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氧气氛环境对无氢类金刚石膜红外性能的影响
被引量：
1
1
作者
陆益敏
黄国俊
+4 位作者
王赛
米朝伟
蔡晓红
田方涛
程勇
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第4期182-187,共6页
采用飞秒激光制备了无氢氧掺杂类金刚石膜,研究了环境气压对膜层红外性能的影响,并从掺杂含量、原子键、晶态结构等微观特性方面分析了膜层在含氧条件下的演变。研究发现:氧气氛环境可以提高无氢类金刚石膜中金刚石相的含量,有效降低类...
采用飞秒激光制备了无氢氧掺杂类金刚石膜,研究了环境气压对膜层红外性能的影响,并从掺杂含量、原子键、晶态结构等微观特性方面分析了膜层在含氧条件下的演变。研究发现:氧气氛环境可以提高无氢类金刚石膜中金刚石相的含量,有效降低类金刚石膜的红外吸收,从而增强其红外透射性能;膜层折射率可以由气氛环境自由调控,为多层光学膜的设计提供了匹配手段;氧气氛环境未改变类金刚石膜的非晶结构,不会妨害其红外性能。提出了碳膜在含氧条件下的原子键重组模型,丰富了氧掺杂类金刚石膜的研究,为提升类金刚石膜对红外窗口的增透保护提供了理论分析和实践依据。
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关键词
薄膜
脉冲激光沉积
无氢类金刚石膜
氧气氛环境
红外性能
原子键
原文传递
SiC靶功率密度对无氢掺硅类金刚石薄膜摩擦学性能的影响
被引量：
1
2
作者
张贺勇
代明江
+3 位作者
胡芳
韦春贝
林松盛
侯惠君
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期37-42,共6页
采用直流磁控溅射石墨靶、中频磁控溅射碳化硅靶以及离子源辅助的复合沉积技术,制备出膜层质量优异、摩擦因数和磨损率较低的具有不同Si含量的无氢掺硅类金刚石薄膜。使用XPS、拉曼光谱仪、台阶仪、纳米硬度计、SEM、EDS以及球盘式摩擦...
采用直流磁控溅射石墨靶、中频磁控溅射碳化硅靶以及离子源辅助的复合沉积技术,制备出膜层质量优异、摩擦因数和磨损率较低的具有不同Si含量的无氢掺硅类金刚石薄膜。使用XPS、拉曼光谱仪、台阶仪、纳米硬度计、SEM、EDS以及球盘式摩擦磨损试验仪测试并表征薄膜的微观结构、力学性能和摩擦学性能。研究表明,该技术能够成功制备出无氢掺硅类金刚石薄膜;随着SiC靶功率密度的增加,薄膜中Si的含量和sp3键的含量逐渐增加,其纳米硬度和弹性模量先增大后减小,摩擦因数由0.277降低至0.066,但其磨损率从6.29×10-11 mm3/Nm增加至1.45×10-9 mm3/Nm;当SiC靶功率密度为1.37W/cm2时,薄膜的纳米硬度与弹性模量分别达到最大值16.82GPa和250.2GPa。
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关键词
磁控溅射
无氢掺硅类金刚石薄膜
摩擦因数
磨损率
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职称材料
题名
氧气氛环境对无氢类金刚石膜红外性能的影响
被引量：
1
1
作者
陆益敏
黄国俊
王赛
米朝伟
蔡晓红
田方涛
程勇
机构
陆军工程大学光电技术研究所
陆军工程大学装备底盘系
出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第4期182-187,共6页
基金
军内科研项目(012016017000B12503)。
文摘
采用飞秒激光制备了无氢氧掺杂类金刚石膜,研究了环境气压对膜层红外性能的影响,并从掺杂含量、原子键、晶态结构等微观特性方面分析了膜层在含氧条件下的演变。研究发现:氧气氛环境可以提高无氢类金刚石膜中金刚石相的含量,有效降低类金刚石膜的红外吸收,从而增强其红外透射性能;膜层折射率可以由气氛环境自由调控,为多层光学膜的设计提供了匹配手段;氧气氛环境未改变类金刚石膜的非晶结构,不会妨害其红外性能。提出了碳膜在含氧条件下的原子键重组模型,丰富了氧掺杂类金刚石膜的研究,为提升类金刚石膜对红外窗口的增透保护提供了理论分析和实践依据。
关键词
薄膜
脉冲激光沉积
无氢类金刚石膜
氧气氛环境
红外性能
原子键
Keywords
thin
film
s
pulse
laser
deposition
non
-
hydrogenated
diamond
-
like
carbon
film
oxygen
atmosphere
infrared
property
atomic
bond
分类号
TN304.2 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
SiC靶功率密度对无氢掺硅类金刚石薄膜摩擦学性能的影响
被引量：
1
2
作者
张贺勇
代明江
胡芳
韦春贝
林松盛
侯惠君
机构
华南理工大学材料科学与工程学院
广州有色金属研究院新材料研究所
出处
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期37-42,共6页
基金
广东省国际合作项目(2011B050400007)
文摘
采用直流磁控溅射石墨靶、中频磁控溅射碳化硅靶以及离子源辅助的复合沉积技术,制备出膜层质量优异、摩擦因数和磨损率较低的具有不同Si含量的无氢掺硅类金刚石薄膜。使用XPS、拉曼光谱仪、台阶仪、纳米硬度计、SEM、EDS以及球盘式摩擦磨损试验仪测试并表征薄膜的微观结构、力学性能和摩擦学性能。研究表明,该技术能够成功制备出无氢掺硅类金刚石薄膜;随着SiC靶功率密度的增加,薄膜中Si的含量和sp3键的含量逐渐增加,其纳米硬度和弹性模量先增大后减小,摩擦因数由0.277降低至0.066,但其磨损率从6.29×10-11 mm3/Nm增加至1.45×10-9 mm3/Nm;当SiC靶功率密度为1.37W/cm2时,薄膜的纳米硬度与弹性模量分别达到最大值16.82GPa和250.2GPa。
关键词
磁控溅射
无氢掺硅类金刚石薄膜
摩擦因数
磨损率
Keywords
magnetron
sputtering
non
-
hydrogenated
silicon
doped
diamond
-
like
carbon
film
friction
coefficient
wear
rate
分类号
TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]
TG115.58 [金属学及工艺—金属学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
氧气氛环境对无氢类金刚石膜红外性能的影响
陆益敏
黄国俊
王赛
米朝伟
蔡晓红
田方涛
程勇
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020
1
原文传递
2
SiC靶功率密度对无氢掺硅类金刚石薄膜摩擦学性能的影响
张贺勇
代明江
胡芳
韦春贝
林松盛
侯惠君
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
1
下载PDF
职称材料
已选择
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参考文献
引证文献
统计分析
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