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掩膜成像法在LiNbO_3:Fe晶体制作缺陷态光子晶格 被引量：1
1
作者 张宝光 杨立森 +3 位作者 陈宝东 崔俊杰 付存宝 何冬梅 《信息记录材料》 2008年第5期16-20,共5页
在用掩膜法制作光子晶格的实验中,我们分别在薄、厚LiNbO3:Fe晶体中成功地制作了带有缺陷的(2+1)维光折变光子晶格且比较了二者的异同,并结合透镜成像的相关理论找出了造成这些异同的因素,又对这些因素做了详细的分析。这对更好的利用... 在用掩膜法制作光子晶格的实验中,我们分别在薄、厚LiNbO3:Fe晶体中成功地制作了带有缺陷的(2+1)维光折变光子晶格且比较了二者的异同,并结合透镜成像的相关理论找出了造成这些异同的因素,又对这些因素做了详细的分析。这对更好的利用掩膜成像法制作光折变光子晶格有一定的指导意义。 展开更多
关键词 掩膜成像法 LINBO3:FE晶体 缺陷 光子晶格 分立度
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