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Cu/Ni和Cu/Nb纳米多层膜的应变率敏感性 被引量:4
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作者 王尧 朱晓莹 +1 位作者 刘贵民 杜军 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第2期183-191,共9页
为研究调制周期和界面结构对纳米多层膜应变率敏感性的影响,采用电子束蒸发镀膜技术在Si基片上制备了不同周期(Λ=4 nm,12 nm,20 nm)的Cu/Ni纳米多层膜,采用磁控溅射技术在Si基片上制备了不同周期(Λ=5 nm,10 nm,20 nm)的Cu/Nb纳米多层... 为研究调制周期和界面结构对纳米多层膜应变率敏感性的影响,采用电子束蒸发镀膜技术在Si基片上制备了不同周期(Λ=4 nm,12 nm,20 nm)的Cu/Ni纳米多层膜,采用磁控溅射技术在Si基片上制备了不同周期(Λ=5 nm,10 nm,20 nm)的Cu/Nb纳米多层膜。在真空条件下,对Cu/Ni纳米多层膜进行了温度分别为200和400℃、时间4 h的退火处理,对Cu/Nb纳米多层膜进行了温度分别为200、400和600℃,时间为4 h的退火处理。采用XRD和TEM表征了Cu/Ni和Cu/Nb纳米多层膜的结构,采用纳米压痕仪获取了不同加载应变率(0.005、0.01、0.05和0.2 s^(-1))下纳米多层膜的硬度。结果表明,应变率敏感性受到界面结构和晶粒尺寸的影响,非共格界面密度提高以及晶粒尺寸变大均可导致应变率敏感性下降。当周期变大时,Cu/Ni纳米多层膜的非共格界面密度提高,晶粒尺寸变大,应变率敏感性指数m减小;当周期变大时,Cu/Nb纳米多层膜的非共格界面密度下降,晶粒尺寸变大,m基本不变。随退火温度上升,Cu/Ni和Cu/Nb纳米多层膜应变率敏感性大体上呈现下降趋势,这是由退火过程中非共格界面密度上升和晶粒长大共同引起的。 展开更多
关键词 纳米多层膜 周期 界面结构 应变率敏感性
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单槽脉冲电沉积制备铜/镍纳米多层膜及其性能 被引量:1
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作者 朱宏喜 顾超 任凤章 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2012年第10期7-10,共4页
用单槽脉冲电沉积法在含CuSO4、NiSO4和Na3C6H5O7的镀液中制备了不同调制波长的Cu/Ni纳米多层膜,对其进行了截面形貌观察及显微硬度测量。结果表明,制备的多层膜平整,层间界清晰。其显微硬度在调制波长为100nm时出现峰值。当调制波长大... 用单槽脉冲电沉积法在含CuSO4、NiSO4和Na3C6H5O7的镀液中制备了不同调制波长的Cu/Ni纳米多层膜,对其进行了截面形貌观察及显微硬度测量。结果表明,制备的多层膜平整,层间界清晰。其显微硬度在调制波长为100nm时出现峰值。当调制波长大于100nm时,多层膜显微硬度的变化符合Hall-Petch关系;当调制波长小于100nm时,显微硬度开始下降。X射线衍射表明,膜层中存在压应力,Ni层形成了强(100)织构。 展开更多
关键词 纳米多层膜 脉冲电沉积 单槽 显微硬度 应力
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Cu/Zr纳米多层膜的力学性能及塑性变形行为
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作者 刘贵民 王尧 +1 位作者 朱晓莹 杜军 《装甲兵工程学院学报》 2016年第5期77-81,94,共6页
为研究Cu/Zr纳米多层膜的力学性能及塑性变形行为,采用磁控溅射方法制备了调制比为1,调制周期Λ=12,20,40 nm的Cu/Zr纳米多层膜,利用X射线衍射(X-Ray Diffraction,XRD)和扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscopy,SEM)对纳米多层膜... 为研究Cu/Zr纳米多层膜的力学性能及塑性变形行为,采用磁控溅射方法制备了调制比为1,调制周期Λ=12,20,40 nm的Cu/Zr纳米多层膜,利用X射线衍射(X-Ray Diffraction,XRD)和扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscopy,SEM)对纳米多层膜的晶体结构和截面形貌进行了表征,利用纳米压痕仪在0.01、0.03、0.05、0.1、0.2、0.5s-1等应变率下采用连续刚度法测量了多层膜的硬度。结果表明:不同调制周期结构的Cu/Zr纳米多层膜结晶性良好;Λ=12,20,40 nm的Cu/Zr纳米多层膜的强度(H/2.7)分别为1.90、1.83、0.80 GPa,Cu/Zr纳米多层膜的强度随调制周期的减小而增大,其塑性变形机制在调制周期减小到20 nm后由位错单层滑移机制转变为位错穿越界面运动机制;Λ=12,20,40 nm的Cu/Zr纳米多层膜的应变率敏感指数m分别为0.042、0.033、0.025,Cu/Zr纳米多层膜的应变率敏感指数随调制周期的减小而增大,这可能是由调制周期减小导致的晶粒尺寸减小和非共格界面密度的增大引起的。 展开更多
关键词 Cu/Zr纳米多层膜 调制周期 强度 应变率敏感性 变形机制
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The effects of modulation period,modulation ratio,and deposition temperature on microstructure and mechanical properties of ZrB_2/W multilayers 被引量:4
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作者 LIU MengYin,TAN Ming,LIU GuangQing,WANG HaiYuan,XUE FengYing,DENG XiangYun & LI DeJun College of Physics and Electronic Information Science,Tianjin Normal University,Tianjin 300387,China 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2010年第9期2350-2354,共5页
Monolithic ZrB2,W coatings and ZrB2/W multilayers with different modulation periods and modulation ratios were synthesized by ion beam assisted deposition at room temperature and 400°C.X-ray diffraction (XRD),sca... Monolithic ZrB2,W coatings and ZrB2/W multilayers with different modulation periods and modulation ratios were synthesized by ion beam assisted deposition at room temperature and 400°C.X-ray diffraction (XRD),scanning electron microscopy (SEM),surface profiler,and nanoindention were employed to investigate the influences of the deposition temperature and the modulation period on the growth,textures,interface structure,and mechanical properties of the multilayers.The results indicated that the multilayer with modulation period of 13 nm synthesized at room temperature possessed a higher hardness of 23.8 GPa.Deposition temperature gave a significant contribution to mechanical property enhancement.The 400°C-deposition temperature led to a maximum hardness and elastic modulus value of 32.1 and 399.1 GPa for ZrB2/W multilayer with a modulation period of 6.7 nm.Its critical load increased to 42.8 mN and residual stress decreased to -0.7 GPa.A higher deposition temperature can cause an increase in interfacial atomic mixture and mobility of surface species,which induceds an increase in areal atomic density and dislocation pinning.These results as well as small nanoscale grain sizes should be related to hardness increase. 展开更多
关键词 ion beam assisted DEPOSITION nanoscale multilayerS MODULATION period MODULATION ratio DEPOSITION temperature hardness
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调制周期与调制比对Cu/Nb纳米多层膜结构和性能的影响
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作者 郭中正 闫万珺 +3 位作者 张殿喜 杨秀凡 蒋宪邦 周丹彤 《当代化工研究》 CAS 2024年第6期45-48,共4页
为研究调制周期λ和调制比η对Cu/Nb纳米多层膜结构和性能的影响,用磁控溅射沉积Cu/Nb多层膜,λ=30~150 nm,η=1、1.5及2。多层膜微观结构与形貌用X射线衍射仪、扫描电镜及原子力显微镜分析,性能用微力拉伸仪、纳米压痕仪及四探针仪测... 为研究调制周期λ和调制比η对Cu/Nb纳米多层膜结构和性能的影响,用磁控溅射沉积Cu/Nb多层膜,λ=30~150 nm,η=1、1.5及2。多层膜微观结构与形貌用X射线衍射仪、扫描电镜及原子力显微镜分析,性能用微力拉伸仪、纳米压痕仪及四探针仪测试。结果表明,Cu/Nb多层膜的结构和性能受控于λ和η。Cu和Nb层分别呈Cu(111)和Nb(110)织构,且均为纳米晶结构。在Cu/Nb界面处,Cu扩散进入Nb层。表面Cu层颗粒尺寸随Cu层增厚而增大。随λ或η减小,Cu/Nb多层膜的屈服强度σ_(0.2)、显微硬度H和电阻率ρ都呈增加趋势。而裂纹萌生临界应变ε_(c)则与1/λ或η呈正相关。 展开更多
关键词 Cu/Nb纳米多层膜 调制周期 调制比 屈服强度 显微硬度 电阻率
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不同退火温度下Cu/Ni纳米多层膜的结构与力学性能稳定性 被引量:3
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作者 王尧 朱晓莹 +1 位作者 杜军 刘贵民 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期14-19,共6页
为研究不同退火温度下Cu/Ni纳米多层膜的结构与力学性能稳定性,采用电子束蒸发镀膜技术在Si(100)基片上沉积不同周期(Λ为4,12,20 nm)的Cu/Ni多层膜,在真空条件下对试样进行温度为200℃和400℃,时间为4 h的退火处理,分析了沉积态(未退火... 为研究不同退火温度下Cu/Ni纳米多层膜的结构与力学性能稳定性,采用电子束蒸发镀膜技术在Si(100)基片上沉积不同周期(Λ为4,12,20 nm)的Cu/Ni多层膜,在真空条件下对试样进行温度为200℃和400℃,时间为4 h的退火处理,分析了沉积态(未退火态)与退火态Cu/Ni多层膜纳米压痕硬度、弹性模量与微结构的演变,讨论了不同调制周期Cu/Ni多层膜的热稳定性。结果表明:200℃下4 h退火后,Λ为4,12和20 nm的Cu/Ni多层膜均保持了硬度与弹性模量的热稳定性。而在400℃下4 h退火后,Λ为12 nm的Cu/Ni多层膜出现了硬度和弹性模量的软化现象,硬度由6.21 GPa降低至5.83 GPa,弹性模量由190 GPa降低至182 GPa。这是由于共格界面被破坏,界面共格应力对Cu/Ni多层膜力学性能贡献作用削弱导致的。 展开更多
关键词 Cu/Ni纳米多层膜 力学性能 界面结构 热稳定性 退火温度
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纳米磁性多层膜电磁介观特性 被引量:4
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作者 刘存业 李建 +1 位作者 匡安龙 倪刚 《西南师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2003年第6期902-906,共5页
利用多靶离子束真空溅射技术制备平面结构为"铁磁金属/非磁性绝缘体/铁磁金属"的纳米多层膜样品.在室温下研究了样品的电磁输运特性.测量了样品的磁致电阻、垂直和平行样品膜面方向的电磁输运特性.研究结果显示了纳米金属磁... 利用多靶离子束真空溅射技术制备平面结构为"铁磁金属/非磁性绝缘体/铁磁金属"的纳米多层膜样品.在室温下研究了样品的电磁输运特性.测量了样品的磁致电阻、垂直和平行样品膜面方向的电磁输运特性.研究结果显示了纳米金属磁性多层膜材料的微结构空间位置相关性和电磁输运过程奇异的非定域特性. 展开更多
关键词 纳米磁性多层膜 电磁输运 介观特性 巨磁电阻效应 磁性隧道结
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