等离子体抛光对表面粗糙度的影响 被引量：5

1

作者 刘卫国 田园 《西安工业大学学报》 CAS 2010年第2期108-111,116,共5页

为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术——等离子体抛光.在新设计的等离子加工实验平台上进行了等离子体加工工艺实验,对氧气流量,放电功率大小,磁场大小几个参数对基片表面粗糙度的影响进行了... 为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术——等离子体抛光.在新设计的等离子加工实验平台上进行了等离子体加工工艺实验,对氧气流量,放电功率大小,磁场大小几个参数对基片表面粗糙度的影响进行了实验研究,且优化了工艺参数.结果表明增加氧气流量,合理控制功率和磁场强度都会使等离子体抛光基片表面粗糙度减小.当氧气流量为50 sccm,功率为80 W,磁场强度为17 mT时,粗糙度达到最小值0.9 nm. 展开更多

关键词 超光滑表面 等离子体抛光 表面粗糙度 氧气流量 等离子体功率 磁场强度

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等离子体加工光学元件工艺研究 被引量：4

2

作者 王颖男 杭凌侠 胡敏达 《表面技术》 EI CAS CSCD 2008年第1期51-53,共3页

为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术——等离子体抛光。介绍了有关等离子体刻蚀的研究进展以及去除机理,在已经设计好的实验平台上进行等离子体加工工艺实验,对影响去除效果的参数进行了实验研... 为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术——等离子体抛光。介绍了有关等离子体刻蚀的研究进展以及去除机理,在已经设计好的实验平台上进行等离子体加工工艺实验,对影响去除效果的参数进行了实验研究,最后进行工艺参数优化。结果表明此技术能够应用于对光学元件的加工。 展开更多

关键词 超光滑表面 等离子体抛光 电容耦合放电 表面粗糙度 去除速率

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电解质等离子抛光表面粗糙度随时间变化规律 被引量：5

3

作者 王季 索来春 +1 位作者 关丽丽 付宜利 《哈尔滨工程大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第2期227-232,共6页

表面粗糙度是衡量抛光效果的最主要标准.依据电解质等离子抛光机理建立表面粗糙度随时间变化的数学模型,实验得出一定条件下经过不同的抛光时间之后试件表面的实际粗糙度值,用这些实验数据和数学模型进行非线性拟合,并根据拟合结果对数... 表面粗糙度是衡量抛光效果的最主要标准.依据电解质等离子抛光机理建立表面粗糙度随时间变化的数学模型,实验得出一定条件下经过不同的抛光时间之后试件表面的实际粗糙度值,用这些实验数据和数学模型进行非线性拟合,并根据拟合结果对数学模型进行了修正.修正后的数学模型与实验数据的拟合程度很好,校正可决系数达到了0.97139.在不同的抛光液温度下,又进行了2组实验,验证了修正后的数模模型与实际抛光时的情况基本一致. 展开更多

关键词 电解质 等离子粗糙度 抛光时间 数学模型

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黄铜饰品的等离子抛光 被引量：3

4

作者 闫黎 袁军平 +1 位作者 李浩妍 邓雅文 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2021年第11期865-870,共6页

以由柠檬酸铵、柠檬酸、醋酸铵和乙二胺四乙酸(EDTA)为电解质配制成的抛光液对黄铜饰品进行等离子抛光。采用激光共聚焦显微镜、扫描电镜、能谱仪、测色仪、高精密电子天平等手段研究了抛光液组成和抛光时间对抛光效果的影响。通过正交... 以由柠檬酸铵、柠檬酸、醋酸铵和乙二胺四乙酸(EDTA)为电解质配制成的抛光液对黄铜饰品进行等离子抛光。采用激光共聚焦显微镜、扫描电镜、能谱仪、测色仪、高精密电子天平等手段研究了抛光液组成和抛光时间对抛光效果的影响。通过正交试验得到的最优电解液组成为:柠檬酸铵20 g/L,醋酸铵10 g/L,柠檬酸5 g/L,EDTA 6 g/L。随着抛光时间延长,试样表面粗糙度和氧含量先降低后增加,而光泽的变化趋势相反。将抛光时间控制在1.0~2.0 min,可以有效降低工件表面粗糙度,获得光滑亮泽的表面。 展开更多

关键词 黄铜 饰品 等离子抛光 电解液 表面结构 粗糙度

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石英玻璃的等离子体抛光技术研究现状 被引量：2

5

作者 屈睿 李朝将 +4 位作者 孙元成 张晓强 金鑫 李绍良 左镇 《飞控与探测》 2021年第1期22-35,共14页

具有耐腐蚀、热膨胀系数低等诸多优良物理化学特性的石英玻璃在高性能光学系统中被广泛使用。其要求元件达到纳米级的表面粗糙度,而且没有损伤层和残余应力,因此精加工之后的超精密抛光工序尤为重要。文章介绍了气囊、磁流变、弹性发射... 具有耐腐蚀、热膨胀系数低等诸多优良物理化学特性的石英玻璃在高性能光学系统中被广泛使用。其要求元件达到纳米级的表面粗糙度,而且没有损伤层和残余应力,因此精加工之后的超精密抛光工序尤为重要。文章介绍了气囊、磁流变、弹性发射、离子束等几种石英玻璃精密抛光方法,侧重阐述了国内外等离子体抛光技术,包括等离子体辅助化学刻蚀、等离子体喷射加工、等离子化学蒸发加工技术的研究进展及取得的成果,并且对等离子体技术的未来发展进行了概述。 展开更多

关键词 石英玻璃 等离子体抛光 离子束抛光 亚表面损伤 残余应力

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大气等离子体抛光技术在超光滑硅表面加工中的应用 被引量：18

6

作者 张巨帆 王波 董申 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1749-1755,共7页

发展了大气等离子体抛光方法,并用于超光滑表面加工。该技术基于低温等离子体化学反应来实现原子级的材料去除,避免了表层和亚表层损伤。运用原子发射光谱法证明了活性反应原子的有效激发,进而揭示了特定激发态原子对应的电子跃迁轨道... 发展了大气等离子体抛光方法,并用于超光滑表面加工。该技术基于低温等离子体化学反应来实现原子级的材料去除,避免了表层和亚表层损伤。运用原子发射光谱法证明了活性反应原子的有效激发,进而揭示了特定激发态原子对应的电子跃迁轨道。在针对单晶硅片的加工实验中,应用有限元分析法在理论上对加工过程中的空间气体流场分布和样品表面温度分布进行了定性分析。后续的温度检测实验证实了样品表面温度梯度的形成,并表明样品表面最高温度仅为90℃。材料去除轮廓检测结果符合空间流场的理论分布模型,加工速率约为32 mm3/min。利用原子力显微镜对表面粗糙度进行测量,证实了加工后样品表面在一定范围内表面粗糙度Ra=0.6 nm。最后,利用X射线光电子谱法研究了该方法对加工后表面材料化学成分的影响。实验和检测结果均表明,该抛光方法可以进行常压条件下的超光滑表面无损抛光加工,实现了高质量光学表面的无损抛光加工。 展开更多

关键词 大气等离子体抛光法 超光滑表面 单晶硅 电容耦合

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退火对304不锈钢电解质等离子体抛光的影响

7

作者 纪刚强 孙桓五 +1 位作者 段海栋 杨冬亮 《机械设计与制造》 北大核心 2024年第4期128-132,共5页

这里主要研究了退火处理对电解质等离子体抛光304不锈钢表面粗糙度、材料去除率和残余应力的影响,从而为降低不锈钢工件表面粗糙度,提高表面性能提供依据。通过在不同温度下对304不锈钢样品进行真空退火处理,并在相同的实验条件下进行... 这里主要研究了退火处理对电解质等离子体抛光304不锈钢表面粗糙度、材料去除率和残余应力的影响,从而为降低不锈钢工件表面粗糙度,提高表面性能提供依据。通过在不同温度下对304不锈钢样品进行真空退火处理,并在相同的实验条件下进行电解质等离子体抛光(电压、电流密度、电解液浓度、温度、加工时间),采用粗糙度测试仪、超景深光学显微镜、X射线应力分析仪、X射线衍射仪(XRD)对抛光前后样品的残余应力、粗糙度值、表面形貌、材料去除率、物相和组织变化进行了测试和表征,讨论了不同退火温度对电解质等离子体抛光304不锈钢样品表面粗糙度和残余应力的影响。结果表明电解质等离子体抛光不仅能有效降低304不锈钢样品的表面粗糙度和残余应力,且表现出了明显的晶粒取向分布。退火温度越高,电解质等离子体抛光后表面残余应力越小,材料去除率随着退火温度的升高而降低。电解质等离子体抛光过程中的热效应和组织转变是造成残余应力松弛的主要原因。 展开更多

关键词 退火 电解质等离子体抛光 304不锈钢 粗糙度 残余应力

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工艺参数对激光选区熔化316L零件电解质等离子抛光的影响

8

作者 袁益民 李辉 +3 位作者 谢鹏远 王厚强 胡丽 葛晓宏 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2024年第3期75-83,共9页

[目的]激光选区熔化技术(SLM)制备的316L不锈钢零件表面不易抛光。[方法]采用电解质等离子抛光技术对其进行抛光,研究了工艺参数对工件表面粗糙度(Ra)、微观形貌、元素含量、物相组成和耐蚀性的影响,并采用正交试验法进行工艺优化。[结... [目的]激光选区熔化技术(SLM)制备的316L不锈钢零件表面不易抛光。[方法]采用电解质等离子抛光技术对其进行抛光,研究了工艺参数对工件表面粗糙度(Ra)、微观形貌、元素含量、物相组成和耐蚀性的影响,并采用正交试验法进行工艺优化。[结果]各工艺参数对粗糙度的影响排序为:抛光电压>抛光时间>抛光液温度>下潜深度。最佳工艺参数为:抛光电压320 V,抛光时间300 s,抛光液温度80℃,下潜深度250 mm。抛光后的表面粗糙度可由2.1084μm降低至0.2127μm,表面Cr元素含量由初始的13.92%增大到17.28%,在3.5%NaCl溶液中的腐蚀电位正移,腐蚀电流密度降低。[结论]电解质等离子抛光可有效改善SLM制备的316L零件的表面形貌,降低其表面粗糙度,提高其耐蚀性。 展开更多

关键词 奥氏体不锈钢 激光选取熔化 电解质等离子抛光 正交优化 表面粗糙度 耐蚀性

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电解质等离子体抛光316LVM表面形貌及电化学特性 被引量：5

9

作者 段海栋 孙桓五 +3 位作者 纪刚强 张东光 孙金言 杨冬亮 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第8期396-403,共8页

目的研究电解质等离子体抛光对316LVM植入物不锈钢表面形貌及其在磷酸缓冲盐溶液中的电化学特性的影响,解决复杂形状植入物表面抛光难题。方法原材料经线切割及表面预处理,制成20 mm×15 mm×3 mm的试验样件。对试样分别进行机... 目的研究电解质等离子体抛光对316LVM植入物不锈钢表面形貌及其在磷酸缓冲盐溶液中的电化学特性的影响,解决复杂形状植入物表面抛光难题。方法原材料经线切割及表面预处理,制成20 mm×15 mm×3 mm的试验样件。对试样分别进行机械抛光及电解质等离子体抛光。机械抛光在砂带抛光机上进行,使用600、800、1200、2000、5000目的砂带逐级磨抛。电解质等离子体抛光中,电压为300 V,电解液为3%(质量分数)(NH4)2SO4水溶液,温度为85~90℃,抛光时间为15 min。通过粗糙度仪、扫描电镜,对试样表面粗糙度、微观形貌进行测试表征。通过能谱仪、X射线衍射仪,对试样表面元素含量、物相组成进行测试表征。通过电化学工作站,对磷酸缓冲盐溶液中的试样,进行电化学测试。结果电解质等离子体抛光后,试样表面粗糙度由初始的0.5μm降至0.089μm,试样表面机械加工痕迹被去除,平整光亮。机械抛光后,试样表面化学元素未发生明显变化,而电解质等离子体抛光后,试样表面的Fe、Cr含量升高。机械抛光表面的X射线衍射峰位置和强度未发生明显变化,电解质等离子体抛光后,在衍射角为43.5°处,衍射峰强度明显降低,在74.5°处,衍射峰强度明显升高,同时各峰的半高宽明显减小。在磷酸缓冲盐溶液中,机械抛光试样的自腐蚀电位由-0.252 V升高至-0.232 V,腐蚀电流密度由1.611μA/cm^(2)降低至0.5867μA/cm^(2),极化电阻由28.876 kΩ升高至64.682 kΩ。电解质等离子抛光试样的自腐蚀电位由-0.252 V升高至-0.214 V,腐蚀电流密度由1.611μA/cm^(2)降低至0.1582μA/cm^(2),极化电阻由28.876 kΩ升高到251.262 kΩ。结论电解质等离子体抛光可有效降低316LVM表面的粗糙度,提高表面平整度。电解质等离子体抛光后,表面Fe、Cr元素的含量升高,晶粒尺寸增大,呈(220)晶面择优取向。电解质等离子体抛光可提高316LVM在磷酸缓冲盐溶液中的� 展开更多

关键词 316LVM 电解质等离子体抛光 表面形貌 磷酸缓冲盐溶液 晶粒尺寸 耐腐蚀性能

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不锈钢电解质等离子体抛光表层元素化学形态演变及界面反应 被引量：4

10

作者 段海栋 孙桓五 +2 位作者 纪刚强 杨冬亮 李思雪 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第6期346-353,389,共9页

目的研究不锈钢经电解质等离子体抛光后,表层元素化学形态的变化及机制,为材料去除机理、表面性能、工艺参数、抛光液处理等相关研究提供参考。方法通过表面粗糙度测试仪、扫描电镜分别对加工前后试样表面粗糙度、形貌变化进行测试表征... 目的研究不锈钢经电解质等离子体抛光后,表层元素化学形态的变化及机制,为材料去除机理、表面性能、工艺参数、抛光液处理等相关研究提供参考。方法通过表面粗糙度测试仪、扫描电镜分别对加工前后试样表面粗糙度、形貌变化进行测试表征。通过X射线光电子能谱技术,对加工前后试样表面及抛光液沉积物中主要元素的组成、化学态、分子结构进行测试表征。结合加工现象及材料去除机理,分析加工过程中固、液、气、等离子体之间的界面反应。结果电解质等离子体抛光后,试样表面平整光亮,预处理中粗磨的痕迹已被完全去除。Ra平均值由0.311μm降低至0.045μm,Rq平均值由0.442μm降低至0.059μm,Rz平均值由3.260μm降低至0.369μm。与抛光前试样相比,抛光后试样表层检测到S^(+6)和Ni^(+2),沉积物中的Fe均为Fe^(+3),Cr主要为Cr^(+3),含有少量Cr^(+6)。抛光后试样表面及沉积物中金属元素的化合物主要为氧化物和氢氧化物。结论电解质等离子体抛光316LVM不锈钢有显著效果,抛光后试样表面粗糙度明显降低。抛光过程中,试样表面主要发生氧化反应,氧化性物质主要来自水。硫酸根离子在加工中与金属离子生成了硫酸盐,可能未参与氧化还原反应。试样表面的铁、铬、镍以氧化态形式被去除,抛光液中氧化态的铁、铬以沉淀形式存在,氧化态的镍以络合物的形式存在。 展开更多

关键词 不锈钢 电解质等离子体抛光 界面反应 化学形态 X射线光电子能谱

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等离子抛光时间对3D打印多孔钛表面粗糙度的影响 被引量：4

11

作者 崔祎赟 熊夏青 +2 位作者 徐凯 王金武 万克明 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第6期2161-2166,共6页

利用3D打印技术制作仿天然骨的多孔钛骨科植入物具有广阔的前景,等离子抛光技术作为表面技术的一种,可有效去除3D打印多孔钛零件表面附着的颗粒物,降低表面粗糙度。采用三重扫描激光显微系统分析了不同等离子抛光时间下多孔钛零件外表... 利用3D打印技术制作仿天然骨的多孔钛骨科植入物具有广阔的前景,等离子抛光技术作为表面技术的一种,可有效去除3D打印多孔钛零件表面附着的颗粒物,降低表面粗糙度。采用三重扫描激光显微系统分析了不同等离子抛光时间下多孔钛零件外表面及内层孔结构外表面的表面形貌并测量其表面粗糙度值。结果表明,抛光时间越长,表面越顺滑,表面粗糙度越低,抛光时间是影响表面粗糙度的重要因素。根据抛光时间与表面粗糙度的拟合曲线,得出了在保证零件内外表面的表面粗糙度在最优值范围下的抛光时间区间。 展开更多

关键词 等离子抛光 多孔钛 3D打印 表面粗糙度

原文传递

TC4钛合金电解质等离子抛光工艺研究 被引量：1

12

作者 宰建轩 李辉 +1 位作者 袁益民 葛晓宏 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2023年第10期35-41,共7页

为确认电解质等离子抛光的加工时间、加工温度、加工电压、抛光液(2.25%NH4Cl+2%NH4F)质量分数等因素对TC4钛合金抛光效果的影响,对TC4钛合金抛光前后表面粗糙度、微观形貌、表层元素含量、显微硬度等进行检测。结果表明,加工时间和加... 为确认电解质等离子抛光的加工时间、加工温度、加工电压、抛光液(2.25%NH4Cl+2%NH4F)质量分数等因素对TC4钛合金抛光效果的影响,对TC4钛合金抛光前后表面粗糙度、微观形貌、表层元素含量、显微硬度等进行检测。结果表明,加工时间和加工温度对TC4钛合金抛光效果的影响最大。抛光工艺参数的正交试验优化结果为:加工时间400 s,温度90℃,电压300 V,抛光液质量分数2.04%。抛光后TC4钛合金的表面粗糙度可低至0.0244μm。 展开更多

关键词 钛合金 电解质等离子抛光 光亮度 表面粗糙度 微观形貌

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饰品用316L不锈钢电解质等离子抛光工艺 被引量：3

13

作者 代司晖 袁军平 +2 位作者 陈绍兴 谢圳涛 谢林演 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2022年第19期1403-1409,共7页

以绿色环保的电解质等离子抛光工艺对316L不锈钢饰品进行抛光,采用激光共聚焦显微镜、分光光度计等对抛光效果进行检测。结果表明,通过提高电解液初始温度以及在抛光前对饰品坯件预打磨可有效降低表面粗糙度,提高亮度。为使316 L不锈钢... 以绿色环保的电解质等离子抛光工艺对316L不锈钢饰品进行抛光,采用激光共聚焦显微镜、分光光度计等对抛光效果进行检测。结果表明,通过提高电解液初始温度以及在抛光前对饰品坯件预打磨可有效降低表面粗糙度,提高亮度。为使316 L不锈钢饰品获得优良的表面抛光品质,电解液初始温度应不低于75℃,饰品宜采用400#以上的砂纸进行预打磨,抛光时间可根据饰品表面积以0.37 min/cm^(2)的速率进行预计。 展开更多

关键词 饰品 不锈钢 电解质等离子抛光 表面粗糙度

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增材制造Inconel 718的电解质等离子体抛光工艺研究

14

作者 柏聪 顾琳 赵万生 《电加工与模具》 2023年第6期58-63,共6页

为解决增材制造的镍基高温合金部件难以满足高性能航空构件表面质量的问题,采用电解质等离子体抛光技术对增材Inconel 718样件进行抛光工艺试验。基于部分析因和响应曲面分析法,研究了抛光电压、电解液温度、加工时间、抛光剂浓度和络... 为解决增材制造的镍基高温合金部件难以满足高性能航空构件表面质量的问题,采用电解质等离子体抛光技术对增材Inconel 718样件进行抛光工艺试验。基于部分析因和响应曲面分析法,研究了抛光电压、电解液温度、加工时间、抛光剂浓度和络合剂浓度对表面粗糙度和材料去除率的影响规律,并对加工参数组合进行望小优化。结果表明,当采用抛光电压314.4 V、电解液温度70℃、加工时间15 min、抛光剂和络合剂质量分数2%和2.5%,增材打印的Inconel 718工件表面粗糙度可从Ra2.93μm降至Ra0.307μm,此时的材料去除率为2.072μm/min。 展开更多

关键词 电解质等离子体抛光 激光定向能量沉积 镍基高温合金 部分析因试验

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影响TA1钛合金电解质等离子抛光的关键因素研究

15

作者 李思雪 孙桓五 +2 位作者 杨冬亮 段海栋 纪刚强 《现代制造工程》 CSCD 北大核心 2023年第1期90-96,82,共8页

为了研究一种高效率、高质量的TA1钛合金植入物表面光整加工方法,在对TA1钛合金电解质等离子抛光过程中的电流-电压特性分析的基础上,研究工作电压、抛光液温度及抛光时间等关键因素对表面粗糙度和材料去除率的影响规律及作用机制,并对... 为了研究一种高效率、高质量的TA1钛合金植入物表面光整加工方法,在对TA1钛合金电解质等离子抛光过程中的电流-电压特性分析的基础上,研究工作电压、抛光液温度及抛光时间等关键因素对表面粗糙度和材料去除率的影响规律及作用机制,并对电解质等离子抛光前后试样表面的显微形貌、微观组织结构及硬度变化进行表征,验证该方法的有效性。研究结果表明,当工作电压为300和350 V时,采用电解质等离子抛光能够获得表面粗糙度值较小的表面,并且材料去除率随工作电压升高而降低;随抛光液温度升高,试样表面粗糙度增加,同时材料去除率降低;随抛光时间延长,试样表面粗糙度呈下降趋势;电解质等离子抛光后TA1钛合金结晶度提高,晶粒长大;电解质等离子抛光可去除TA1钛合金表面机械作用产生的加工硬化层,同时增强材料的塑性和韧性。 展开更多

关键词 电解质等离子抛光 TA1钛合金 表面粗糙度 材料去除率 微观组织结构

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基于响应曲面法的不锈钢电解质等离子体抛光工艺参数优化 被引量：2

16

作者 纪刚强 孙桓五 +2 位作者 段海栋 杨冬亮 李思雪 《现代制造工程》 CSCD 北大核心 2022年第6期68-77,共10页

采用响应曲面法中的Box-Behnken(三因素三水平)实验设计方法,根据实验结果分别建立电压、温度和电解质浓度3个工艺参数下的表面粗糙度和材料去除率响应曲面分析模型;通过研究表面粗糙度Ra和材料去除率MRR在各工艺参数相互影响下的响应... 采用响应曲面法中的Box-Behnken(三因素三水平)实验设计方法,根据实验结果分别建立电压、温度和电解质浓度3个工艺参数下的表面粗糙度和材料去除率响应曲面分析模型;通过研究表面粗糙度Ra和材料去除率MRR在各工艺参数相互影响下的响应曲面和等高线图,得到工艺参数对响应因子即表面粗糙度Ra和材料去除率MRR的影响规律,以及相应目标下的最优工艺参数组合;对最优工艺参数组合进行实验验证并检验模型的准确性。单目标参数优化结果显示,当电压为262 V、温度为80℃及电解质浓度为3.5 wt%时,表面粗糙度Ra达到最小值0.055μm;当电压为239 V、温度为71℃及电解质浓度为4.0 wt%时,材料去除率MRR达到最大值4.766μm/min。双目标参数优化结果显示,当电压为238 V、温度为72℃及电解质浓度为3.8 wt%时,表面粗糙度Ra和材料去除率MRR分别为0.071μm和4.413μm/min。实验验证结果显示,单目标优化时样品的表面粗糙度Ra=0.057μm、材料去除率MRR=4.980μm/min;多目标优化时样品的表面粗糙度Ra=0.078μm,材料去除率MRR=4.292μm/min,且相对误差均在合理范围内。同时不锈钢电解质等离子体抛光工艺参数响应曲面模型准确性较高,具有良好的预测能力,在最佳工艺参数组合下加工的工件表面平整光滑,机械加工的痕迹基本被去除。 展开更多

关键词 电解质等离子体抛光 316L不锈钢 表面粗糙度 材料去除率 响应曲面法 参数优化

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电解质等离子抛光液中硫酸铵含量的检测方法 被引量：2

17

作者 王季 索来春 付宜利 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第2期30-35,共6页

电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰,无法使用电导法对抛光液中硫酸铵的含量进行检测,为了解决这一问题,基于实验提出了两种确定硫酸铵含量(质量分数)的方法.一种方法是利用抛光液中硫酸铵的含量低于2.5%以后抛光的电流... 电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰,无法使用电导法对抛光液中硫酸铵的含量进行检测,为了解决这一问题,基于实验提出了两种确定硫酸铵含量(质量分数)的方法.一种方法是利用抛光液中硫酸铵的含量低于2.5%以后抛光的电流密度会明显下降的现象,定时检测抛光过程中电流值和抛光液温度,以确定是否需要补充硫酸铵.另一种方法是通过实验得到一定抛光液温度下抛光量与硫酸铵消耗量的关系,再在抛光过程中记录抛光量计算抛光液中硫酸铵含量的方法.研究发现,前一种方法应用更为简便,适用于一般工业生产;后一种方法适用于对抛光效果要求更高的加工.经实验验证两种方法均具有可行性. 展开更多

关键词 电解质等离子抛光 硫酸铵 质量分数 电流密度 抛光量

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不同电解液中钛合金电解等离子体抛光的对比分析 被引量：2

18

作者 贺春影 唐金凤 +5 位作者 陈述 王立世 卜智翔 陈明慧 耿阳 孙力 《云南师范大学学报（自然科学版）》 2014年第6期56-61,共6页

利用粗糙度仪、激光发射率测试仪、光学及电子显微镜等设备,对不同电解液体系中得到的钛合金试样表面的粗糙度及形貌进行了分析.结果表明:配方4电解液体系中得到的试样表面最为平整、镜面效果最好;配方1、2、3处理得到的膜层表面粗糙度... 利用粗糙度仪、激光发射率测试仪、光学及电子显微镜等设备,对不同电解液体系中得到的钛合金试样表面的粗糙度及形貌进行了分析.结果表明:配方4电解液体系中得到的试样表面最为平整、镜面效果最好;配方1、2、3处理得到的膜层表面粗糙度也有较大的改善. 展开更多

关键词 钛合金 电解等离子体抛光 电解液 表面粗糙度

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大气等离子体变去除函数加工方法研究 被引量：2

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作者 彭冰 顿爱欢 +2 位作者 吴伦哲 王哲 徐学科 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第24期47-57,共11页

传统的接触式加工不可避免地会在光学元件上产生亚表层损伤,而大气等离子体抛光(APPP)具有非接触、可定量去除、加工过程不受材料性能影响等优点,在光学加工领域有着巨大的应用潜力。但在实际加工过程中,光学元件加工后的收敛效果并不明... 传统的接触式加工不可避免地会在光学元件上产生亚表层损伤,而大气等离子体抛光(APPP)具有非接触、可定量去除、加工过程不受材料性能影响等优点,在光学加工领域有着巨大的应用潜力。但在实际加工过程中,光学元件加工后的收敛效果并不明显,经验证明去除量随驻留时间的变化呈非线性而导致了加工误差。针对这一问题,首先优化了加工参数;之后研究了加工原理以及加工残余物对后续加工的影响,分析了加工存在非线性效应的原因;提出了一种基于变去除函数的驻留时间算法,并进行了实验验证。结果显示,对尺寸为120 mm×65 mm×10 mm的熔石英光学元件进行变去除函数加工实验,面形峰谷值(PV)的平均收敛率由加工前的21.41%提升至加工后的60.52%,面形均方根值(RMS)的平均收敛率由加工前的24.13%提升至加工后的74.79%,实现了熔石英元件的高精度快速加工,验证了变去除函数加工的有效性。 展开更多

关键词 材料 大气等离子体抛光 去除函数 超精密加工 熔石英

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电解质等离子抛光对不锈钢表面状态的影响 被引量：1

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作者 陈虎 杨卫英 李剑 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2021年第17期1364-1368,共5页

采用激光共聚焦扫描显微镜、扫描电子显微镜、能谱仪、螺旋测微仪和维氏硬度计研究了电解质等离子抛光技术对不锈钢零件形状、表面粗糙度、微观形貌、元素成分及显微硬度的影响。结果表明,电解质等离子抛光技术能够以稳定的去除速率打... 采用激光共聚焦扫描显微镜、扫描电子显微镜、能谱仪、螺旋测微仪和维氏硬度计研究了电解质等离子抛光技术对不锈钢零件形状、表面粗糙度、微观形貌、元素成分及显微硬度的影响。结果表明,电解质等离子抛光技术能够以稳定的去除速率打磨零件,显著降低其表面粗糙度,获得均匀一致且无明显缺陷的表面。 展开更多

关键词 不锈钢 电解质等离子抛光 粗糙度 微观形貌

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