-
题名掩模移动技术中的边框效应及其应用
被引量：6
- 1
-
-
作者
曾红军
陈波
郭履容
邱传凯
杜春雷
-
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
-
出处
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
2000年第5期19-22,共4页
-
基金
中国科学院应用研究与发展重点项目
-
文摘
掩模移动技术是一种通过移动掩模调制曝光量的连续面形微光学制作技术 ,其工作的局限性在于该技术对所制元件的对称性要求高 ,因此限制了制作复杂面形的功能。本文从分析掩模移动过程中的边框效应入手 ,阐明了消除这一效应负面影响的办法 ,并利用它来降低掩模移动技术的对称性要求 ,在实验中制作出了面形复杂的连续浮雕微光学元件。
-
关键词
掩膜移动技术
微光学元件
边框效应
复杂面形
-
Keywords
mask moving technique
Microoptical element
mask-edge effect
-
分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
-
-
题名掩模移动曝光系统精密定位工件台研制
被引量：1
- 2
-
-
作者
佟军民
胡松
余国彬
-
机构
中国科学院光电技术研究所
-
出处
《微细加工技术》
EI
2007年第3期18-22,共5页
-
基金
国家自然科学基金资助项目(60606012)
中国科学院仪器改造项目资助
-
文摘
为满足掩模移动曝光技术制作微光学元件的要求,研制了接近式曝光系统中使用的x-y二维精密移动工件台。该工件台由x-y二维整体手动工作台子系统、x-y二维掩模精密移动台子系统和承片台子系统组成。利用一个方导轨和两对V形导轨组成的滚动导轨副实现了x向和y向精密移动的导向功能;利用驱动器、电机、光栅、细分卡、单片机构成的闭环控制系统保证了x和y向的运动精度;在气浮的作用下,利用掩模版靠平基片实现了调平功能;利用差动螺旋机构和1∶2杠杆缩小机构实现了间隙的调整功能。经检测,工件台在8 mm的工作行程范围内,沿x,y方向移动的直线性分别达到了4″和3″,两个方向的正交性达到了10″,运动定位精度达到了1.2μm。
-
关键词
掩模移动曝光技术
接近式曝光
x-y二维精密工件台
定位精度
-
Keywords
mask moving technique
proximity exposure
x-y 2 dimension precision stage
positioning accuracy
-
分类号
TN305.6
[电子电信—物理电子学]
-
-
题名工件台移动直线性对掩模移动曝光的影响
被引量：3
- 3
-
-
作者
佟军民
胡松
董小春
严伟
余国彬
-
机构
中国科学院光电技术研究所
中国科学院研究生院
河南许昌职业技术学院
-
出处
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第11期55-60,共6页
-
基金
国家自然科学基金资助项目(60606012)
中科院仪器改造项目
-
文摘
针对工件台制造和装配过程中产生的移动直线性误差,建立了掩模沿曲线移动时曝光量与曲线和移动距离之间关系的数学模型。通过对实测工件台移动直线性误差规律的分析,确定了近似的移动曲线函数。利用MATLAB进行数值模拟的方法,分别模拟了沿理想直线移动、不同幅值和不同移动距离的曲线移动时,所获得元件的面形,并分析了面形误差的影响因素和"竹节"误差产生的原因。最后得出结论:通过控制移动距离为一倍的掩模图形重复周期,并减小工件台移动直线性误差,对控制元件的面形精度和"竹节"误差最为有利。
-
关键词
掩模移动曝光技术
曲线移动
“竹节”形误差
面形精度
-
Keywords
mask moving exposure technique
curve movement
＇bamboo＇ shape variation error
surface shape accuracy
-
分类号
TN206
[电子电信—物理电子学]
-
-
题名基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计
被引量：1
- 4
-
-
作者
佟军民
胡松
-
机构
许昌职业技术学院
中国科学院光电技术研究所
-
出处
《制造技术与机床》
北大核心
2015年第8期47-50,共4页
-
基金
国家自然科学基金(61376110
61274108)
-
文摘
提出了一种用于接近式光刻机的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作。由一次预对准和一次精对准实现基片的安装定位,先后通过两次预对准和两次精对准实现掩模的两次安装定位。CCD图象对准系统由两支完全相同且相互独立的光路组成,各光路分别照明掩模和基片上的标记后,清晰地呈现在CCD象面上,采集卡将CCD采集到的数据送入计算机,进行算法处理,给出X、Y、θ的偏差,从而调节掩模和基片的相对位置。该方案可以获得优于1μm的对准精度,工作更为方便、易升级为自动对准。
-
关键词
掩模移动曝光技术
接近式光刻机
对准系统
对准精度
-
Keywords
mask moving exposure technique
proximity aligner
alignment system
alignment accuracy
-
分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
-
