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193nm光刻曝光系统的现状及发展 被引量:21
1
作者 巩岩 张巍 《中国光学与应用光学》 2008年第1期25-35,共11页
投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节,曝光系统的工艺水平已成为衡量微电子制造技术的重要标志。重点介绍了目前193 nm光刻设备曝光系统的发展现状和趋势,以及为提高曝光质量所采用的相关分辨率增强技术;通过分析曝光系统的构... 投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节,曝光系统的工艺水平已成为衡量微电子制造技术的重要标志。重点介绍了目前193 nm光刻设备曝光系统的发展现状和趋势,以及为提高曝光质量所采用的相关分辨率增强技术;通过分析曝光系统的构成和其中的关键技术,探讨了国内研制相关曝光设备所面临的挑战。 展开更多
关键词 投影光刻 曝光系统 分辨率增强 照明 投影物镜 综述
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浸没式光刻技术的研究进展 被引量:16
2
作者 袁琼雁 王向朝 +1 位作者 施伟杰 李小平 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2006年第8期13-20,共8页
浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径,可以将193nm光刻延伸到45nm节点以下。阐述了浸没式光刻技术的原理,讨论了液体浸没带来的问题,最后介绍了浸没式光刻机的研发进展。
关键词 光刻 浸没式光刻 投影物镜 浸没液体 偏振光照明 气泡
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光学光刻技术现状及发展趋势 被引量:7
3
作者 童志义 《电子工业专用设备》 2001年第1期1-9,共9页
综述了光学光刻目前的主流技术— 2 48nm曝光技术现状 ,介绍了折射式透镜和反射折射式透镜结构及性能。结合 1 93nm技术的开发 ,比较了 2种结构的优势。最后给出了光刻设备的市场概况并讨论了光学光刻技术的发展趋势。
关键词 光学光刻 折射系统 反射折射系统 曝光
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光刻机照明系统光瞳特性参数的评估算法 被引量:12
4
作者 甘雨 张方 +3 位作者 朱思羽 龚爽 黄惠杰 杨宝喜 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第3期198-204,共7页
针对光刻机照明系统的实际应用需求,提出了一种光瞳特性参数的评估算法。该算法通过对光瞳强度分布进行转换,可以在不同照明模式下同时计算光瞳椭圆度、X方向光瞳极平衡性、Y方向光瞳极平衡性和四象限光瞳极平衡性等多种光瞳特性参数。... 针对光刻机照明系统的实际应用需求,提出了一种光瞳特性参数的评估算法。该算法通过对光瞳强度分布进行转换,可以在不同照明模式下同时计算光瞳椭圆度、X方向光瞳极平衡性、Y方向光瞳极平衡性和四象限光瞳极平衡性等多种光瞳特性参数。以一种28 nm节点扫描光刻机照明系统的中继镜组为实例,对其在传统照明模式下进行光瞳特性参数计算分析。仿真结果显示,全视场光瞳椭圆度最大值为0.95%,X方向和Y方向光瞳极平衡性最大值分别为0.18%和0.19%,四象限光瞳极平衡性最大值为0.66%,均满足28 nm节点扫描光刻机实际指标需求。所提算法在光学设计阶段能快速评估光瞳性能。 展开更多
关键词 测量 光刻 光学设计 中继镜组 光瞳特性参数
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基于柔度矩阵法的整体式XY光学微调整机构研究 被引量:10
5
作者 张德福 赵磊 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第2期269-275,共7页
研究一种用于光刻投影物镜光学元件XY微调整的整体式柔性冗余并联机构。首先,给出了机构组成和工作原理。然后,根据圆弧形单轴柔性铰链参数介绍了柔度矩阵法。接着,基于该方法推导了机构各个调整臂支链的柔度、机构的输出柔度、输入柔... 研究一种用于光刻投影物镜光学元件XY微调整的整体式柔性冗余并联机构。首先,给出了机构组成和工作原理。然后,根据圆弧形单轴柔性铰链参数介绍了柔度矩阵法。接着,基于该方法推导了机构各个调整臂支链的柔度、机构的输出柔度、输入柔度和位移输入输出比。最后,对机构进行了有限元分析、理论计算和实验验证。实验结果证明:和有限元法相比,理论计算得到的机构输出柔度、输入柔度、输入输出比偏差分别为16.272%、28.326%、31.126%。和测量实验结果相比,理论计算得到的输入输出比偏差为15.212%。偏差主要由柔度矩阵法中的柔度系数并非绝对精确,并且忽略了铰链之间连杆的柔度导致的。在±50 N的驱动力范围内,机构满足调整行程±50μm的要求,镜框上的最大应力小于材料的屈服极限,调节引入的Tip/Tilt耦合误差小于0.5″。该柔性XY调整机构满足光刻投影物镜光学元件偏心补偿要求。 展开更多
关键词 光刻投影物镜 微调整机构 光机结构 波像差
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驻波透镜聚焦原子束制作纳米图形研究 被引量:5
6
作者 陈元培 陈旭南 +1 位作者 李展 陈献忠 《微纳电子技术》 CAS 2003年第7期546-549,556,共5页
介绍了将激光驻波聚焦原子束技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计。研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性及像差 ,数值结果显示原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为 10nm左右 ,可以实现纳米级超微细图形的制作。
关键词 驻波透镜 聚焦原子束 纳米图形 原子光学 原子光刻 透镜像差
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Fabrication of opaque and transparent 3D structures using a single material via twophoton polymerisation lithography 被引量:1
7
作者 Parvathi Nair Suseela Nair Chengfeng Pan +5 位作者 Hao Wang Deepshikha Arora Qing Yang Steve Wu M.A.Rahman Jinghua Teng Joel K.W.Yang 《Light(Advanced Manufacturing)》 2023年第3期243-250,共8页
Two-photon polymerisation lithography enables the three-dimensional(3D)-printing of high-resolution micron-and nano-scale structures.Structures that are 3D-printed using proprietary resins are transparent and are suit... Two-photon polymerisation lithography enables the three-dimensional(3D)-printing of high-resolution micron-and nano-scale structures.Structures that are 3D-printed using proprietary resins are transparent and are suitable as optical components.However,achieving a mix of opaque and transparent structures in a single optical component is challenging and requires multiple material systems or the manual introduction of ink after fabrication.In this study,we investigated an overexposure printing process for laser decomposition,which typically produces uncontrollable and random‘burnt’structures.Specifically,we present a printing strategy to control this decomposition process,realising the on-demand printing of opaque or transparent structures in a single lithographic step using a single resin.Using this method,opaque structures can be printed with a minimum feature size of approximately 10μm,which exhibit<15%transmittance at a thickness of approximately 30μm.We applied this process to print an opaque aperture integrated with a transparent lens to demonstrate an improved imaging contrast. 展开更多
关键词 3D printing Two-photon polymerisation lithography Optically opaque Laser decomposition lens imaging contrast
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光刻机镜头的结构设计与装配 被引量:3
8
作者 李连进 《天津理工学院学报》 2004年第1期24-27,共4页
介绍工作波长为193nm的投影光刻物镜的研制,对结构型式的确定和材料的选择以及加工装配工艺进行充分考虑,提出投影光刻物镜结构设计和装配方法.本文研制的镜头在光刻机中获得了广泛应用.
关键词 光刻机镜头 结构设计 光刻物镜 装配方法 投影式光刻机
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数字灰度投影光刻技术 被引量:4
9
作者 赵立新 严伟 +6 位作者 王建 胡松 唐小萍 王肇志 王淑蓉 张正荣 张雨东 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第3期181-185,共5页
随着MEMS和MOEMS技术的发展和器件制作对低成本、灵活、高效的需求,数字灰度无掩模光刻技术已成为人们研究的热点。介绍了一种基于数字微镜器件(DMD)的无掩模数字灰度投影光刻技术,结合电寻址数字微镜阵列的工作方式,分析了DMD的灰度调... 随着MEMS和MOEMS技术的发展和器件制作对低成本、灵活、高效的需求,数字灰度无掩模光刻技术已成为人们研究的热点。介绍了一种基于数字微镜器件(DMD)的无掩模数字灰度投影光刻技术,结合电寻址数字微镜阵列的工作方式,分析了DMD的灰度调制机理和投影成像特性;阐述了DMD微镜结构与投影系统的倍数、数值孔径的关系;设计了投影光刻系统,并进行了分辨力和三维面形的曝光实验。实验结果表明,数字灰度投影光刻技术灵活、方便,尤其在三维浮雕微结构的制作方面,可实现光刻灰度的数字化调制,表面粗糙度可达0.1μm。 展开更多
关键词 数字灰度光刻 无掩模光刻 投影物镜 数字微镜器件 拼接
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基于双线空间像线宽不对称度的彗差测量技术 被引量:4
10
作者 王帆 王向朝 +2 位作者 马明英 张冬青 施伟杰 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期673-678,共6页
在高数值孔径、低工艺因子的光刻技术中,投影物镜彗差对光刻质量的影响变得越来越突出,因而需要一种快速、高精度的彗差原位测量技术。为此提出了一种新的基于双线空间像线宽不对称度的彗差测量技术,利用国际上公认的半导体行业光刻仿... 在高数值孔径、低工艺因子的光刻技术中,投影物镜彗差对光刻质量的影响变得越来越突出,因而需要一种快速、高精度的彗差原位测量技术。为此提出了一种新的基于双线空间像线宽不对称度的彗差测量技术,利用国际上公认的半导体行业光刻仿真软件PROLITH对该方法的测量精度进行了仿真分析。结果表明,与基于硅片曝光的彗差测量方法相比,基于空间像的彗差测量技术速度上的优势十分明显。其测量精度优于1.4 nm,较国际前沿的多照明设置空间像测量技术(TAMIS)提高30%以上,测量速度提高1/3左右。在ASML公司的PAS5500型步进扫描投影光刻机上,多次测量了投影物镜彗差,结果表明,该技术测量重复精度优于1.2 nm,能实现高精度的彗差原位测量。 展开更多
关键词 光学测量 光刻 像差 投影物镜 成像质量 泽尼克系数
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光刻机照明系统中继镜组的光场均匀性优化设计 被引量:3
11
作者 龚爽 杨宝喜 黄惠杰 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第3期290-299,共10页
提出了一种快速计算光学系统像面照度均匀性的算法,通过近似算法计算系统数值孔径,并利用出射光瞳数值孔径表征像面照度。利用该算法计算光场不均匀性,将其作为自动优化过程中的评价函数之一,优化设计光刻机照明系统中继镜组。通过Light... 提出了一种快速计算光学系统像面照度均匀性的算法,通过近似算法计算系统数值孔径,并利用出射光瞳数值孔径表征像面照度。利用该算法计算光场不均匀性,将其作为自动优化过程中的评价函数之一,优化设计光刻机照明系统中继镜组。通过Light tools软件对设计的中继镜组进行仿真验证,结果表明不同相干因子照明下掩膜面上的光场不均匀性均小于0.5%。通过实验测试了设计的中继镜组的积分均匀性,结果表明各相干因子下,光场不均匀性小于1.21%,能够满足掩膜面上光场不均匀性的指标需求(<1.5%),验证了该快速评估算法可有效应用于中继镜组优化设计中。 展开更多
关键词 光刻 照明系统 光学设计 中继镜组 光场均匀性
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基于无掩模光刻的生物透镜阵列组装方法
12
作者 寮欣 于海波 +4 位作者 葛治星 张天尧 仲亚 刘斌 刘连庆 《中国科学:技术科学》 EI CSCD 北大核心 2023年第4期536-546,共11页
在微纳光学领域,透明的介质微球和活体生物细胞都因具备光学成像能力,而受到研究者越来越多的关注.然而,由于其尺寸和生物活性限制,很难将它们直接集成到光学系统上.基于光镊、声镊等多物理场方法虽然可以操作微球和细胞用于成像,但是... 在微纳光学领域,透明的介质微球和活体生物细胞都因具备光学成像能力,而受到研究者越来越多的关注.然而,由于其尺寸和生物活性限制,很难将它们直接集成到光学系统上.基于光镊、声镊等多物理场方法虽然可以操作微球和细胞用于成像,但是对成像样本往往有特殊的要求.为此,本文提出了基于无掩模光刻的微球/细胞透镜阵列模块制备方法.利用自然沉降原理,分别将SiO_(2)微球和MCF-7细胞组装在水凝胶微孔阵列模块上形成微透镜阵列.实验和仿真结果表明,嵌入在水凝胶中的SiO_(2)微球阵列仍然保持其超分辨成像能力, MCF-7细胞可实现图像的放大.由于是阵列化成像,因此能够获得比单个微球或细胞更大的观测视野.本文所提出的模块化成像方法,有望应用于生物光子器件及在体光学成像领域. 展开更多
关键词 生物透镜 无掩模光刻 细胞透镜 光学成像 超分辨
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多层压电驱动器在光刻机中的应用 被引量:2
13
作者 杜刚 康晓旭 +1 位作者 曾江涛 曾涛 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2022年第9期393-402,共10页
多层压电驱动器具有体积小、响应快、刚度大、位移精度高、驱动力大等优点,在光刻机的开发中有广泛的应用。简要介绍了多层压电驱动器的基本结构与特征,列举了多层压电驱动器在光刻机投影物镜的高精度微调、掩模台的定位及光刻机的主动... 多层压电驱动器具有体积小、响应快、刚度大、位移精度高、驱动力大等优点,在光刻机的开发中有广泛的应用。简要介绍了多层压电驱动器的基本结构与特征,列举了多层压电驱动器在光刻机投影物镜的高精度微调、掩模台的定位及光刻机的主动减振等方面的典型应用。最后,对多层压电驱动器的发展方向进行了展望。 展开更多
关键词 多层压电驱动器 光刻机 投影物镜 主动减振
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一种新型PCB数字光刻投影成像技术 被引量:3
14
作者 刘志涛 周金运 +2 位作者 刘丽霞 郭华 邝健 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2015年第4期161-166,共6页
为了满足微米量级印刷电路板(PCB)光刻的需求,提出了一种新型PCB数字光刻投影成像技术。利用ZEMAX光学设计软件设计并优化了双高斯结构型光刻投影物镜。该物镜具有双远心结构,可以避免数字微反射镜(DMD)偏转产生离焦,分辨率可达13.68 mm... 为了满足微米量级印刷电路板(PCB)光刻的需求,提出了一种新型PCB数字光刻投影成像技术。利用ZEMAX光学设计软件设计并优化了双高斯结构型光刻投影物镜。该物镜具有双远心结构,可以避免数字微反射镜(DMD)偏转产生离焦,分辨率可达13.68 mm,数值孔径NA=0.045,焦深为200 mm,严格控制像面畸变量小于0.03%。采用DMD多光束倾斜扫描技术,将DMD旋转一定的角度,利用曝光点的位置与光斑重叠积分能量的多少,形成更小的像素尺寸,提高了网格精度。基于该投影成像技术进行了光刻实验,实验结果证实了该投影成像技术的可行性,通过控制网格精度既能实现整数像素以外的线宽又能提高图像的分辨率和光刻效率。 展开更多
关键词 光学设计 光刻 镜头设计 数字微反射镜 倾斜扫描 成像系统
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膜系引入偏振像差对投影光刻物镜设计的影响与改进 被引量:3
15
作者 尚红波 刘春来 +1 位作者 张巍 陈华男 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第1期338-345,共8页
为了实现高成像要求,投影光刻物镜在设计时需要考虑膜层偏振效应的影响,并进行相应的分析和评价。首先介绍了基于琼斯矩阵的偏振像差理论,然后以一个数值孔径(NA)为0.75的投影光刻物镜为例,设计了相应膜系,系统分析了膜层引入的偏振像差... 为了实现高成像要求,投影光刻物镜在设计时需要考虑膜层偏振效应的影响,并进行相应的分析和评价。首先介绍了基于琼斯矩阵的偏振像差理论,然后以一个数值孔径(NA)为0.75的投影光刻物镜为例,设计了相应膜系,系统分析了膜层引入的偏振像差,并在设计时对膜层引入的离焦项和球差项进行了间隔优化补偿,补偿前后标量波像差和质心畸变分别从68.92 nm和3.76 nm改善为1.08 nm和0.38 nm,偶极照明模式下90 nm密集线条对比度从0.082提高为0.876,在此基础上,提出在设计时根据不同表面的入射角分布情况,采用组合膜系,同时控制P光和S光的振幅和相位分离,减小膜系引入的延迟和二次衰减等偏振像差,使得线条对比度提高了1.1%。 展开更多
关键词 光学制造 投影光刻物镜 膜系 偏振像差 对比度
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数字光刻缩微投影系统物镜的设计 被引量:3
16
作者 刘海勇 周金运 +3 位作者 雷亮 刘丽霞 刘志涛 郭华 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2013年第7期57-62,共6页
针对高精度数字光刻的缩微光学投影系统,提出并设计了一种适用于0.7XGA型数字微反射镜(DMD)的6片式数字光刻缩微投影物镜。通过优化和拼接三片式物镜结构,得到数值孔径NA=0.1,放大倍率为-0.2558,分辨力达3.5μm,不受DMD栅格效应影响且... 针对高精度数字光刻的缩微光学投影系统,提出并设计了一种适用于0.7XGA型数字微反射镜(DMD)的6片式数字光刻缩微投影物镜。通过优化和拼接三片式物镜结构,得到数值孔径NA=0.1,放大倍率为-0.2558,分辨力达3.5μm,不受DMD栅格效应影响且达到衍射极限的缩微物镜。经过Zemax软件模拟得到其全视场光程差小于λ/5,145cycles/mm处的调制传递函数(MTF)大于0.58,充分说明该缩微物镜已经达到光刻物镜设计要求。利用Monte Carlo分析方法,模拟加工装配了100组镜头,设定空间频率为145cycles/mm时,90%的镜头FMTF>0.55,验证了加工装配实际可行。 展开更多
关键词 数字光刻 缩微物镜 数字微反射镜 光学设计
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光刻物镜偏心调节机构抑制耦合误差设计 被引量:3
17
作者 张德福 李显凌 +1 位作者 东立剑 孙振 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第9期29-33,共5页
为了找出耦合误差产生的根源,探讨了柔性偏心机构设计方法.首先,给出了机构组成和工作原理;然后,基于柔度矩阵法对机构建模,分别推导了桥式位移放大机构、导向机构、连接机构的柔度;最后,综合得到机构的整体柔度.分析结果表明柔度矩阵... 为了找出耦合误差产生的根源,探讨了柔性偏心机构设计方法.首先,给出了机构组成和工作原理;然后,基于柔度矩阵法对机构建模,分别推导了桥式位移放大机构、导向机构、连接机构的柔度;最后,综合得到机构的整体柔度.分析结果表明柔度矩阵法得到的输出柔度理论值和有限元法得到的结果误差为8.126%,机构的一阶固有频率为73.78Hz.在40N的驱动力范围内,机构可以实现66.466μm的行程,透镜和机构上的最大应力分别为0.0711 MPa和235.22 MPa,Y/Z/RX/RY/RZ耦合误差和X向行程的比分别为0.0543%、0.0082%、1.218×10-8rad/μm、1.870×10-7rad/μm、6.073×10-7rad/μm.调节后镜片面形PV值优于24nm,RMS值优于5nm,并且主要为像散.通过合理的柔度设计,机构接近完全解耦,揭示了不合理的机构刚度是产生调节耦合误差的根源. 展开更多
关键词 耦合误差 光刻 物镜 偏心调节机构 柔度矩阵法
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深亚微米激光光刻研究 被引量:1
18
作者 路敦武 黄惠杰 +2 位作者 鄢雨 杜龙龙 高瑞昌 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第8期1169-1172,共4页
报道用远紫外准分子激光进行亚微米光刻的实验结果。以波长为248.3nm的KrF准分子激光为光源,以光管均匀器为主构成照明系统,采用带有平行平板为像差校正板的11折反射式投影光刻物镜,在两种光刻胶上分别获得了0.6μm... 报道用远紫外准分子激光进行亚微米光刻的实验结果。以波长为248.3nm的KrF准分子激光为光源,以光管均匀器为主构成照明系统,采用带有平行平板为像差校正板的11折反射式投影光刻物镜,在两种光刻胶上分别获得了0.6μm和0. 展开更多
关键词 准分子激光 激光光刻 亚微米 光刻物镜 半导体
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光刻投影物镜整体式XY微调整机构设计 被引量:2
19
作者 张德福 孙振 《电子测量与仪器学报》 CSCD 2014年第7期787-794,共8页
针对光刻投影物镜XY补偿镜调整量程小、调整精度高的特点,设计了一种XY微位移并联调整机构。首先,分析圆弧形铰链切口厚度、切口半径和高度对柔度系数的影响,以指导铰链结构设计。接着,基于柔度矩阵法分析了机构各个支链的柔度和整体柔... 针对光刻投影物镜XY补偿镜调整量程小、调整精度高的特点,设计了一种XY微位移并联调整机构。首先,分析圆弧形铰链切口厚度、切口半径和高度对柔度系数的影响,以指导铰链结构设计。接着,基于柔度矩阵法分析了机构各个支链的柔度和整体柔度。最后,计算了机构的输出耦合误差,并将柔度矩阵法得到的理论值和有限元法得到的结果对比。结果表明:机构在±50 N的驱动力范围内,可以实现运动行程±40.997μm,X向调整引入的Y向耦合误差小1%,机构完全解耦。由柔度矩阵法和有限元法得到的机构柔度分别为2.537μm/N和2.934μm/N,偏差为13.531%。50 N调整力作用后的镜片上表面面形未去除power前PV值为2.684 nm,RMS为0.524 nm;去除power后PV值为2.433 Nm,RMS值为0.476 nm,并且面形主要为像散。该机构满足设计指标,符合光刻投影物镜高精度XY补偿要求。 展开更多
关键词 光刻投影物镜 位移缩小机构 完全解耦 波像差
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中频面形误差对离轴照明系统光场性能的影响 被引量:2
20
作者 龚爽 杨宝喜 黄惠杰 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第12期156-163,共8页
研究离轴照明的系统中,光学表面环带中频面形误差对于照明光场均匀性和半影宽度的影响。推导了二极照明下中频面形误差的峰谷(PV)值和系统的相干因子对线扩展函数(LSF)分布的解析关系,并通过数值计算分析了二极照明下,中频面形误差对照... 研究离轴照明的系统中,光学表面环带中频面形误差对于照明光场均匀性和半影宽度的影响。推导了二极照明下中频面形误差的峰谷(PV)值和系统的相干因子对线扩展函数(LSF)分布的解析关系,并通过数值计算分析了二极照明下,中频面形误差对照明镜组线扩展函数的影响。阐述了中频面形误差降低照明光场的均匀性和增大半影宽度的理论机制。利用实际制造的面形数据结合商用光学设计软件对光刻机照明系统中照明镜组进行仿真。结果表明,这种仿真方法可以快速评估中频面形误差对照明光场和半影宽度的影响,在设计阶段使用实际制造的面形对系统进行仿真,为光学设计和光学加工公差分配提供了理论依据。 展开更多
关键词 测量 光刻 光学加工 中频面形误差 中继镜组 光场
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