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题名光刻机投影物镜的像差原位检测新技术
被引量：5
- 1
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作者
张冬青
王向朝
施伟杰
王帆
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机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室
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出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第5期679-684,共6页
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文摘
提出了一种新的光刻机投影物镜像差原位检测(AMF)技术。详细分析了该技术利用特殊测试标记检测投影物镜球差、像散、彗差的基本原理,论述了该技术利用对准位置坐标计算像差引起的成像位置偏移量的方法。实验结果表明AMF技术可实现球差、彗差、像散等像差参量的精确测量。AMF技术考虑了光刻胶等工艺因素对像差引起的成像位置偏移量的影响,有效避免了目前基于硅片曝光方式的彗差原位检测技术对离焦量、像面倾斜等像质参量限制的依赖。
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关键词
信息光学
像差
投影物镜
光刻机
原位检测
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Keywords
information optics
aberration
projection lens
lithographic tool
in-situ measurement
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分类号
R778
[医药卫生—眼科]
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题名基于套刻误差测试标记的彗差检测技术
被引量：4
- 2
-
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作者
马明英
王向朝
王帆
施伟杰
张冬青
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机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室
-
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第7期1037-1042,共6页
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基金
国家863计划(2002AA4Z3000)资助课题
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文摘
为了满足光刻机投影物镜彗差测量精度的要求,提出一种基于套刻误差测试标记的彗差检测技术,分析了彗差对套刻误差测试标记空间像的影响,详细叙述了该技术的测量原理,并利用PROLITH光刻仿真软件对不同数值孔径与部分相干因子设置下套刻误差相对于彗差的灵敏度系数进行了仿真实验。结果表明,与目前国际上通常使用的投影物镜彗差检测技术相比,该技术在传统照明条件下灵敏度系数Kz7与Kz14的变化范围分别增加了27.5%和34.3%,而在环形照明条件下则分别增加了20.4%和22.1%,因此彗差的测量精度可提高20%以上。
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关键词
光学测量
光刻机
彗差
套刻误差
投影物镜
-
Keywords
optical measurement
lithographic tool
coma
overlay error
projection lens
-
分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名一种测量光刻机工件台方镜不平度的新方法
被引量：4
- 3
-
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作者
何乐
王向朝
马明英
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机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室
-
出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第4期519-524,共6页
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基金
国家自然科学基金(60578051)
国家863计划(2002AA4Z3000)资助项目
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文摘
提出一种新的步进扫描投影光刻机工件台方镜不平度测量方法。以方镜平移补偿量与旋转补偿量为测量目标,使用两个双频激光干涉仪分别测量工件台在x和y方向的位置和旋转量;将方镜不平度的测量按照一定的偏移量分成若干个序列,每一个序列包括对方镜有效区域的若干次往返测量;根据所有序列的测量结果计算出方镜的旋转补偿量;为每一个序列建立临时边界条件,并据此计算出每一序列所测得的方镜粗略平移补偿量;采用三次样条插值与最小二乘法建立每一个序列间的关系,以平滑连接所有测量序列得到精确的方镜平移补偿量。结果表明,该方法用于测量方镜平移补偿量,测量重复精度优于2.957 nm,测量旋转补偿量,测量重复精度优于0.102μrad。
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关键词
测量
干涉测量
不平度
方镜
工件台
光刻机
-
Keywords
measurement
interferometryl non-flatness
mirror
wafer stage
lithographic tool
-
分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
TN247
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题名一种检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法
被引量：2
- 4
-
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作者
何乐
王向朝
马明英
施伟杰
王帆
-
机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室
-
出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第8期1130-1135,共6页
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基金
国家自然科学基金(60578051)
国家863计划(2002AA4Z3000)资助项目
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文摘
提出一种精确检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法.将对准标记曝光到硅片表面并进行显影;利用光学对准系统测量曝光到硅片上的对准标记理论曝光位置与实际读取位置的偏差;由推导的位置偏差与非正交因子、坐标轴尺度比例、过程引入误差的线性模型,根据最小二乘原理计算出干涉仪测量系统的非正交性.实验结果表明,利用该方法使用同一硅片在不同旋转角下进行测量,干涉仪测量系统非正交因子的测量重复精度优于0.01μrad,坐标轴尺度比例的测量重复精度优于0.7×10-6.使用不同的硅片进行测量,非正交因子的测量再现性优于0.012μrad,坐标轴尺度比例的测量再现性优于0.6×10-6.
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关键词
测量
激光干涉仪
非正交性
光学对准
工件台
光刻机
-
Keywords
measurement
interferometer
non-orthogonality
optic alignment
wafer stage
lithographic tool
-
分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名一种新的光刻机像质参数热漂移检测技术
被引量：1
- 5
-
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作者
张冬青
王向朝
施伟杰
马明英
王帆
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机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室
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出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第12期1668-1672,共5页
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文摘
提出了一种新的光刻机像质参数热漂移原位检测技术(TDFM)。详细分析了该技术利用镜像测试标记检测投影物镜最佳焦面热漂移与放大倍率热漂移的基本原理。实验结果表明TDFM技术可同时实现最佳焦面热漂移(FFT)与放大倍率热漂移(MFT)的精确测量。与现有的放大倍率热漂移检测技术相比,该技术有效地解决了放大倍率热漂移技术中放大倍率热漂移受最佳焦面热漂移影响的问题,简化了光刻机像质参数前馈校正的测试过程,测试成本与耗时均减少50%。
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关键词
测量
最佳焦面热漂移
放大倍率热漂移
投影物镜
光刻机
原位检测
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Keywords
measurement
thermal drift of best focus
thermal drift of magnification
projection lens
lithographic tool
in-situ measurement
-
分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名一种步进扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术
被引量：1
- 6
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作者
何乐
王向朝
王帆
施伟杰
马明英
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机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室
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出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第7期1205-1210,共6页
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基金
国家自然科学基金(60578051)
国家863计划(2002AA4Z3000)资助课题
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文摘
提出一种步进扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术。在晶圆与承片台存在不同偏移量时,利用线性差分传感器在线测量晶圆上不同点的局部高度;通过建立临时边界条件,以递推法消除晶圆面形影响,并逐行计算出承片台的相对不平度;通过逐行计算的结果递推相邻行之间的高度差,并将该高度差叠加到每一行,以消除临时边界条件的限制,得到处于同一高度上的承片台不平度;将计算的结果作为初始值,根据最小二乘原理,以邻近的四个测量点作为参考,逐步逼近得到承片台的真实不平度。计算机仿真结果验证了该检测方法的正确性,计算结果逐步收敛并逼近真实值.实验结果表明,该方法的计算结果较好地表示了承片台的真实不平度,重复精度优于0.3 nm;同时该方法也可用于晶圆表面面形的测量。
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关键词
测量与计量
不平度检测
承片台
调平调焦
最小二乘
光刻机
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Keywords
measurement and metrology
non-flatness measurement
wafer chuck
leveling control
least square method
lithographic tool
-
分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名基于差分进化算法的光刻机匹配方法
被引量：9
- 7
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作者
茅言杰
李思坤
王向朝
韦亚一
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机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室
中国科学院大学材料与光电研究中心
中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心
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出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第12期280-289,共10页
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基金
国家科技重大专项(2017ZX02101004-002)
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文摘
提出一种基于差分进化算法和微反射镜阵列(MMA)光源模型的光刻机匹配方法。加入MMA光源模型,利用差分进化算法优化微反射镜光斑分布,以实现光刻机匹配。与通常用于自由照明系统的光刻机匹配方法相比,本方法能直接优化MMA参数,有效减小了在MMA产生照明光源的过程中出现的匹配误差。以一维线空掩模为匹配目标,分别对四极照明和自由照明光源进行匹配,匹配后关键尺寸误差的均方根(RMS)下降了80%以上,与基于遗传算法和粒子群优化算法相比,本方法的匹配结果更优并具有更快的收敛速度。此外,本方法还可以有效地控制生成光源的光瞳填充比例,使匹配前后光源的光瞳填充比例保持一致。
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关键词
光学设计
光学制造
光刻
光刻机匹配
光源优化
差分进化
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Keywords
optical design
optical fabrication
lithography
lithographic tool-matching
source optimization
differential evolution
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分类号
O436.1
[机械工程—光学工程]
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