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高性能背照式GaN/AlGaN p-i-n紫外探测器的制备与性能 被引量:7
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作者 陈亮 张燕 +3 位作者 陈俊 郭丽伟 李向阳 龚海梅 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第6期928-931,共4页
研究了GaN/AlGaN异质结背照式p-i-n结构可见盲紫外探测器的制备与性能。GaN/AlGaN外延材料采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长,衬底为双面抛光的蓝宝石,缓冲层为AlN,n型层采用厚度为0.8μm的Si掺杂Al0.3Ga0.7N形成窗口层,i型层为0... 研究了GaN/AlGaN异质结背照式p-i-n结构可见盲紫外探测器的制备与性能。GaN/AlGaN外延材料采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长,衬底为双面抛光的蓝宝石,缓冲层为AlN,n型层采用厚度为0.8μm的Si掺杂Al0.3Ga0.7N形成窗口层,i型层为0.18μm的非故意掺杂的GaN,p型层为0.15μm的Mg掺杂GaN。采用Cl2、Ar和BCl3感应耦合等离子体刻蚀定义台面,光敏面面积为1.96×10-3 cm2。可见盲紫外探测器展示了窄的紫外响应波段,响应区域为310~365 nm,在360 nm处响应率最大,为0.21 A/W,在考虑表面反射时,内量子效率达到82%;优质因子R0A为2.00×108Ω.cm2,对应的探测率D=2.31×1013 cm.Hz1/2.W-1;且零偏压下的暗电流为5.20×10-13 A。 展开更多
关键词 Gan/AiGan p-i-n 紫外探测器 响应光谱
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InGaN紫外探测器的制备与性能研究 被引量:5
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作者 卢怡丹 王立伟 +1 位作者 张燕 李向阳 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2014年第5期785-788,共4页
介绍了InGaN紫外探测器的研制过程,并给出了器件的性能。利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长GaN外延材料,通过刻蚀、钝化、欧姆接触电极等工艺,制作了正照射单元In0.09Ga0.91N紫外探测芯片。并对该芯片进行了I-V特性、响应光谱... 介绍了InGaN紫外探测器的研制过程,并给出了器件的性能。利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长GaN外延材料,通过刻蚀、钝化、欧姆接触电极等工艺,制作了正照射单元In0.09Ga0.91N紫外探测芯片。并对该芯片进行了I-V特性、响应光谱等测试,得到芯片的暗电流Id为1.00×10-12 A,零偏压电阻R0为1.20×109Ω。该紫外探测器在360~390nm范围内有较高的响应度,峰值响应率在378nm波长处达到0.15A/W,在考虑表面反射时,内量子效率达到60%;优质因子R0A为3.4×106Ω·cm2,对应的探测率D*=2.18×1012 cm·Hz1/2·W-1。 展开更多
关键词 Gan/inGan p-i-n 紫外探测器 伏安特性 响应光谱
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基于银纳米薄膜欧姆接触的高波长选择性紫外探测器研究 被引量:3
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作者 梁志斌 张齐轩 +4 位作者 许朝军 周玉刚 陆海 张荣 郑有炓 《半导体光电》 CAS 北大核心 2020年第1期64-67,共4页
常规的半导体紫外探测器波长响应范围宽,而紫外光的应用具有较强的波长选择性,如320nm波段的紫外光在医学方面有重要的应用,因此,具有高波长选择性的紫外探测器的研制有重要意义。文章采用GaN基p-i-n探测器结构,通过在p区覆盖银纳米薄... 常规的半导体紫外探测器波长响应范围宽,而紫外光的应用具有较强的波长选择性,如320nm波段的紫外光在医学方面有重要的应用,因此,具有高波长选择性的紫外探测器的研制有重要意义。文章采用GaN基p-i-n探测器结构,通过在p区覆盖银纳米薄膜作为欧姆接触层和波长选择透射层,成功制备了对320nm波段紫外光高选择性探测的紫外探测器,器件性能如下:70nm银层的紫外光透射率峰值超过30%,器件在-5V偏压下的暗电流为10-12 A量级,响应峰值为0.06A/W,响应峰发生在325nm处,光谱响应峰半高宽约30nm。 展开更多
关键词 p-i-n紫外探测器 GAn 银纳米薄膜 波长选择性
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背照式GaN/AlGaN p-i-n紫外探测器的制备与性能 被引量:1
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作者 陈亮 游达 +6 位作者 汤英文 乔辉 陈俊 赵德刚 张燕 李向阳 龚海梅 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2006年第11期1036-1039,共4页
文章研究了p-GaN/i—GaN/n-Al0.3Ga0.7N异质结背照式p-i—n可见盲紫外探测器的制备与性能。器件的响应区域为310~365nm,最大响应率为0.046A/W,对应的内量子效率为19%,优值因子R0A达到1.77×10^8Ω·cm^2,相应的在363n... 文章研究了p-GaN/i—GaN/n-Al0.3Ga0.7N异质结背照式p-i—n可见盲紫外探测器的制备与性能。器件的响应区域为310~365nm,最大响应率为0.046A/W,对应的内量子效率为19%,优值因子R0A达到1.77×10^8Ω·cm^2,相应的在363nm处的探测率D^*=2.6×10^12cmHz^1/2W^-1。 展开更多
关键词 Gan/AlGan pin 紫外探测器 响应率
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A novel model of photo-carrier screening effect on the GaN-based p-i-n ultraviolet detector
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作者 GAO Bo,LIU HongXia,KUANG QianWei,ZHOU Wen & CAO Lei School of Microelectronics,Xidian University,Key Laboratory of Wide Band-Gap Semiconductor Materials and Devices,Xi’an 710071,China 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2010年第5期793-801,共9页
The photo-carrier density in the depletion region of the GaN-based p-i-n ultraviolet(UV) detector is calculated by solving the photo-carrier continuity equation,and the photo-carrier screening electric field is calcul... The photo-carrier density in the depletion region of the GaN-based p-i-n ultraviolet(UV) detector is calculated by solving the photo-carrier continuity equation,and the photo-carrier screening electric field is calculated according to Poisson's equation.Using the numerical calculation method,a novel model of photo-carrier screening effect is presented.Then the influence of photo-carrier screening effect on the distribution of photo-carrier density in the depletion region of p-i-n detector is discussed.The influence of incident power,bias voltage and carrier life time on the photo-carrier screening effect is also analyzed.It is concluded that the influence of photo-carrier screening effect on the performance of GaN-based p-i-n UV detector is non-monotone,the maximum of carrier drift velocity and the minimum of response time can be realized by adjusting the applied voltage.Besides,the incident light duration has strong impact on the photo-carrier screening effect. 展开更多
关键词 Gan p-i-n ultraviolet detector photo-carrier SCREEninG effect
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