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题名基于叠栅条纹的光刻对准理论分析及标定方法
被引量：5
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作者
朱江平
胡松
于军胜
唐燕
周绍林
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机构
中国科学院光电技术研究所
电子科技大学光电信息学院
中国科学院研究生院
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出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第6期26-32,共7页
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基金
国家科学自然基金(61076099)
国家863计划(2009AA03Z341)资助课题
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文摘
在线光栅用于纳米光刻对准理论的基础上,为实现光栅方向的标定和掩模硅片对准,提出一种利用相位斜率消除角位移的新方法,并给出线光栅标记及其对准原理。在对准前,掩模对准标记和硅片对准标记存在角位移,重点讨论了此种情况下叠栅条纹的特性以及与光栅物理参数的关系,并给出了相应的计算公式。基于傅里叶频域分析法,对叠栅条纹频率成分与条纹的关系做了简要分析。利用提取叠栅条纹行列方向的一维相位,通过数据拟合,得出了相位斜率与角位移的内在关系,实现了条纹方向的标定。模拟实验结果表明,该方法简单可靠,可分辨的最小角位移低于0.02°。
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关键词
傅里叶光学
光刻对准
角位移
叠栅条纹
相位斜率
线光栅标记
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Keywords
Fourier optics
photolithography alignment
angular displacement
Moiré fringe
phase slope
line grating mark
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分类号
O436.1
[机械工程—光学工程]
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