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低温沉积ITO透明导电膜的研究
被引量：
3
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作者
沈玫
纪建超
贺会权
《材料工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第z1期17-19,共3页
通过探讨半导体氧化物ITO膜的透光和导电机理,用反应性直流磁控溅射的镀膜工艺,在有机玻璃上低温镀制(ITO)膜,研究ITO膜溅射工艺参数与透光和导电性能的关系,实现了在低温下镀制(ITO)膜的技术,其透光率≥80%以上,表面电阻≤30Ω/□。
关键词
透明导电膜
ITO膜
磁控溅射
下载PDF
职称材料
题名
低温沉积ITO透明导电膜的研究
被引量：
3
1
作者
沈玫
纪建超
贺会权
机构
北京航空材料研究院
出处
《材料工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第z1期17-19,共3页
文摘
通过探讨半导体氧化物ITO膜的透光和导电机理,用反应性直流磁控溅射的镀膜工艺,在有机玻璃上低温镀制(ITO)膜,研究ITO膜溅射工艺参数与透光和导电性能的关系,实现了在低温下镀制(ITO)膜的技术,其透光率≥80%以上,表面电阻≤30Ω/□。
关键词
透明导电膜
ITO膜
磁控溅射
Keywords
transparent
conductive
coatings
ITO
film
magnetic
control
sputting
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
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作者
出处
发文年
被引量
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1
低温沉积ITO透明导电膜的研究
沈玫
纪建超
贺会权
《材料工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
3
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