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p型Na掺杂ZnMgO薄膜的光电导性能
1
作者
薛雅
叶志镇
+1 位作者
陈凌翔
叶春丽
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第5期632-634,共3页
采用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英衬底上制备p型Na掺杂ZnMgO薄膜,薄膜在氮气气氛中600℃退火60s,具有较好的光电性能。在室温下分别用波长254nm的紫外光和波长630nm的红色激光对样品进行了光电导性能测试。两种光照下,光电流均瞬间上升...
采用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英衬底上制备p型Na掺杂ZnMgO薄膜,薄膜在氮气气氛中600℃退火60s,具有较好的光电性能。在室温下分别用波长254nm的紫外光和波长630nm的红色激光对样品进行了光电导性能测试。两种光照下,光电流均瞬间上升,且光响应度与外加偏压具有线性相关性。紫外光照下p型Na掺杂ZnMgO薄膜的光电流变化比红色激光照射下要显著。
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关键词
Na掺杂
p
型
znmgo
光电导
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职称材料
用PLD方法制备Li掺杂的p型ZnMgO
2
作者
仇明侠
叶志镇
+2 位作者
顾修全
何海平
朱丽萍
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第z1期326-328,共3页
在玻璃衬底上用PLD方法成功制备出具有高度(0002)取向性的、晶体质量较好的Li掺杂为0.4%的p型 Zn0.8Mg0.2O薄膜.衬底温度对薄膜的电学性能及结晶质量有重要影响,实验表明:在500℃时薄膜的电学性能最好,其载流子浓度为5.1×1018cm-3...
在玻璃衬底上用PLD方法成功制备出具有高度(0002)取向性的、晶体质量较好的Li掺杂为0.4%的p型 Zn0.8Mg0.2O薄膜.衬底温度对薄膜的电学性能及结晶质量有重要影响,实验表明:在500℃时薄膜的电学性能最好,其载流子浓度为5.1×1018cm-3,电阻率为6.58Ω·cm,霍尔迁移率为0.189cm2/(V·s),且制备出的薄膜在可见光区具有90%的高透射率及在室温下光学禁带宽度3.625eV.
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关键词
Li掺杂
p
LD方法
p
型
znmgo
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职称材料
题名
p型Na掺杂ZnMgO薄膜的光电导性能
1
作者
薛雅
叶志镇
陈凌翔
叶春丽
机构
浙江大学硅材料国家重点实验室
出处
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第5期632-634,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目(51172204)
文摘
采用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英衬底上制备p型Na掺杂ZnMgO薄膜,薄膜在氮气气氛中600℃退火60s,具有较好的光电性能。在室温下分别用波长254nm的紫外光和波长630nm的红色激光对样品进行了光电导性能测试。两种光照下,光电流均瞬间上升,且光响应度与外加偏压具有线性相关性。紫外光照下p型Na掺杂ZnMgO薄膜的光电流变化比红色激光照射下要显著。
关键词
Na掺杂
p
型
znmgo
光电导
Keywords
Na do
p
ed
p
-ty
p
e
znmgo
p
hotocurrent
分类号
O484.4 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
用PLD方法制备Li掺杂的p型ZnMgO
2
作者
仇明侠
叶志镇
顾修全
何海平
朱丽萍
机构
浙江大学硅材料国家重点实验室
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第z1期326-328,共3页
基金
国家自然科学基金重点资助项目(批准号
50532063)
文摘
在玻璃衬底上用PLD方法成功制备出具有高度(0002)取向性的、晶体质量较好的Li掺杂为0.4%的p型 Zn0.8Mg0.2O薄膜.衬底温度对薄膜的电学性能及结晶质量有重要影响,实验表明:在500℃时薄膜的电学性能最好,其载流子浓度为5.1×1018cm-3,电阻率为6.58Ω·cm,霍尔迁移率为0.189cm2/(V·s),且制备出的薄膜在可见光区具有90%的高透射率及在室温下光学禁带宽度3.625eV.
关键词
Li掺杂
p
LD方法
p
型
znmgo
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
p型Na掺杂ZnMgO薄膜的光电导性能
薛雅
叶志镇
陈凌翔
叶春丽
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2013
0
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职称材料
2
用PLD方法制备Li掺杂的p型ZnMgO
仇明侠
叶志镇
顾修全
何海平
朱丽萍
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
0
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职称材料
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