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外加磁场对磁控溅射过程及薄膜物性的影响
被引量：
1
1
作者
朱炎
狄国庆
赵登涛
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2001年第4期384-388,共5页
通过在放电空间中引入垂直基片方向有梯度的磁场,使得利用普通的平面磁控溅射技术可以方便地制备磁性薄膜。与此同时,磁性薄膜的许多物理性能发生了变化。这种变化还出现于非磁性靶的情况中。本工作对有、无磁场时溅射的过程与结果作了...
通过在放电空间中引入垂直基片方向有梯度的磁场,使得利用普通的平面磁控溅射技术可以方便地制备磁性薄膜。与此同时,磁性薄膜的许多物理性能发生了变化。这种变化还出现于非磁性靶的情况中。本工作对有、无磁场时溅射的过程与结果作了比较,包括自偏压值,薄膜结晶状况,薄膜磁性能的变化等等。通过比较认为,带电粒子在放电空间中的特殊磁场位形中的运动是变化的根本原因。
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关键词
梯度
磁场
磁控溅射
薄膜
物理性能
原文传递
题名
外加磁场对磁控溅射过程及薄膜物性的影响
被引量：
1
1
作者
朱炎
狄国庆
赵登涛
机构
苏州大学物理系薄膜材料实验室
出处
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2001年第4期384-388,共5页
文摘
通过在放电空间中引入垂直基片方向有梯度的磁场,使得利用普通的平面磁控溅射技术可以方便地制备磁性薄膜。与此同时,磁性薄膜的许多物理性能发生了变化。这种变化还出现于非磁性靶的情况中。本工作对有、无磁场时溅射的过程与结果作了比较,包括自偏压值,薄膜结晶状况,薄膜磁性能的变化等等。通过比较认为,带电粒子在放电空间中的特殊磁场位形中的运动是变化的根本原因。
关键词
梯度
磁场
磁控溅射
薄膜
物理性能
Keywords
gradient
magnetic
field
magnetr
on
sputtering
thin
films
分类号
O484 [理学—固体物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
外加磁场对磁控溅射过程及薄膜物性的影响
朱炎
狄国庆
赵登涛
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2001
1
原文传递
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