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题名极紫外光刻掩模相位型缺陷的形貌重建方法
被引量：5
- 1
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作者
成维
李思坤
王向朝
张子南
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机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室
中国科学院大学材料与光电研究中心
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出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第10期14-28,共15页
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基金
国家科技重大专项(2012ZX02702001-006)
上海市自然科学基金(17ZR1434100)。
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文摘
提出了一种极紫外光刻掩模多层膜相位型缺陷的形貌重建方法。采用表面与底部形貌参数表征相位型缺陷的三维形貌;采用原子力显微镜测量缺陷表面形貌参数;采用傅里叶叠层成像技术重建含缺陷的空白掩模空间像复振幅;采用卷积神经网络与多层感知器两种深度学习模型构建空间像振幅/相位与缺陷底部形貌参数之间的关系,建立缺陷底部形貌参数重建模型;利用训练后模型从空间像的振幅与相位信息中重建出缺陷底部形貌参数。仿真结果表明,训练后模型可准确重建相位型缺陷的底部形貌参数。凸起型与凹陷型缺陷的底部半峰全宽重建结果的均方根误差分别为0.51 nm和0.43 nm,底部高度重建结果的均方根误差分别为3.35 nm和1.73 nm。由于采用空间像作为信息载体,本方法不受沉积条件的影响。
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关键词
衍射
极紫外光刻
掩模缺陷
相位恢复
深度学习
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Keywords
diffraction
extreme ultraviolet lithography
mask defect
phase retrieval
deep learning
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分类号
O436.1
[机械工程—光学工程]
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题名精密光掩模的激光修整技术
被引量：1
- 2
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作者
司卫华
董晓文
顾文琪
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机构
中国科学院电工研究所
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出处
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第4期269-271,共3页
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文摘
通过对掩模缺陷和激光特点的分析,提出用激光气化法修整掩模缺陷中多余铬缺陷的技术,对LMT型激光修版机进行了改进。给出了改造和更新的技术要点,在该机上进行了工艺实验,并对结果进行了分析,提出了改进激光修版技术的有关措施。实验表明:当物镜与待修模板之间的距离为1.604mm,激光泵浦灯管的预燃电压为300V时,可以达到最佳的修版效果。
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关键词
掩模缺陷
光掩模
激光修整
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Keywords
mask defect
light mask
laser repair
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分类号
TN249
[电子电信—物理电子学]
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题名Array Mask Defect检测方法研究
- 3
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作者
韩志慧
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机构
天马显示科技有限公司
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出处
《电子测试》
2021年第15期111-112,130,共3页
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文摘
本文在现有资源基础上从AOI检测原理出发,结合量产检测的实际情况,分析在线产品的灰阶特性的影响因素发现Mask Defect检出率低的主要原因有以下三点:一是正常产品刻蚀后再做PHT图形,无衬底,开口区透光性高,很多Defect特征减弱,隐藏于信号噪声中;二是多道Mask图形叠加后,TFT图形复杂,灰阶图上信号噪音的区域会变宽,当算法进行降噪滤波处理时容易将真实缺陷过滤;三是AOI 3um检测的图形清晰度不够,导致较多缺陷未被识别出来而造成漏检。由此,针对Mask Defect检测在量产监控中存在的问题,提出了SiO衬底,单层曝光,1um AOI精度检测。该方案大大提升了Mask Defect的在线检出率,对Mask的日常监控管理具有重大意义。
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关键词
AOI
mask
defect
TFT
SiO衬底
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Keywords
AOI
mask defect
TFT
The SiO substrate
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分类号
TN247
[电子电信—物理电子学]
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题名极紫外光刻掩模缺陷检测与补偿技术研究
被引量：2
- 4
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作者
成维
李思坤
张子南
王向朝
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机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室
中国科学院大学材料与光电研究中心
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出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022年第9期367-380,共14页
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文摘
极紫外(EUV)光刻机是推动集成电路向先进技术节点发展的核心装备,已应用于7 nm及以下技术节点芯片的量产。高成像质量是EUV光刻机应用于芯片量产的基础。作为成像系统的重要组成部分,掩模是影响EUV光刻成像质量的重要因素。EUV掩模的制造过程中会产生以多层膜缺陷为代表的掩模缺陷,显著降低光刻成像质量。对EUV掩模缺陷的位置、尺寸和形貌等进行准确检测,并根据检测结果进行缺陷补偿是确保光刻成像质量的重要手段。为了有效补偿掩模缺陷对光刻成像质量的影响,需要建立快速准确的含缺陷掩模模型。本文结合本团队在掩模缺陷检测和补偿技术领域的研究工作,介绍了典型的含缺陷掩模仿真方法,总结了现有掩模缺陷检测技术,介绍了掩模缺陷补偿技术的研究进展。
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关键词
光刻
极紫外光刻
掩模缺陷检测
掩模缺陷补偿
掩模模型
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Keywords
lithography
extreme ultraviolet lithography
mask defect inspection
mask defect compensation
mask model
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名极紫外光刻掩模相位型缺陷检测方法
被引量：2
- 5
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作者
成维
李思坤
王向朝
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机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室
中国科学院大学材料与光电研究中心
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出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023年第1期91-101,共11页
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基金
国家自然科学基金(U22A2070)
国家科技重大专项(2017ZX02101004-002)。
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文摘
提出了一种基于空间像的极紫外光刻掩模相位型缺陷检测方法,用于检测多层膜相位型缺陷的类型、位置和表面形貌。缺陷的类型、位置和表面形貌均会影响含缺陷掩模的空间像的分布。因此,采用深度学习模型构建含缺陷掩模的空间像与待测缺陷信息之间的映射,利用训练后的模型可从含缺陷掩模的空间像中获取待测缺陷信息。采用卷积神经网络(CNN)模型构建含缺陷空白掩模的空间像和缺陷类型与位置之间的关系,建立用于缺陷类型和位置检测的CNN模型。在获取缺陷的类型与位置后,基于测得的缺陷位置对空间像进行截取,利用截取后的空间像的频谱信息和多层感知机模型获取缺陷表面形貌参数。仿真结果表明,所提方法可对多层膜相位型缺陷的类型、位置和表面形貌参数进行准确检测。
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关键词
测量
光刻
极紫外光刻
掩模缺陷检测
空间像
深度学习
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Keywords
measurement
lithography
extreme ultraviolet lithography
mask defect inspection
aerial image
deep learning
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名一种医用口罩缺陷的机器视觉在线检测系统
- 6
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作者
胡小兵
朱莉香
高天
郑力新
吴哲
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机构
华侨大学数学科学学院
华侨大学工学院
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出处
《工业控制计算机》
2023年第5期51-53,57,共4页
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基金
国家自然科学基金(11701197)
华侨大学2022年大学生创新创业训练计划项目(202210385032)。
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文摘
针对口罩生产中口罩片短小、鼻梁条缺失或过短、耳绳缺失、断裂或短小、油污、破洞等8类缺陷,设计一种基于机器视觉的口罩缺陷在线检测系统。硬件方面,设计出的高亮均匀的多光源光学系统具备颜色自适应性,且能直接照射出口罩内层污点,极大降低了后期检测算法的复杂度;算法方面,首先对几何校正和定位后的口罩图像采用改进自适应Canny算子进行边缘检测,再根据各缺陷特征完成口罩片、鼻梁条和耳绳缺陷检测,并提出了一种基于Blob分析的油污、破洞缺陷检测算法。实验结果表明,算法检测精度达0.3 mm,平均检出率为99.1%,口罩检测速度高达120 pcs/min,可满足医用口罩实时在线生产需求。
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关键词
机器视觉
口罩缺陷检测
几何校正
CANNY边缘检测
BLOB分析
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Keywords
machine vision
mask defect detection
geometric correction
Canny edge detection
Blob analysis
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分类号
TS941.724
[轻工技术与工程—服装设计与工程]
TP391.41
[自动化与计算机技术—计算机应用技术]
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