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题名表面缺陷对取向硅钢磁畴形态的影响
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作者
黎先浩
马双印
赵鹏飞
于海彬
王德坤
龙毅
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机构
首钢智新迁安电磁材料有限公司产品研发中心
北京科技大学材料科学与工程学院
首钢智新迁安电磁材料有限公司技术一贯部
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出处
《钢铁研究学报》
CAS
CSCD
北大核心
2023年第4期462-470,共9页
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文摘
取向硅钢的磁畴形态与其损耗密切相关,研究其内部的磁畴结构对于理解铁损的产生具有重要意义。利用粉纹法观察了带有涂层、激光刻痕处理以及存在表面缺陷的硅钢片磁畴。结果表明,施加较小的垂直磁场更容易观察硅钢的原始磁畴形态,有利于显示清晰的磁畴图像和晶界;如果硅钢片表面存在冲裁小孔,原有的180°畴在小孔附近会变为迷宫畴,且附加应力和退磁场作用会使小孔周围磁畴细化,使用微磁学模拟的方法定性验证了这一变化;如果硅钢表面存在划痕,划痕两端的180°畴会变为迷宫畴,随着划痕方向的不同,磁畴形态也不同。最后,比较了圆盘剪裁切与线切割后硅钢片边缘的磁畴形态,讨论了其磁畴形态不同的原因。
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关键词
取向硅钢
Bitter粉纹法
磁畴变化
表面缺陷
微磁学模拟
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Keywords
grain-oriented silicon steel
Bitter powder pattern method
magnetic domain change
surface defect
micromagnetic simulation
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分类号
TG113.22
[金属学及工艺—物理冶金]
TG142.77
[金属学及工艺—金属学]
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