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面向多光谱掌纹图像采集系统的光学薄膜滤光片设计 被引量：12
1
作者 于志强 费书国 +1 位作者 赵帅锋 郭志帅 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第23期253-260,共8页
设计了一组应用于多光谱掌纹图像采集系统的光学薄膜滤光片。根据手掌皮肤在可见、近红外光谱波段反射率不同的特点,研究了掌纹识别滤光片的光谱特性参数及膜系设计。为提高系统获得的掌纹图像质量,采用四通道滤光片设计方案,光谱特性... 设计了一组应用于多光谱掌纹图像采集系统的光学薄膜滤光片。根据手掌皮肤在可见、近红外光谱波段反射率不同的特点,研究了掌纹识别滤光片的光谱特性参数及膜系设计。为提高系统获得的掌纹图像质量,采用四通道滤光片设计方案,光谱特性参数要求如下:中心波长为λ_(1)=470 nm、λ_(2)=520 nm、λ_(3)=630 nm、λ_(4)=880 nm;各通道的半宽度在8~12 nm范围内,透射率大于90%,平均截止背景深度大于OD6(即光谱透射率T<10^(-6))。 展开更多
关键词 薄膜 光学薄膜 多光谱掌纹图像采集 滤光片 光谱特性参数 膜系设计
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光学薄膜及其应用 被引量：7
2
作者 卢维强 王华清 +1 位作者 肖畅 杨朝佳 《现代显示》 2007年第3期6-9,共4页
从光学薄膜干涉原理出发,说明了光学薄膜的工作原理。文中对减反膜、高反膜、分光膜、滤光膜等几种典型的膜系加以说明。文章最后对光学薄膜的制备加以简要介绍。
关键词 光学薄膜 光学干涉 薄膜制造 薄膜应用
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一种具有对称性和自校准的薄膜透反射率仪 被引量：1
3
作者 董建勇 艾曼灵 +1 位作者 金波 顾培夫 《光学仪器》 2016年第3期267-271,共5页
基于反射率测量原理,提出了一种具有对称性和自校准的薄膜透反射率测量仪器。仪器具有两个照明系统和两个光收集系统,并分别对称地置于样品台的两侧,测量时测量光线依次经过照明系统、样品和光收集系统。由于该设计具有对称性,因而可消... 基于反射率测量原理,提出了一种具有对称性和自校准的薄膜透反射率测量仪器。仪器具有两个照明系统和两个光收集系统,并分别对称地置于样品台的两侧,测量时测量光线依次经过照明系统、样品和光收集系统。由于该设计具有对称性,因而可消去光学系统的不对称误差,而且可实现自校准功能,同时获得垂直入射情况下薄膜的反射、透射和光学损耗。 展开更多
关键词 透反射率仪 光学薄膜 对称系统 自校准
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PECVD工艺对SiO_xN_y光学薄膜红外吸收特性的影响 被引量：1
4
作者 李松晓 杭凌侠 《西安工业大学学报》 CAS 2018年第3期257-261,共5页
为了研究SiO_xN_y光学薄膜在红外区的应用特性.文中采用PECVD技术沉积折射率为1.60的SiO_xN_y光学薄膜,设计制造了相同制备工艺参数(功率、温度、压强)的不同薄膜厚度样片和不同制备工艺参数的相同厚度的两类实验样片,通过对SiO_xN_y薄... 为了研究SiO_xN_y光学薄膜在红外区的应用特性.文中采用PECVD技术沉积折射率为1.60的SiO_xN_y光学薄膜,设计制造了相同制备工艺参数(功率、温度、压强)的不同薄膜厚度样片和不同制备工艺参数的相同厚度的两类实验样片,通过对SiO_xN_y薄膜的红外透过率进行测试,分析该薄膜的红外光谱特性.实验结果表明,SiOxNy光学薄膜在红外区(8~12μm)的红外窗口内有明显的吸收峰存在,在制造工艺参数不变时,薄膜吸收峰值大小随着厚度的增加而增大,波长变化范围为9~11.5μm;不同的SiO_xN_y薄膜制备工艺参数对该薄膜吸收峰的峰值大小和位置的影响不同,主要波长变化范围为10~11.5μm. 展开更多
关键词 光学薄膜 SiOxNy 红外吸收特性 PECVD技术
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激光辐照光学薄膜研究进展
5
作者 李波 《光机电信息》 2010年第6期20-25,共6页
本文对激光与光学薄膜相互作用的原理做了简要介绍,从激光辐照光学薄膜时产生的光学、热学、声学以及力学效应对薄膜受激光辐照时产生的一系列现象进行分析,综述了国内外对以上效应研究的进展,以及上述研究成果对受高功率激光辐照的光... 本文对激光与光学薄膜相互作用的原理做了简要介绍,从激光辐照光学薄膜时产生的光学、热学、声学以及力学效应对薄膜受激光辐照时产生的一系列现象进行分析,综述了国内外对以上效应研究的进展,以及上述研究成果对受高功率激光辐照的光学薄膜设计的指导意义。 展开更多
关键词 光学薄膜 激光辐照效应 进展
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新型光学薄膜研究及发展现状 被引量：24
6
作者 王学华 薛亦渝 +1 位作者 赵利 张幼陵 《武汉理工大学学报》 CAS CSCD 2002年第2期20-23,共4页
综述了近年来国内外在新型光学薄膜如高强度激光膜、金刚石及类金刚石膜、软 X射线多层膜、太阳能选择性吸收膜和光通信用光学膜的制备及其在器件方面的研究和应用情况 ,并对光学薄膜的研究进行了展望。
关键词 光学薄膜 研究进展
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激光与介质薄膜作用过程的等离子体诊断 被引量：15
7
作者 倪晓武 陆建 +2 位作者 贺安之 马孜 周九林 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第4期322-327,共6页
本文对YAG激光诱导介质薄膜产生的等离子体采用Mach-Zehnder干涉仪及光延迟装置进行时间序列分辨多幅干涉记录,并对序列干涉图进行电子密度及等离子体冲击波速度的计算.首次得到脉宽为15ns的1.06μm激光与介质薄膜作用在150ns以内的有... 本文对YAG激光诱导介质薄膜产生的等离子体采用Mach-Zehnder干涉仪及光延迟装置进行时间序列分辨多幅干涉记录,并对序列干涉图进行电子密度及等离子体冲击波速度的计算.首次得到脉宽为15ns的1.06μm激光与介质薄膜作用在150ns以内的有关结果. 展开更多
关键词 激光 薄膜 等离子体 介质 诊断技术
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光学薄膜塔姆态诱导石墨烯近红外光吸收增强 被引量：18
8
作者 黎志文 陆华 +2 位作者 李扬武 焦晗 赵建林 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期477-484,共8页
提出了一种增强石墨烯光吸收率的布拉格光栅/石墨烯/金属薄膜光学结构。运用传输矩阵和时域有限差分法研究了其光传输特性,发现布拉格光栅与金属薄膜之间形成的塔姆等离激元局域场可有效增强光与石墨烯的相互作用,单层石墨烯的近红外光... 提出了一种增强石墨烯光吸收率的布拉格光栅/石墨烯/金属薄膜光学结构。运用传输矩阵和时域有限差分法研究了其光传输特性,发现布拉格光栅与金属薄膜之间形成的塔姆等离激元局域场可有效增强光与石墨烯的相互作用,单层石墨烯的近红外光吸收率约增大了36倍。探讨了布拉格光栅的周期、石墨烯位置、入射角度、布拉格光栅层厚度及石墨烯化学势与石墨烯光吸收的关系。研究结果表明,上述物理参数的变化可有效调控石墨烯的光吸收波长及效率。研究结果为高性能石墨烯探测器等新型光电子器件的实现提供了新的途径。 展开更多
关键词 薄膜 光学薄膜 石墨烯 塔姆等离激元 光吸收
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硒化锌基底2～16μm超宽带硬质红外增透膜的研制 被引量：17
9
作者 潘永强 杭凌侠 +1 位作者 梁海锋 田刚 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期1201-1204,共4页
硒化锌材料具有较宽的透光区,使其在红外区有着广泛的应用,然而其作为基底,镀制超宽带增透膜却有相当大的难度,尤其是膜层强度问题。设计出了硒化锌基底上2～16μm的多层超宽带增透膜,并采用离子束辅助沉积工艺在硒化锌基底上进行了多... 硒化锌材料具有较宽的透光区,使其在红外区有着广泛的应用,然而其作为基底,镀制超宽带增透膜却有相当大的难度,尤其是膜层强度问题。设计出了硒化锌基底上2～16μm的多层超宽带增透膜,并采用离子束辅助沉积工艺在硒化锌基底上进行了多次实验,并对所使用的氟化钇(YF_3)和硒化锌膜料进行了分析,发现YF_3在3400和1640 cm^(-1)两个波数处的吸收峰。通过将低折射率层改为氟化钡和氟化钇的组合层后,在硒化锌基底上成功镀制出了多层宽带增透膜并采用脉冲电弧离子镀技术在多层薄膜的表面镀制了一定厚度的类金刚石(DLC)薄膜,增强了膜层的强度。最终使硒化锌基底上镀制的超宽带增透膜在2～16μm范围内的平均透射比大于93%,峰值透射比大于97%,并且膜层的强度较好。 展开更多
关键词 光学薄膜 超宽带增透膜 离子束辅助沉积 硒化锌 类金刚石薄膜
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原子层沉积技术的发展现状及应用前景 被引量：14
10
作者 魏呵呵 何刚 +2 位作者 邓彬 李文东 李太申 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期413-420,共8页
随着微电子行业的发展,集成度不断提高、器件尺寸持续减小,使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战,然而原子层沉积(ALD)技术作为一种优异的镀膜技术,因其沉淀的薄膜纯度高、均匀性及保行性好,还能十分精确地控制薄膜的厚度与成分,... 随着微电子行业的发展,集成度不断提高、器件尺寸持续减小,使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战,然而原子层沉积(ALD)技术作为一种优异的镀膜技术,因其沉淀的薄膜纯度高、均匀性及保行性好,还能十分精确地控制薄膜的厚度与成分,仍然备受关注并被广泛应用于半导体、光学、光电子、太阳能等诸多领域。本文简要介绍了ALD技术的原理、沉积周期、特征、优势、化学吸附自限制ALD技术和顺次反应自限制ALD技术及ALD本身作为一种技术的发展状况(T-ALD,PEALD和EC-ALD等);重点叙述了ALD技术在半导体领域(高k材料、IC互连技术等)、光学薄膜方面、纳米材料方面、催化剂的应用和新成果。最后,对ALD未来的发展应用前景进行了展望。 展开更多
关键词 原子层沉积技术 薄膜沉积 高K材料 光学薄膜 催化剂
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空间太阳电池用光学薄膜 被引量：13
11
作者 刘汉英 刘春明 +1 位作者 肖志斌 王莹 《光学仪器》 2006年第4期164-167,共4页
介绍了光学薄膜在十八所研制的空间太阳电池上的应用情况。通过高温高真空蒸镀的方法，制备出单层增透膜MgF2，双层增透膜TiOx／SiOy、TiOx／YOy和TiOx／AlOy；通过高真空离子辅助沉积的方法，制备出带通滤光膜。通过应用单层增透膜MgF... 介绍了光学薄膜在十八所研制的空间太阳电池上的应用情况。通过高温高真空蒸镀的方法，制备出单层增透膜MgF2，双层增透膜TiOx／SiOy、TiOx／YOy和TiOx／AlOy；通过高真空离子辅助沉积的方法，制备出带通滤光膜。通过应用单层增透膜MgF2，太阳电池的输出功率提高2％；通过应用双层增透膜，太阳电池的短路电流提高36％～48％（硅太阳电池的短路电流提高近48％，砷化镓太阳电池提高近36％）。通过应用带通滤光膜，太阳电池的吸收系数降低0．06。 展开更多
关键词 光学薄膜 空间太阳电池 增透膜 短路电流 带通滤光膜
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光学薄膜的激光诱导损伤与材料带隙的关系 被引量：10
12
作者 李丹 朱自强 +1 位作者 付雄鹰 邱服民 《光电工程》 EI CAS CSCD 1999年第4期58-62,68,共6页
采用多光子吸收电离模型讨论了光学薄膜的激光诱导损伤与其材料带隙的关系，分析了实际光学薄膜存在大量的非化学计量比化合物缺陷时，损伤阈值的变化，给出了光学薄膜的损伤阈值与其材料带隙的关系曲线。
关键词 光学薄膜 激光诱导 激光损伤 材料缺陷
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原子层沉积技术及其在光学薄膜中的应用 被引量：11
13
作者 何俊鹏 章岳光 +2 位作者 沈伟东 刘旭 顾培夫 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期173-179,共7页
回顾了原子层沉积(ALD)技术的发展背景,通过分析ALD的基本工艺,并与传统薄膜制备工艺进行了对比研究,介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势。着重列举ALD在减反膜、紫外截止膜、折射率可调的薄膜、抗激光损伤薄... 回顾了原子层沉积(ALD)技术的发展背景,通过分析ALD的基本工艺,并与传统薄膜制备工艺进行了对比研究,介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势。着重列举ALD在减反膜、紫外截止膜、折射率可调的薄膜、抗激光损伤薄膜及复杂结构光子晶体等方面的应用。同时指出了目前ALD工艺在光学薄膜应用中存在的主要问题,并对ALD未来的发展进行了展望。 展开更多
关键词 原子层沉积 光学薄膜 前驱体 光子晶体
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平面行星夹具均匀性修正挡板设计方法研究 被引量：12
14
作者 方明 郑伟军 +3 位作者 吴明 范瑞瑛 易葵 范正修 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期286-289,共4页
众多光学系统对其关键环节大尺寸多层光学薄膜提出了越来越复杂的光谱要求,相应地对各个单层膜的厚度容差要求越来越严格。在整个基底表面,每一层都需要沉积得相当均匀。因为,任何单层的非均匀性将增加最终的膜厚误差。随着平面行星夹... 众多光学系统对其关键环节大尺寸多层光学薄膜提出了越来越复杂的光谱要求,相应地对各个单层膜的厚度容差要求越来越严格。在整个基底表面,每一层都需要沉积得相当均匀。因为,任何单层的非均匀性将增加最终的膜厚误差。随着平面行星夹具广泛地应用于大尺寸光学薄膜制备,必须实现对行星夹具的均匀性有效控制。本文建立了平面行星夹具薄膜沉积无量纲模型,通过对夹具上各点的运动轨迹分析,提出了停留概率修正法,获得的理论均匀性与实验结果吻合。用此法设计出单片修正挡板将夹具560 mm范围内的不均匀性从4%改进到6‰。 展开更多
关键词 光学薄膜 平面行星夹具 修正挡板设计 停留概率修正法
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激光量热法测量光学薄膜微弱吸收 被引量：12
15
作者 李斌成 熊胜明 +1 位作者 Holger Blaschke Detlev Ristau 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期823-826,共4页
按照国际标准ISO 11551研制了用于测量光学薄膜微弱吸收的激光量热装置。典型情况下吸收测量灵敏度优于10-6,测量误差估计为10%左右。在1064 nm波长测量1 mm厚石英玻璃基板的绝对吸收为3.4×10-6,测量灵敏度达到1.5×10-7。测... 按照国际标准ISO 11551研制了用于测量光学薄膜微弱吸收的激光量热装置。典型情况下吸收测量灵敏度优于10-6,测量误差估计为10%左右。在1064 nm波长测量1 mm厚石英玻璃基板的绝对吸收为3.4×10-6,测量灵敏度达到1.5×10-7。测量了不同膜层设计、不同使用角度、不同镀膜技术镀制的全介质高反膜样品;使用离子束溅射(IBS)技术镀制的Ta2O5/SiO2多层0°反射镜的吸收仅为1.08×10-5,而使用离子束辅助沉积(IAD)技术镀制的HfO2/SiO2多层45°反射镜的吸收测量值为6.83×10-5。 展开更多
关键词 测量技术 微弱吸收 激光量热法 光学薄膜
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太阳能光电-光热综合利用系统 被引量：10
16
作者 魏葳 骆仲泱 +4 位作者 赵佳飞 寿春晖 张艳梅 武婷婷 倪明江 《上海节能》 2010年第5期12-16,共5页
太阳能储量巨大,分布广泛,清洁安全。但太阳能光伏发电存在成本较高和能量转化效率较低的问题。因此本文提出太阳能光电-光热综合利用方式。通过聚光降低成本,通过分频综合利用提高系统效率。在分频利用技术上,寻找具有特定吸收发射特... 太阳能储量巨大,分布广泛,清洁安全。但太阳能光伏发电存在成本较高和能量转化效率较低的问题。因此本文提出太阳能光电-光热综合利用方式。通过聚光降低成本,通过分频综合利用提高系统效率。在分频利用技术上,寻找具有特定吸收发射特性的纳米流体流经光伏电池上层,吸收光伏电池不能加以利用的部分能量。此外,利用光学薄膜,将光伏电池可利用的波段反射给光伏电池,其余部分的能量透射用以其他形式的能量转换。文章对两种太阳能光电-光热综合利用系统进行了设计和探索。结果表明,通过光电-光热综合利用能够对太阳能利用效率实现有效提升。 展开更多
关键词 太阳能 分频 纳米流体 光学薄膜 综合利用
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1064nm与532nm激光对电子束蒸发制备的HfO2／SiO2高反膜损伤比较 被引量：10
17
作者 李大伟 陶春先 +2 位作者 李笑 赵元安 邵建达 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1457-1460,共4页
研究了电子束蒸发制备的HfO2/SiO2高反膜在1 064 nm与532 nm激光辐照下的损伤行为。基频激光辐照时损伤形貌主要为节瘤缺陷喷溅留下的锥形坑,当能量密度较大时出现分层剥落;二倍频激光损伤主要是由电子缺陷引起的平底坑,辐照脉冲能量密... 研究了电子束蒸发制备的HfO2/SiO2高反膜在1 064 nm与532 nm激光辐照下的损伤行为。基频激光辐照时损伤形貌主要为节瘤缺陷喷溅留下的锥形坑,当能量密度较大时出现分层剥落;二倍频激光损伤主要是由电子缺陷引起的平底坑,辐照脉冲能量密度稍高时也会产生吸收性缺陷引起的锥形坑,但电子缺陷的损伤阈值更低;随着辐照脉冲能量密度的增大分层剥落逐渐成为主要的损伤形貌。分析认为,辐照激光波长的变化,引起吸收机制的变化从而导致了损伤阈值及损伤机制的差异。 展开更多
关键词 光学薄膜 激光损伤 电子束蒸发 电子缺陷
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纳米颗粒改性PMMA光波导薄膜的研究 被引量：7
18
作者 肖磊 周建华 +1 位作者 王静 王劲文 《光电子技术与信息》 2005年第1期19-22,共4页
主要研究纳米颗粒改性甲基丙烯酸甲酯预聚物(PMMA)的工艺,以及光波导薄膜的制备技术和性能。具体采用机械混合方式进行纳米颗粒掺杂和旋涂技术,旨在提高PMMA光波导层的热稳定性和折射率,并优化实验工艺条件使光波导薄膜达到透明、均匀... 主要研究纳米颗粒改性甲基丙烯酸甲酯预聚物(PMMA)的工艺,以及光波导薄膜的制备技术和性能。具体采用机械混合方式进行纳米颗粒掺杂和旋涂技术,旨在提高PMMA光波导层的热稳定性和折射率,并优化实验工艺条件使光波导薄膜达到透明、均匀、致密及无气孔的要求,从而降低其光传输损耗。实验在玻璃和硅基片上制备了纳米改性的PMMA光波导薄膜,并利用各种先进的测试手段对其进行了性能测量和表征分析,结果表明:纳米SiO2颗粒能够大幅度地提高PMMA光波导层的热稳定性和玻璃化转变温度Tg,而纳米TiO2颗粒使其折射率也有显著的提高。 展开更多
关键词 聚甲基丙烯酸甲脂 光波导薄膜 纳米改性
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二极管泵浦固体激光器使用的光学薄膜 被引量：7
19
作者 洪冬梅 朱震 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 1999年第6期372-374,共3页
二极管泵浦固体激光器结合了激光二极管和固体激光器的诸多优点，研究人员对之兴趣不断增长，相应地向薄膜领域提出了挑战。文中分析了如何通过对称膜系的等效折射率概念消除干涉截止滤光片的通带波纹。利用截止滤光片倾斜使用时的偏振... 二极管泵浦固体激光器结合了激光二极管和固体激光器的诸多优点，研究人员对之兴趣不断增长，相应地向薄膜领域提出了挑战。文中分析了如何通过对称膜系的等效折射率概念消除干涉截止滤光片的通带波纹。利用截止滤光片倾斜使用时的偏振效应，制造了单块式准平面环形激光器的输出镜。制作的膜片用于激光器。 展开更多
关键词 二极管泵浦 固体激光器 光学薄膜
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宽束离子源的均匀性分析 被引量：4
20
作者 刘洪祥 张云洞 +1 位作者 李凌辉 熊胜明 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期59-61,共3页
在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中,离子源是其中最关键的单元技术之一。通 过测试宽束离子源束流密度的空间分布,研究了影响离子束均匀性分布的两个主要因素:加速电压和E/B。结果表明,随着加速电压的增加,离子束束流密度的分... 在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中,离子源是其中最关键的单元技术之一。通 过测试宽束离子源束流密度的空间分布,研究了影响离子束均匀性分布的两个主要因素:加速电压和E/B。结果表明,随着加速电压的增加,离子束束流密度的分布趋向均匀;而E/B对离子束均匀性的影响不大。 展开更多
关键词 离子束溅射 离子源 均匀性 光学薄膜
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