期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
P^+πN^+器件压磁电效应的研究 被引量:6
1
作者 温殿忠 邱成军 庄玉光 《传感技术学报》 CAS CSCD 1996年第2期10-15,共6页
用载流子连续方程研究了一个侧面设置高复合区的双注入P^+πN^+器件的压磁电效应,给出了伏安特性与压力和磁场强度的函数关系.结果表明,当四个P^+πN^+器件在“基区”两两垂直组成惠斯登电桥,制造在C型硅杯的硅膜片上,不但具有较高的压... 用载流子连续方程研究了一个侧面设置高复合区的双注入P^+πN^+器件的压磁电效应,给出了伏安特性与压力和磁场强度的函数关系.结果表明,当四个P^+πN^+器件在“基区”两两垂直组成惠斯登电桥,制造在C型硅杯的硅膜片上,不但具有较高的压力灵敏度和磁灵敏度,而且可以用来测量磁场的旋转角度.据此,提出了一种新的具有良好工作稳定性及较高灵敏度的压/磁敏感器件. 展开更多
关键词 P^+πN^+器件 压磁电效应 敏感器件
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部