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深亚微米nMOSFET器件的总剂量电离辐射效应 被引量:3
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作者 孟志琴 郝跃 +3 位作者 唐瑜 马晓华 朱志炜 李永坤 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期241-245,共5页
选取了采用0.25μm工艺的两组器件进行研究.通过对这两种器件关态泄漏电流、跨导和栅电流等电学参数进行分析,得出当器件发展到深亚微米阶段时,影响其辐射效应的主要原因是场氧化层中的陷阱电荷.并对相关机理进行了分析和仿真验证.
关键词 X射线 辐射 总剂量效应 关态泄漏电流
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Method of simulation of low dose rate for total dose effect in 0.18 μm CMOS technology
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作者 何宝平 姚志斌 +4 位作者 郭红霞 罗尹虹 张凤祁 王圆明 张科营 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期76-79,共4页
Three methods for simulating low dose rate irradiation are presented and experimentally verified by using 0.18 μm CMOS transistors.The results show that it is the best way to use a series of high dose rate irradiatio... Three methods for simulating low dose rate irradiation are presented and experimentally verified by using 0.18 μm CMOS transistors.The results show that it is the best way to use a series of high dose rate irradiations, with 100 °C annealing steps in-between irradiation steps, to simulate a continuous low dose rate irradiation.This approach can reduce the low dose rate testing time by as much as a factor of 45 with respect to the actual 0.5 rad(Si)/s dose rate irradiation.The procedure also provides detailed information on the behavior of the test devices in a low dose rate environment. 展开更多
关键词 off-state leakage current total dose effect low dose rate simulation method
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总剂量辐射下几何尺寸对8型栅NMOS的影响研究 被引量:1
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作者 吴昱操 罗萍 蒋鹏凯 《微电子学》 CAS 北大核心 2021年第3期429-433,共5页
对不同几何尺寸的8型栅NMOS,在受到总剂量辐射影响时其电参数特性的损伤或退化特性,以及与常规结构抗总剂量能力或参数损伤变化比较的异同进行了研究。研究结果表明,栅源重叠宽度和宽长比对8型栅关态漏电流的影响相比直栅可以忽略不计;... 对不同几何尺寸的8型栅NMOS,在受到总剂量辐射影响时其电参数特性的损伤或退化特性,以及与常规结构抗总剂量能力或参数损伤变化比较的异同进行了研究。研究结果表明,栅源重叠宽度和宽长比对8型栅关态漏电流的影响相比直栅可以忽略不计;任一几何尺寸8型栅NMOS饱和漏极电流在不同辐射总剂量下相比直栅有着良好的稳定性。同时,小宽长比8型栅饱和漏极电流的差异来源于栅源重叠宽度的不同,大宽长比8型栅饱和漏极电流的大小不再受到栅源重叠宽度的影响;180nm工艺下不同几何尺寸8型的栅阈值电压在测试中都稳定在0.41V,显著优于直栅。 展开更多
关键词 8型栅NMOS 辐射总剂量 几何尺寸 关态漏电流 饱和漏极电流 阈值电压
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高k纳米MOSFET的关态泄漏电流的研究 被引量:1
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作者 杨建红 李桂芳 刘辉兰 《微纳电子技术》 CAS 2007年第12期1043-1047,共5页
对纳米MOSFET关断态的栅电流、漏电流和衬底电流进行了模拟,指出边缘直接隧穿电流(IEDT)远远大于传统的栅诱导泄漏电流(IGIDL)、亚阈区泄漏电流(ISUB)及带间隧穿电流(IBTBT)。对50 nm和90 nm MOSFET器件的Id-Vg特性进行了比较,发现在高... 对纳米MOSFET关断态的栅电流、漏电流和衬底电流进行了模拟,指出边缘直接隧穿电流(IEDT)远远大于传统的栅诱导泄漏电流(IGIDL)、亚阈区泄漏电流(ISUB)及带间隧穿电流(IBTBT)。对50 nm和90 nm MOSFET器件的Id-Vg特性进行了比较,发现在高Vdd下,关态泄漏电流(Ioff)随IEDT的增加而不断增大,并且器件尺寸越小,Ioff越大。高k栅介质能够减小IEDT,进而减小了Ioff,其中HfSiON、HfLaO可以使边缘隧穿电流减小2~5个数量级且边缘诱导的势垒降低(FIBL)效应很小。但当栅介质的k>25以后,由于FIBL效应,关态泄漏电流反而增大。 展开更多
关键词 关态泄漏电流 边缘直接隧穿电流 边缘诱导的势垒降低 高K栅介质
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一种抑制关态漏电流和提高亮度稳定性的OLED微显示像素电路研究
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作者 陈鑫 袁培 +3 位作者 徐云龙 杨春城 张健 李传南 《半导体光电》 CAS 北大核心 2015年第6期993-998,共6页
OLED微显示像素驱动电路中,由于较小的存储电容和开关MOS管关态漏电流的影响,导致其存储电压和亮度不稳定。通过分析影响关态漏电流的主要因素,提出了一种多开关管串联和存储电容拆分相结合的办法以减小关态漏电流,并设计了一种含有两... OLED微显示像素驱动电路中,由于较小的存储电容和开关MOS管关态漏电流的影响,导致其存储电压和亮度不稳定。通过分析影响关态漏电流的主要因素,提出了一种多开关管串联和存储电容拆分相结合的办法以减小关态漏电流,并设计了一种含有两个开关管和两个存储电容的像素电路,该电路将关态漏电流由大于3pA减小为0.4pA,存储电压和亮度稳定性得到了很大的改善,小亮度时一帧的亮度变化仅为0.18cd/m^2。电路可实现的最小OLED驱动电流为25pA,像素亮度范围为1.82~217.37cd/m^2。 展开更多
关键词 微显示 OLED 像素驱动电路 关态漏电流 存储电压
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