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TIPbI和掺杂TIPbI_3晶体的光电特性
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作者 陈福泉 翟励强 +2 位作者 林樽达 吴汝佳 吴作良 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 1993年第1期21-26,共6页
本文通过化学分析法和光电导法研究杂质对 TlPbI_3晶体光电导谱和内光电效应的影响。实验表明,钝 TlPbI_3晶体的本征光敏峰波长在515~532nm 之间;杂质 AgI、CuI、GaI_3等使光电导峰波长移到540~580nm;晶体的光敏性和导电机理受其组成... 本文通过化学分析法和光电导法研究杂质对 TlPbI_3晶体光电导谱和内光电效应的影响。实验表明,钝 TlPbI_3晶体的本征光敏峰波长在515~532nm 之间;杂质 AgI、CuI、GaI_3等使光电导峰波长移到540~580nm;晶体的光敏性和导电机理受其组成的影响,符合化学计量比组成的晶体的电导率最小,偏离化学计量比使晶体的电导率增大;而光电导率的影响不明显;杂质促进晶体形成非化学计量比组成,由此产生不同的缺陷导致同一种杂质既可产生 n 型导电也可产生 p 型导电;这些杂质只使晶体的光敏性达到10~3。 展开更多
关键词 TIPbl3 晶体 光电晶体
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硅薄膜材料的光电导谱分析
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作者 郝会颖 李伟民 《光谱实验室》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期282-285,共4页
利用甚高频等离子体增强化学气相沉积法(VHF-PECVD),通过改变氢稀释比制备出一系列硅薄膜样品。由弱光条件下光电导谱分析了材料的吸收系数及缺陷态密度,结果表明随着氢稀释比的增加,材料的长波响应增大,缺陷态密度(NS)逐渐减小,当大于1... 利用甚高频等离子体增强化学气相沉积法(VHF-PECVD),通过改变氢稀释比制备出一系列硅薄膜样品。由弱光条件下光电导谱分析了材料的吸收系数及缺陷态密度,结果表明随着氢稀释比的增加,材料的长波响应增大,缺陷态密度(NS)逐渐减小,当大于16.7时,NS开始增加,这是杂质与晶粒间界相互作用的结果。 展开更多
关键词 硅薄膜 光电导谱 缺陷态密度
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