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含氨有机硅膜在湿气条件下用于CO_(2)分离的研究
1
作者 时富康 钟璟 +3 位作者 任秀秀 徐荣 郭猛 张琪 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2024年第7期104-108,共5页
以3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)为硅源前驱体制备了含氨有机硅膜,并与1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷(BTESE)制备的有机硅膜进行对比,研究了湿度对两种有机硅膜进行CO_(2)分离性能的影响。结果表明:APTES膜随湿度的增加CO_(2)渗透率降低幅度... 以3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)为硅源前驱体制备了含氨有机硅膜,并与1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷(BTESE)制备的有机硅膜进行对比,研究了湿度对两种有机硅膜进行CO_(2)分离性能的影响。结果表明:APTES膜随湿度的增加CO_(2)渗透率降低幅度不明显,而BTESE膜由于水蒸汽在膜孔中发生毛细凝聚现象,从而造成CO_(2)渗透率降低幅度较大;相比于APTES膜,BTESE膜的CO_(2)/N_(2)选择性仅增加了0.43倍,APTES膜的CO_(2)/N_(2)选择性增加了0.91倍。这是由于APTES支链上的氨基基团在水的存在下能促进CO_(2)的传输,说明含氨有机硅膜在湿气条件下对CO_(2)的分离具有良好的应用前景。 展开更多
关键词 有机硅膜 氨基 湿气 CO_(2)分离
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等离子体处理对有机硅膜气体透过性能的影响 被引量：1
2
作者 孙求实 后晓淮 《功能高分子学报》 CAS CSCD 1991年第4期279-284,共6页
本文研究了有机硅膜经等离子体处理和等离子体聚合沉积后,气体透过性能的变化。以及放置一段时间后,随着等离子体处理效果的变化,膜的气体透过性能的改变。结果表明无论是Ar等离子体处理的有机硅膜,还是八甲基环四硅氧烷(D_4)等离子体... 本文研究了有机硅膜经等离子体处理和等离子体聚合沉积后,气体透过性能的变化。以及放置一段时间后,随着等离子体处理效果的变化,膜的气体透过性能的改变。结果表明无论是Ar等离子体处理的有机硅膜,还是八甲基环四硅氧烷(D_4)等离子体聚合沉积的有机硅膜,其气体透过性能都发生了明显的变化。即经等离子体处理后,膜的气体透过系数下降,选择分离系数上升。在放置一段时间后,其气体透过系数和选择分离系数均表现出有回复的趋势。因此,等离子体处理对膜的气体透过性能的影响随放置时间而变化。 展开更多
关键词 有机硅膜 等离子体处理 透气性
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正硅酸四乙酯修饰Fe3O4制备磁性有机硅氧氮分离膜及其性能研究 被引量：1
3
作者 王傲生 徐积斌 +2 位作者 白云翔 孙余凭 张春芳 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2020年第12期84-88,共5页
以高渗透性聚二甲基硅氧烷(PDMS)为基体,以正硅酸四乙酯修饰四氧化三铁(TEOS@Fe3O4)为磁性基元,采用溶剂挥发法制备了PDMS/TEOS@Fe3O4磁性有机硅膜,研究TEOS修饰作用对磁性有机硅膜氧氮渗透性能的影响。结果表明,经TEOS修饰后的Fe3O4与P... 以高渗透性聚二甲基硅氧烷(PDMS)为基体,以正硅酸四乙酯修饰四氧化三铁(TEOS@Fe3O4)为磁性基元,采用溶剂挥发法制备了PDMS/TEOS@Fe3O4磁性有机硅膜,研究TEOS修饰作用对磁性有机硅膜氧氮渗透性能的影响。结果表明,经TEOS修饰后的Fe3O4与PDMS之间具有良好界面相容性,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的机械性能得到显著提升。与PDMS/Fe3O4膜相比,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的O2/N2理想选择性增加;施加外加磁场后,两种磁性膜的O2/N2理想选择性分别提高了16.2%和8.0%。当外加磁场强度为56mT时,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的O2渗透系数为1483Barrer,O2/N2理想选择性为2.2。 展开更多
关键词 聚二甲基硅氧烷 磁性有机硅膜 界面空隙 O2/N2分离 磁场
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