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缓冲层对p-a-Si/n-c-Si异质结太阳电池影响的计算分析 被引量:5
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作者 白晓宇 郭群超 +3 位作者 柳琴 庞红杰 张滢清 李红波 《中国科学:物理学、力学、天文学》 CSCD 北大核心 2013年第8期923-929,共7页
采用AFORS-HET和MATLAB从理论上研究了缓冲层对HIT电池性能的影响机理.首先对P层进行优化,发现高掺杂、薄厚度的P层有利于电池效率的提升.缓冲层主要的影响有两方面,一是界面态密度,二是与晶体硅形成能带失配.模拟发现,界面态增大导致... 采用AFORS-HET和MATLAB从理论上研究了缓冲层对HIT电池性能的影响机理.首先对P层进行优化,发现高掺杂、薄厚度的P层有利于电池效率的提升.缓冲层主要的影响有两方面,一是界面态密度,二是与晶体硅形成能带失配.模拟发现,界面态增大导致复合中心密度上升,开路电压下降;能带失配的增大可以降低界面处少子浓度,起到场钝化效果,提高开路电压.短路电流和填充因子受到界面处的影响较小,与P层的工艺条件有比较大的关系. 展开更多
关键词 p-a-si n-c-si异质太阳电池 缓冲层 界面态密度 能带失配
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