姜利凯
勾宪芳
刘海涛
王丽婷
《太阳能》
2023年第11期25-32,共8页
以异质结(HIT)太阳电池的本征氢化非晶硅薄膜为研究对象,该HIT太阳电池采用n型硅片作为晶硅衬底,其n型电子传输层(下文简称为“n面”)为入光侧,p型空穴传输层(下文简称为“p面”)为背光侧。首先研究了n面和p面本征氢化非晶硅薄膜的厚度...
以异质结(HIT)太阳电池的本征氢化非晶硅薄膜为研究对象,该HIT太阳电池采用n型硅片作为晶硅衬底,其n型电子传输层(下文简称为“n面”)为入光侧,p型空穴传输层(下文简称为“p面”)为背光侧。首先研究了n面和p面本征氢化非晶硅薄膜的厚度对膜层钝化性能和光透过率的影响,然后进一步研究了n面和p面本征氢化非晶硅薄膜不同厚度匹配设计对HIT太阳电池电性能的影响,并选出了最优厚度匹配方案。研究结果表明:1)n面本征氢化非晶硅薄膜的厚度越薄,n面非晶硅膜层的光透过率越高,但钝化效果会变差;当厚度达到5 nm时,硅片的少子寿命趋于稳定。2)在n面本征氢化非晶硅薄膜厚度一定的情况下,随着p面本征氢化非晶硅薄膜的厚度变厚,硅片的少子寿命先快速增加,当厚度达到9 nm时,硅片的少子寿命趋于稳定;当厚度大于9 nm时,制备的HIT太阳电池的短路电流和填充因子均下降,表明其串联电阻增大,导致光电转换效率降低。3)当n面和p面本征氢化非晶硅薄膜的厚度分别为5、9 nm时,n面的钝化效果和光透过率匹配较好,p面的钝化效果和电阻率匹配最优,即为最优厚度匹配方案;此方案制备得到的HIT太阳电池的光电转换效率达到最高,为24.59%。
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关键词
异质结太阳电池
板式
pecvd
设备
本征氢化非晶硅薄膜
钝化
少子寿命
光透过率
电性能
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职称材料
微波板式PECVD设备多晶硅片表面镀膜均匀性影响因素的研究
被引量:
1
2
作者
王贵梅
刘苗
+2 位作者
朱少杰
赵环
李影影
《太阳能》
2020年第12期56-61,共6页
由于多晶硅片表面在不同晶粒之间的晶格取向、绒面特性,反射率等方面都存在较大差别,因此在多晶硅片表面制备的SiNx膜的均匀性较差。研究微波板式PECVD设备相关配件对其在多晶硅片表面镀膜时膜层均匀性的影响。结果显示,石英管、耐高温...
由于多晶硅片表面在不同晶粒之间的晶格取向、绒面特性,反射率等方面都存在较大差别,因此在多晶硅片表面制备的SiNx膜的均匀性较差。研究微波板式PECVD设备相关配件对其在多晶硅片表面镀膜时膜层均匀性的影响。结果显示,石英管、耐高温胶带厂家的差异,气路的气孔个数差异,加热板、导波器的完好程度差异均会对微波板式PECVD设备在多晶硅片表面镀膜时的均匀性产生较大影响。
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关键词
多晶硅片
SiNx膜
微波板式
pecvd
设备
均匀性
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职称材料
题名
本征氢化非晶硅薄膜厚度对其钝化性能和HIT太阳电池电性能的影响
1
作者
杜敬良
张会学
姜利凯
勾宪芳
刘海涛
王丽婷
机构
中节能太阳能科技(镇江)有限公司
中节能太阳能股份有限公司
出处
《太阳能》
2023年第11期25-32,共8页
文摘
以异质结(HIT)太阳电池的本征氢化非晶硅薄膜为研究对象,该HIT太阳电池采用n型硅片作为晶硅衬底,其n型电子传输层(下文简称为“n面”)为入光侧,p型空穴传输层(下文简称为“p面”)为背光侧。首先研究了n面和p面本征氢化非晶硅薄膜的厚度对膜层钝化性能和光透过率的影响,然后进一步研究了n面和p面本征氢化非晶硅薄膜不同厚度匹配设计对HIT太阳电池电性能的影响,并选出了最优厚度匹配方案。研究结果表明:1)n面本征氢化非晶硅薄膜的厚度越薄,n面非晶硅膜层的光透过率越高,但钝化效果会变差;当厚度达到5 nm时,硅片的少子寿命趋于稳定。2)在n面本征氢化非晶硅薄膜厚度一定的情况下,随着p面本征氢化非晶硅薄膜的厚度变厚,硅片的少子寿命先快速增加,当厚度达到9 nm时,硅片的少子寿命趋于稳定;当厚度大于9 nm时,制备的HIT太阳电池的短路电流和填充因子均下降,表明其串联电阻增大,导致光电转换效率降低。3)当n面和p面本征氢化非晶硅薄膜的厚度分别为5、9 nm时,n面的钝化效果和光透过率匹配较好,p面的钝化效果和电阻率匹配最优,即为最优厚度匹配方案;此方案制备得到的HIT太阳电池的光电转换效率达到最高,为24.59%。
关键词
异质结太阳电池
板式
pecvd
设备
本征氢化非晶硅薄膜
钝化
少子寿命
光透过率
电性能
Keywords
HIT
solar
cells
plate
pecvd
equipment
intrinsic
hydrogenated
amorphous
silicon
film
passivation
minority
carrier
lifetime
transmittance
electrical
performance
分类号
TM914.41 [电气工程—电力电子与电力传动]
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职称材料
题名
微波板式PECVD设备多晶硅片表面镀膜均匀性影响因素的研究
被引量:
1
2
作者
王贵梅
刘苗
朱少杰
赵环
李影影
机构
晶澳太阳能有限公司
出处
《太阳能》
2020年第12期56-61,共6页
文摘
由于多晶硅片表面在不同晶粒之间的晶格取向、绒面特性,反射率等方面都存在较大差别,因此在多晶硅片表面制备的SiNx膜的均匀性较差。研究微波板式PECVD设备相关配件对其在多晶硅片表面镀膜时膜层均匀性的影响。结果显示,石英管、耐高温胶带厂家的差异,气路的气孔个数差异,加热板、导波器的完好程度差异均会对微波板式PECVD设备在多晶硅片表面镀膜时的均匀性产生较大影响。
关键词
多晶硅片
SiNx膜
微波板式
pecvd
设备
均匀性
Keywords
polycrystalline
silicon
wafer
SiNx
film
microwave
plate
pecvd
equipment
uniformity
分类号
TK514 [动力工程及工程热物理—热能工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
本征氢化非晶硅薄膜厚度对其钝化性能和HIT太阳电池电性能的影响
杜敬良
张会学
姜利凯
勾宪芳
刘海涛
王丽婷
《太阳能》
2023
0
下载PDF
职称材料
2
微波板式PECVD设备多晶硅片表面镀膜均匀性影响因素的研究
王贵梅
刘苗
朱少杰
赵环
李影影
《太阳能》
2020
1
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
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引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
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